Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip (1) angegeben, mit: - einer Halbleiterschichtenfolge (2) mit einer Vielzahl von aktiven Bereichen (3) und einer Haupterstreckungsebene (4), wobei - jeder aktive Bereich (3) eine Haupterstreckungsrichtung (5) aufweist, - jeder aktive Bereich (3) im Betrieb elektromagnetische Strahlung von einem zur Haupterstreckungsebene (4) parallel verlaufenden Emitterbereich (6) aussendet, - die Emitterbereiche(6) an Gitterpunkten (7) eines regelmäßigen Gitters angeordnet sind, die durch zumindest eine Gitterlinie (8) verbunden sind, und - die Haupterstreckungsrichtung (5) zumindest eines aktiven Bereichs (3) einen Winkel (11) von mindestens 10° und höchstens 80° mit den Gitterlinien (8) des regelmäßigen Gitters einschließt. Weiterhin wird ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement mit einem solchen Halbleiterchip (1) angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft verschiedene Aspekte zu einer µ-LED oder einer µ-LED Anordnung für Augmented Reality oder Licht Anwendungen, hier insbesondere im Automotive Bereich. Dabei zeichnet sich die µ-LED durch besonders kleine Abmessungen im Bereich weniger µm aus.
Abstract:
Es wird ein Halbleiterchip (10) mit einem strahlungsdurchlässigen Träger (1), einem Halbleiterkörper (2) und einer transparenten Stromaufweitungsschicht (3) angegeben, wobei der Halbleiterkörper eine n-seitige Halbleiterschicht (21), eine p-seitige Halbleiterschicht (22) und eine dazwischenliegende optisch aktive Zone (23) aufweist. Der Halbleiterkörper ist mittels einer strahlungsdurchlässigen Verbindungsschicht (5) mit dem Träger befestigt. Die Stromaufweitungsschicht basiert auf Zinkselenid und grenzt an die n-seitige Halbleiterschicht an. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Halbleiterchips angegeben.
Abstract:
A method for producing a plurality of semiconductor components is provided, wherein a semiconductor layer sequence having a first semiconductor layer, a second semiconductor layer and an active region is applied on a substrate. A contact structure is formed for electrically contacting the first semiconductor layer and the second semiconductor layer. The semiconductor layer sequence is structured into a plurality of semiconductor bodies by forming at least one trench separating the semiconductor bodies. An insulating layer is formed to cover the trench and vertical surfaces of the semiconductor bodies. A plurality of tethers is formed by structuring the insulating layer in regions covering the trench. The substrate is locally detached from the semiconductor bodies, wherein the tethers remain attached to the substrate. At least one semiconductor body is selectively picked up by separating the tethers from the substrate. Moreover, a semiconductor component produced by said method is provided.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von Halbleiterbauelementen (1) mit folgenden Schritten angegeben: a) Bereitstellen einer Halbleiterschichtenfolge (2) mit einer ersten Halbleiterschicht (21), einer zweiten Halbleiterschicht (22) und einem zwischen der ersten Halbleiterschicht und der zweiten Halbleiterschicht angeordneten, zur Erzeugung und/oder zum Empfangen von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (25); b) Ausbilden einer ersten Anschlussschicht (31) auf der der ersten Halbleiterschicht abgewandten Seite der zweiten Halbleiterschicht; c) Ausbilden einer Mehrzahl von Aussparungen (29) durch die Halbleiterschichtenfolge hindurch; d) Ausbilden einer Leitungsschicht (4) in den Aussparungen zur Herstellung einer elektrisch leitenden Verbindung zwischen der ersten Halbleiterschicht und der ersten Anschlussschicht; und e) Vereinzeln in die Mehrzahl von Halbleiterbauelementen, wobei aus der Halbleiterschichtenfolge für jedes Halbleiterbauelement ein Halbleiterkörper (20) mit zumindest einer der Mehrzahl von Aussparungen hervorgeht und die zumindest eine Aussparung in Draufsicht auf den Halbleiterkörper vollständig von dem Halbleiterkörper umgeben ist. Weiterhin wird ein Halbleiterbauelement angegeben.
Abstract:
An optoelectronic apparatus (20) comprises an array of optoelectronic semiconductor devices (10). The optoelectronic apparatus (20) comprises a semiconductor layer stack (105) comprising a first semiconductor layer (110) of a first conductivity type, an active zone (115), and a second semiconductor layer (120) of a second conductivity type. Adjacent optoelectronic semiconductor devices (10) are separated by separating elements (125) vertically extending through the semiconductor layer stack (105). The optoelectronic semiconductor devices (10) are configured to emit generated electromagnetic radiation (15) via a first main surface (111) of the first semiconductor layer (110). The optoelectronic apparatus (20) further comprises portions of a metal layer (130) arranged on a side of the first semiconductor layer (110) facing away from the active zone (115) and being arranged at positions of the separating elements (125).
Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) weist eine aktive Zone (120) auf, die Teilschichten (111, 112, 113) zur Ausbildung einer Quantentopfstruktur enthält. Dabei sind Energieniveauunterschiede innerhalb der Quantentopfstruktur in einem zentralen Bereich (14) des optoelektronischen Halbleiterbauelements (10) kleiner als in einem Randbereich (15) des optoelektronischen Halbleiterbauelements (10). Gemäß weiteren Ausführungsformen weist ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) eine aktive Zone (120) auf, die eine Teilschicht, die zur Ausbildung einer Quantentopfstruktur geeignet ist, enthält. Dabei sind in der aktiven Zone (120) in einem zentralen Bereich (14) des optoelektronischen Halbleiterbauelements Quantendotstrukturen (122) ausgebildet. In einem Randbereich (15) des optoelektronischen Halbleiterbauelements (10) sind keine Quantendotstrukturen ausgebildet.
Abstract:
An optoelectronic semiconductor component (20) described herein comprises a multiplicity of active regions (10), wherein the active regions (10) are arranged spaced apart from each other, have a core region (11), an active layer (12) covering the core region (11) and have a cover layer (13) which covers the active layer (12). Each active region (10) has a current spreading layer (4) at least partly covering sidewalls (15) of the respective active region (10), wherein each of the current spreading layers (4) comprises a transparent conductive oxide and is in electrical contact with the cover layer (13). A metal layer (6) directly adjoins part of the active regions (10) and part of the current spreading layers (4), wherein the metal layer (6) electrically interconnects the current spreading layers (4) of the active regions (10), and wherein the metal layer (6) comprises a metal that is suited to form an ohmic contact with the current spreading layers (4) and that is not suited to form an ohmic contact with the core regions (13). Further, a method for producing the optoelectronic semiconductor component (20) is described.
Abstract:
In einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von LEDs eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen einer Aufwachsfläche (20), B) Wachsen einer Vielzahl von Halbleitersäulen (3) auf der Aufwachsfläche (20), wobei die Halbleitersäulen (3) quer zur Aufwachsfläche (20) orientierte Seitenflächen (32) und der Aufwachsfläche (20) abgewandte Oberseiten (33) aufweisen, C) Wachsen von Halbleiterumhüllungen (4) an den Halbleitersäulen (3), sodass die Halbleiterumhüllungen (4) die Seitenflächen (32) überwachsen, als Pyramiden geformt und eineindeutig den Halbleitersäulen (3) zugeordnet werden, D) Wachsen einer zur Strahlungserzeugung eingerichteten aktiven Zone (5) und einer dotierten Halbleiterschicht (6) auf die Halbleiterumhüllungen (4), sodass die aktive Zone (5) und die dotierte Halbleiterschicht (6) eine Oberseite (40) der Halbleiterumhüllungen (4) nachbilden, und E) Aufbringen einer lichtdurchlässigen Elektrodenschicht (7) auf die dotierte Halbleiterschicht (6).