VERFAHREN UND SYSTEM ZUR STEUERUNG EINER RF-LEISTUNG

    公开(公告)号:DE112010002708T5

    公开(公告)日:2012-07-05

    申请号:DE112010002708

    申请日:2010-06-16

    Applicant: MKS INSTR INC

    Abstract: Ein Verfahren zur Steuerung einer gepulsten Leistung (Pulsleistung), das ein Messen eines ersten Pulses von einem Leistungsverstärker umfasst, um Daten zu gewinnen. Das Verfahren enthält auch das Erzeugen eines ersten Signals, um einen zweiten Puls der abgegebenen Leistung anzupassen, wobei das erste Signal mit den Daten korreliert ist, um einen Leistungsunterschied zwischen einem Leistungssollwert und einem im Wesentlichen stabilen Teil des zweiten Pulses zu minimieren. Das Verfahren umfasst auch ein Erzeugen eines zweiten Signals, um den zweiten Puls der abgegebenen Leistung anzupassen, wobei das zweite Signal mit den Daten korreliert ist, um einen Amplitudenunterschied zwischen einem Peak des zweiten Pulses und dem im Wesentlichen stabilen Teil des zweiten Pulses zu minimieren.

    TOROIDAL PLASMA ABATEMENT APPARATUS AND METHOD

    公开(公告)号:SG10201705205WA

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:SG10201705205W

    申请日:2014-03-14

    Applicant: MKS INSTR INC

    Abstract: An apparatus for abatement of gases is provided. The apparatus includes a toroidal plasma chamber having a plurality of inlets and an outlet, and at least one chamber wall. One or more magnetic cores are disposed relative to the toroidal plasma chamber. The plasma chamber confines a toroidal plasma. A second gas inlet is positioned on the toroidal plasma chamber between a first gas inlet and the gas outlet at a distance d from the gas outlet, such that a toroidal plasma channel volume between the first gas inlet and the second gas inlet in the is substantially filled by the inert gas, the distance d based on a desired residence time of the gas to be abated.

    TOROIDAL PLASMA ABATEMENT APPARATUS AND METHOD

    公开(公告)号:SG11201507152RA

    公开(公告)日:2015-10-29

    申请号:SG11201507152R

    申请日:2014-03-14

    Applicant: MKS INSTR INC

    Abstract: An apparatus for abatement of gases is provided. The apparatus includes a toroidal plasma chamber having a plurality of inlets and an outlet, and at least one chamber wall. One or more magnetic cores are disposed relative to the toroidal plasma chamber. The plasma chamber confines a toroidal plasma. A second gas inlet is positioned on the toroidal plasma chamber between a first gas inlet and the gas outlet at a distance d from the gas outlet, such that a toroidal plasma channel volume between the first gas inlet and the second gas inlet in the is substantially filled by the inert gas, the distance d based on a desired residence time of the gas to be abated.

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