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公开(公告)号：WO2009158249A3
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：PCT/US2009047631
申请日：2009-06-17
Applicant: MKS INSTR INC , SHAJII ALI , CHEN XING , COWE ANDREW , BURTNER DAVID , ENTLEY WILLIAM ROBERT , SHAO SHOUQIAN
Inventor： SHAJII ALI , CHEN XING , COWE ANDREW , BURTNER DAVID , ENTLEY WILLIAM ROBERT , SHAO SHOUQIAN
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/32871 , Y10S55/15 , Y10T29/4935
Abstract: A particle trap for a remote plasma source includes a body structure having an inlet for coupling to a chamber of a remote plasma source and an outlet for coupling to a process chamber inlet. The particle trap for a remote plasma source also includes a gas channel formed in the body structure and in fluid communication with the body structure inlet and the body structure outlet. The gas channel can define a path through the body structure that causes particles in a gas passing from a first portion of the channel to strike a wall that defines a second portion of the gas channel at an angle relative to a surface of the wall. A coolant member can be in thermal communication with the gas channel.
Abstract translation: 用于远程等离子体源的颗粒捕集器包括具有用于耦合到远程等离子体源的室的入口和用于耦合到处理室入口的出口的主体结构。 用于远程等离子体源的颗粒捕获器还包括形成在主体结构中并与主体结构入口和主体结构出口流体连通的气体通道。 气体通道可以限定穿过主体结构的路径，其使得从通道的第一部分通过的气体中的颗粒撞击限定气体通道的第二部分的壁，该壁相对于壁的表面成一定角度。 冷却剂构件可以与气体通道热连通。
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公开(公告)号：DE112009004435B4
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：DE112009004435
申请日：2009-04-13
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： BENZERROUK SOUHEIL , NAGARKATTI SIDDHARTH P , COWE ANDREW , SHAJII ALI , AMBROSINA JESSE E , TRAN KEN , CHEN XING
IPC: H01J37/32
Abstract: Verfahren zum Zünden eines Plasmas in einem reaktiven Gasgenerator, umfassend:Bereitstellen von Energie aus einer Zündstromversorgung für eine Plasmazündschaltung;Messen eines Vorzündsignals der Plasmazündschaltung;Einstellen des einstellbaren Vorzündsteuersignals während eines Zündintervalls,wobei ein Zündintervall eine Zeitdauer ist, in welcher erwartet wird, dass das Plasma zündet undEinstellen der Energie für die Plasmazündschaltung auf der Grundlage des gemessenen Vorzündsignals und eines einstellbaren Vorzündsteuersignals..
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公开(公告)号：DE112009005052T5
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：DE112009005052
申请日：2009-11-16
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： TAI CHIU-YING , CHEN XING , HU CHAOLIN , COWE ANDREW , SHAJII ALI
Abstract: Ein Verfahren zum Erzeugen einer Schutzschicht auf einer Fläche eines Objektes, das Aluminium und Magnesium umfasst, zur Verwendung in einem Halbleiterverarbeitungssystem, welches das Oxidieren der Oberfläche des Objektes umfasst, wobei ein elektrolytischer Plasmaoxidationsprozess verwendet wird. Das Verfahren umfasst auch das Erzeugen eines halogenhaltigen Plasmas durch Anregen eines Gases, das ein Halogen umfasst. Das Verfahren umfasst auch das Aussetzen der oxidierten Fläche einem halogenhaltigen Plasma oder einem angeregten Gas.
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公开(公告)号：DE112009004435T5
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：DE112009004435
申请日：2009-04-13
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： BENZERROUK SOUHEIL , NAGARKATTI SIDDHARTH P , COWE ANDREW , SHAJII ALI , AMBROSINA JESSE E , TRAN KEN , CHEN XING
IPC: H01J37/32
Abstract: Es werden Verfahren und Vorrichtungen, einschließlich von Computerprogrammprodukten, zum Zünden und/oder Aufrechterhalten eines Plasmas in einem reaktiven Gasgenerator beschrieben. Einer Plasmazündschaltung wird Energie von einer Zündstromversorgung bereitgestellt. Es wird ein Vorzündsignal der Plasmazündschaltung gemessen. Die Energie, die für die Plasmazündschaltung bereitgestellt wird, wird auf der Grundlage des gemessenen Vorzündsignals und eines einstellbaren Vorzündsteuersignals eingestellt. Das einstellbare Vorzündsteuersignal wird eingestellt, nachdem ein Zeitintervall abgelaufen ist.
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5.发明专利
公开(公告)号：GB2479702A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：GB201114777
申请日：2009-04-13
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： BENZERROUK SOUHEIL , NAGARKATTI SIDDHARTH P , COWE ANDREW , SHAJII ALI , AMBROSINA JESSE E , TRAN KEN , CHEN XING
Abstract: Described are methods and apparatuses, including computer program products, for igniting and/or sustaining a plasma in a reactive gas generator. Power is provided from an ignition power supply to a plasma ignition circuit. A pre-ignition signal of the plasma ignition circuit is measured. The power provided to the plasma ignition circuit is adjusted based on the measured pre-ignition signal and an adjustable pre-ignition control signal. The adjustable pre-ignition control signal is adjusted after a period of time has elapsed.
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Patent Agency Ranking6.发明专利
公开(公告)号：GB2479702B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：GB201114777
申请日：2009-04-13
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： BENZERROUK SOUHEIL , NAGARKATTI SIDDHARTH P , COWE ANDREW , SHAJII ALI , AMBROSINA JESSE E , TRAN KEN , CHEN XING
Abstract: Described are methods and apparatuses, including computer program products, for igniting and/or sustaining a plasma in a reactive gas generator. Power is provided from an ignition power supply to a plasma ignition circuit. A pre-ignition signal of the plasma ignition circuit is measured. The power provided to the plasma ignition circuit is adjusted based on the measured pre-ignition signal and an adjustable pre-ignition control signal. The adjustable pre-ignition control signal is adjusted after a period of time has elapsed.
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公开(公告)号：GB2486086B
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：GB201201907
申请日：2009-11-16
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： TAI CHIU-YING , CHEN XING , HU CHAOLIN , COWE ANDREW , SHAJII ALI
Abstract: A method for creating a protective layer over a surface of an object comprising aluminum and magnesium for use in a semiconductor processing system, which includes oxidizing the surface of the object using a plasma electrolytic oxidation process. The method also includes generating a halogen-comprising plasma by exciting a gas comprising a halogen. The method also includes exposing the oxidized surface to the halogen-comprising plasma or excited gas.
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公开(公告)号：DE112009005052T9
公开(公告)日：2012-09-13
申请号：DE112009005052
申请日：2009-11-16
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： TAI CHIU-YING , CHEN XING , HU CHAOLIN , COWE ANDREW , SHAJII ALI
Abstract: Ein Verfahren zum Erzeugen einer Schutzschicht auf einer Fläche eines Objektes, das Aluminium und Magnesium umfasst, zur Verwendung in einem Halbleiterverarbeitungssystem, welches das Oxidieren der Oberfläche des Objektes umfasst, wobei ein elektrolytischer Plasmaoxidationsprozess verwendet wird. Das Verfahren umfasst auch das Erzeugen eines halogenhaltigen Plasmas durch Anregen eines Gases, das ein Halogen umfasst. Das Verfahren umfasst auch das Aussetzen der oxidierten Fläche einem halogenhaltigen Plasma oder einem angeregten Gas.
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公开(公告)号：GB2486086A
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：GB201201907
申请日：2009-11-16
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： TAI CHIU-YING , CHEN XING , HU CHAOLIN , COWE ANDREW , SHAJII ALI
Abstract: A method for creating a protective layer over a surface of an object comprising aluminum and magnesium for use in a semiconductor processing system, which includes oxidizing the surface of the object using a plasma electrolytic oxidation process. The method also includes generating a halogen-comprising plasma by exciting a gas comprising a halogen. The method also includes exposing the oxidized surface to the halogen-comprising plasma or excited gas.
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公开(公告)号：SG177478A1
公开(公告)日：2012-02-28
申请号：SG2012000139
申请日：2009-11-16
Applicant: MKS INSTR INC
Inventor： TAI CHIU-YING , CHEN XING , HU CHAOLIN , COWE ANDREW , SHAJII ALI
Abstract: A method for creating a protective layer over a surface of an object comprising aluminum and magnesium for use in a semiconductor processing system, which includes oxidizing the surface of the object using a plasma electrolytic oxidation process. The method also includes generating a halogen-comprising plasma by exciting a gas comprising a halogen. The method also includes exposing the oxidized surface to the halogen-comprising plasma or excited gas.
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