KOAXIALE MAGNETISCHE INDUKTIVITÄTEN MIT VORGEFERTIGTEN FERRITKERNEN

    公开(公告)号:DE102020122314A1

    公开(公告)日:2021-04-08

    申请号:DE102020122314

    申请日:2020-08-26

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Ausführungsbeispiele umfassen eine Induktivität, ein Verfahren zum Bilden der Induktivität und ein Halbleiter-Package. Eine Induktivität umfasst eine Mehrzahl von Plattierte-Durchkontaktierungs- (PTH-) Vias in einer Substratschicht und eine Mehrzahl von magnetischen Verbindungen mit einer Mehrzahl von Öffnungen in der Substratschicht. Die Öffnungen der magnetischen Verbindungen umgeben die PTH-Vias. Die Induktivität umfasst auch eine Isolierschicht in der Substratschicht, eine erste leitfähige Schicht über den PTH-Vias, den magnetischen Verbindungen und der Isolierschicht sowie eine zweite leitfähige Schicht unter den PTH-Vias, den magnetischen Verbindungen und der Isolierschicht. Die Isolierschicht umgibt die PTH-Vias und die magnetischen Verbindungen. Die magnetischen Verbindungen können eine Dicke aufweisen, die im Wesentlichen gleich einer Dicke der PTH-Vias ist. Die magnetischen Verbindungen können als hohlzylindrische magnetische Kerne mit magnetischen Materialien geformt sein. Die magnetischen Materialien können ferroelektrische, leitfähige oder EpoxidMaterialien umfassen. Die hohlzylindrischen magnetischen Kerne können ferroelektrische Kerne sein.

    10.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE112006003049T5

    公开(公告)日:2008-10-23

    申请号:DE112006003049

    申请日:2006-12-06

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: An embodiment of the present invention is a technique to fabricate a package substrate. The package substrate includes top substrate layers, an array capacitor, and bottom substrate layers. The top substrate layers embed micro-vias. The micro-vias have a micro-via area and provide electrical connections between the top substrate layers. The array capacitor structure is placed in contact with the micro-via area. The array capacitor structure is electrically connected to the micro-vias. The bottom substrate layers are formed on the array capacitor structure.

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