Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the mount of a substrate for processor, and an I/O configuration of the mount.SOLUTION: A high speed I/O trace is a part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate has an integrated heat spreader footprint on the die side, and the I/O trace to be coupled with an IC device provided in the integrated heat spreader footprint. The I/O trace has a pinout terminal provided on the outside of the integrated heat spreader footprint, and being coupled with an IC device provided on the outside of the integrated heat spreader footprint. The I/O trace can maintain the data flow rate from the processor within a range of 5-40 Gb/s.
Abstract:
A high-speed I/O trace is part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate includes an integrated heat spreader footprint on a die-side and the I/O trace to couple with an IC device to be disposed inside the IHS footprint. The I/O trace includes a pin-out terminal outside the IHS footprint to couple to an IC device to be disposed outside the IHS footprint. The high-speed I/O trace can sustain a data flow rate from a processor in a range from 5 gigabits per second (Gb/s) to 40 Gb/s.
Abstract:
Mikroelektronische Anordnungen und verwandte Vorrichtungen und Verfahren sind hierin offenbart. Bei einigen Ausführungsformen kann ein mikroelektronisches Bauteil zum Beispiel ein Substrat beinhalten, das eine erste Fläche und eine entgegengesetzte zweite Fläche aufweist, wobei das Substrat ein Through-Substrat-Via (TSV) beinhaltet; einen ersten Moldmaterialbereich an der ersten Fläche, wobei der erste Moldmaterialbereich ein erstes Through-Mold-Via (TMV), das leitend mit dem TSV gekoppelt ist, beinhaltet; und einen zweiten Moldmaterialbereich an der zweiten Fläche, wobei der zweite Moldmaterialbereich ein zweites TMV, das leitend mit dem TSV gekoppelt ist, beinhaltet.
Abstract:
Ultradünne hochdichte Halbleiter-Packages und Techniken zum Bilden solcher Packages sind beschrieben. Ein beispielhaftes Halbleiter-Package wird gebildet mit einem oder mehreren von: (i) Metallsäulen mit ultra-feinem Abstand (z. B. einem Abstand, der größer als oder gleich 150 µm ist etc.); (ii) einem großen Die-zu-Package-Verhältnis (z. B. einem Verhältnis, das gleich oder größer als 0,85 ist etc.); und (iii) einem Dünner-Abstand-Translations-Interposer. Ein anderes beispielhaftes Halbleiter-Package wird unter Verwendung einer Kernloses-Substrat-Technologie, Die-Rückmetallisierung und Niedrigtemperatur-Lötmittel-Technologie für Kugelgitterarray-(BGA-) Metallurgie gebildet. Andere Ausführungsbeispiele sind beschrieben.
Abstract:
Halbleitergehäuse und -Gehäuseanordnungen, die aktive Dies und externe Die-Befestigungen auf einem Siliziumwafer aufweisen, und Verfahren zur Fertigung solcher Halbleitergehäuse und -Gehäuseanordnungen sind beschrieben. Bei einem Beispiel umfasst eine Halbleitergehäuseanordnung ein Halbleitergehäuse, das einen aktiven Die aufweist, der durch einen ersten Löthöcker an einem Siliziumwafer angebracht ist. Ein zweiter Löthöcker ist auf dem Siliziumwafer lateral auswärts von dem aktiven Die, um eine Befestigung für einen externen Die bereitzustellen. Eine Epoxidschicht kann den aktiven Die umgeben und den Siliziumwafer abdecken. Ein Loch kann sich durch die Epoxidschicht über dem zweiten Löthöcker erstrecken, um den zweiten Löthöcker durch das Loch freizulegen. Dementsprechend kann ein externer Speicher-Die direkt mit dem zweiten Löthöcker auf dem Siliziumwafer durch das Loch verbunden sein.
Abstract:
A high-speed I/O trace is part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate includes an integrated heat spreader footprint on a die-side and the I/O trace to couple with an IC device to be disposed inside the IHS footprint. The I/O trace includes a pin-out terminal outside the IHS footprint to couple to an IC device to be disposed outside the IHS footprint. The high-speed I/O trace can sustain a data flow rate from a processor in a range from 5 gigabits per second (Gb/s) to 40 Gb/s.
Abstract:
Verschiedene Beispiele stellen eine Halbleiterpackung bereit. Die Halbleiterpackung umfasst ein Substrat mit einer ersten und einer zweiten, entgegengesetzt angeordneten, im Wesentlichen planen Hauptoberfläche, die sich in einer x-y-Richtung erstrecken. Die Packung umfasst ferner einen Brückenchip mit einer dritten und einer vierten, entgegengesetzt angeordneten, im Wesentlichen planen Hauptoberfläche, die sich in der x-y-Richtung erstrecken. Die dritte im Wesentlichen plane Hauptoberfläche des Brückenchips ist in direktem Kontakt mit der zweiten im Wesentlichen planen Hauptoberfläche des Substrats. Die Halbleiterpackung umfasst ferner eine Silizium-Durchkontaktierung, die sich in einer z-Richtung durch die erste im Wesentlichen plane Hauptoberfläche des Substrats und die vierte im Wesentlichen plane Hauptoberfläche des Brückenchips erstreckt. Die Halbleiterpackung umfasst ferner eine Energiequelle, die mit der Silizium-Durchkontaktierung gekoppelt ist, eine erste elektronische Komponente, die elektronisch mit dem Brückenchip gekoppelt ist, und eine zweite elektronische Komponente, die elektronisch mit dem Brückenchip gekoppelt ist. Die Halbleiterpackung umfasst außerdem eine Überformung, die die erste elektronische Vorrichtung, die zweite elektronische Vorrichtung und den Brückenchip zumindest teilweise einhaust.
Abstract:
A high-speed I/O trace is part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate includes an integrated heat spreader footprint on a die-side and the I/O trace to couple with an IC device to be disposed inside the IHS footprint. The I/O trace includes a pin-out terminal outside the IHS footprint to couple to an IC device to be disposed outside the IHS footprint. The high-speed I/O trace can sustain a data flow rate from a processor in a range from 5 gigabits per second (Gb/s) to 40 Gb/s.
Abstract:
Embodiments include semiconductor packages and methods to form the semiconductor packages. A semiconductor package includes a bridge with a hybrid layer on a high-density packaging (HDP) substrate, a plurality of dies over the bridge and the HDP substrate, and a plurality of through mold vias (TMVs) on the HDP substrate. The bridge is coupled between the dies and the HDP substrate. The bridge is directly coupled to two dies of the dies with the hybrid layer, where a top surface of the hybrid layer of the bridge is directly on bottom surfaces of the dies, and where a bottom surface of the bridge is directly on a top surface of the HDP substrate. The TMVs couple the HDP substrate to the dies, and have a thickness that is substantially equal to a thickness of the bridge. The hybrid layer includes conductive pads, surface finish, and/or dielectric.
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A high-speed I/O trace is part of an I/O package architecture for an integrated circuit package substrate. The integrated circuit package substrate includes an integrated heat spreader footprint on a die-side and the I/O trace to couple with an IC device to be disposed inside the IHS footprint. The I/O trace includes a pin-out terminal outside the IHS footprint to couple to an IC device to be disposed outside the IHS footprint. The high-speed I/O trace can sustain a data flow rate from a processor in a range from 5 gigabits per second (Gb/s) to 40 Gb/s.