Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement mit einem Halbleiterkörper, umfassend einen zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung eingerichteten aktiven Bereich, einem Wellenlängenkonversionselement umfassend einen Konversionsbereich und einen Opferbereich und einem Formkörper, in den der Halbleiterkörper und das Wellenlängenkonversionselement zumindest teilweise eingebettet sind und der zumindest stellenweise direkt an den Halbleiterkörper und das Wellenlängenkonversionselement angrenzt angegeben. Der Konversionsbereich ist dazu eingerichtet zumindest einen Teil der in dem aktiven Bereich erzeugten elektromagnetischen Strahlung eines ersten Wellenlängenbereichs zu einer elektromagnetischen Strahlung eines zweiten Wellenlängenbereichs zu konvertieren. Der Konversionsbereich ist zwischen dem Opferbereich und dem Halbleiterkörper angeordnet. Der Opferbereich ist für die elektromagnetische Strahlung des ersten Wellenlängenbereichs und die elektromagnetische Strahlung des zweiten Wellenlängenbereichs durchlässig. Der Formkörper und der Opferbereich weisen Spuren eines Abtragungsprozesses auf, und der Formkörper ist als Reflektor für die elektromagnetische Strahlung des ersten Wellenlängenbereichs und für die elektromagnetische Strahlung des zweiten Wellenlängenbereichs ausgebildet. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein Bauteil (10) mit einem gemeinsamen Träger (9), einer Mehrzahl von Bauelementen (1), Konverterschichten (1K) und inneren Streuregionen (5) angegeben, wobei die Bauelemente in lateraler Richtung nebeneinander und in vertikaler Richtung zwischen dem gemeinsamen Träger und den Konverterschichten angeordnet sind. Das Bauteil weist einen Durchtrittsbereich (2) und eine Strahlungsaustrittsfläche (10S) auf, die in vertikaler Richtung durch den Durchtrittsbereich von den Konverterschichten beabstandet ist. Die benachbarten Konverterschichten sind durch einen Zwischenbereich (3) voneinander lateral beabstandet, der in Draufsicht auf den Träger von dem Durchtrittsbereich vollständig bedeckt ist, wobei die inneren Streuregionen sowohl an den Durchtrittsbereich als auch an die Konverterschichten angrenzen und zumindest teilweise in dem Zwischenbereich angeordnet sind oder unmittelbar an den Zwischenbereich angrenzen.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement (10, 1010) umfasst eine Halbleiter-Schichtstruktur (100, 1100) die eine erste leuchtaktive Schicht (140) und eine zweite leuchtaktive Schicht (240) aufweist. Zwischen der ersten leuchtaktiven Schicht (140) und der zweiten leuchtaktiven Schicht (240) ist ein erster Tunnelübergang (200) ausgebildet. Zwischen der ersten leuchtaktiven Schicht (140) und dem ersten Tunnelübergang (200) ist ein erster Bragg-Spiegel (160) ausgebildet. Zwischen der zweiten leuchtaktiven Schicht (240) und dem ersten Tunnelübergang (200) ist ein zweiter Bragg-Spiegel (260) ausgebildet.
Abstract:
Eine Trägerplatte (100) für ein elektronisches Bauteil (200) umfasst eine Oberseite (50) zum elektrischen Anschließen und Montieren eines elektronischen Bauteils. Ferner umfasst die Trägerplatte eine Unterseite (10) zum elektrischen Anschließen der Trägerplatte an eine Leiterplatte (300). Die Trägerplatte umfasst zwei oder mehr voneinander elektrisch isolierte Kontaktstrukturen (1), die zur Stromführung von der Unterseite zur Oberseite oder in umgekehrte Richtung eingerichtet sind. Die Kontaktstrukturen bilden dabei an der Unterseite jeweils elektrisch leitfähige Kontaktflächen (2). Eine Kontaktfläche ist im Bereich einer Ecke (11) der Unterseite angeordnet. Die im Bereich der Ecke angeordnete Kontaktfläche weist in Draufsicht auf die Unterseite betrachtet eine gekrümmte Kante (20) auf. Die gekrümmte Kante ist der Ecke zugewandt, sodass der am nächsten zu der Ecke liegende Punkt der Kontaktfläche auf der gekrümmten Kante liegt. Die der Ecke nächstliegende Kontaktfläche hat ferner einen Abstand zu der Ecke von zumindest 2,5 % und höchstens 10 % des Umfangs der Unterseite.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (100) angegeben, das folgende Schritte aufweist: a) Bereitstellen eines Hilfsträgers (2); b) Bereitstellen einer Mehrzahl von Halbleiterchips (10), wobei jeder der Halbleiterchips einen Trägerkörper (12) und einen auf einer Oberseite (22) des Trägerkörpers angeordneten Halbleiterkörper (4) aufweist; c) Befestigen der Mehrzahl von Halbleiterchips auf dem Hilfsträger, wobei die Halbleiterchips in einer lateralen Richtung (L) voneinander beabstandet sind und wobei die Halbleiterkörper vom Trägerkörper aus gesehen dem Hilfsträger zugewandt sind; d) Ausbilden einer Streuschicht (18) zumindest in Bereichen zwischen den Halbleiterkörpern benachbarter Halbleiterchips; e) Ausbilden eines Gehäusekörperverbunds (20); f) Entfernen des Hilfsträgers (2); und g) Vereinzeln des Gehäusekörperverbunds in eine Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (100).
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung von mindestens einem Halbleiterbauelement (11) angegeben mit den aufeinander folgenden Schritten: -Bereitstellen von mindestens einem Halbleiterchip (1) umfassend: -ein Chipsubstrat (2) -eine auf dem Chipsubstrat (2) angeordnete Halbleiterschichtenfolge (3), -eine erste Hauptfläche (1A) und eine der ersten Hauptfläche (1A) gegenüberliegende zweite Hauptfläche (1B), -mindestens eine Seitenfläche (1C), die quer zu der ersten und zweiten Hauptfläche (1A, 1B) angeordnet ist, wobei der Halbleiterchip (1) an der Seitenfläche (1C) Spuren (8) einer Vereinzelung aufweist, -Bereitstellen eines Trägers (9) mit einer Montagefläche (9A), -Montage des mindestens einen Halbleiterchips (1) auf dem Träger (9), wobei die erste Hauptfläche (1A) des mindestens einen Halbleiterchips (1) mit der Montagefläche (9A) des Trägers (9) verbunden wird, -Ätzen des Halbleiterchips (1) an der Seitenfläche (1C). Des Weiteren wird ein Halbleiterbauelement(11) angegeben, das mit einem derartigen Verfahren hergestellt werden kann.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelementes und ein optoelektronisches Bauelement mit wenigstens einem ersten Träger (1) mit wenigstens zwei Licht emittierenden Dioden (2) und/oder mit zwei ersten Trägern mit jeweils einer Licht emittierenden Diode (2), wobei jede Diode (2) zwei elektrische Anschlüsse (4, 5) aufweist, wobei jeder elektrische Anschluss (4, 5) zu einer Kontaktfläche (7, 8) geführt ist, wobei die Kontaktflächen (7, 8) auf einer Unterseite (6) eines ersten Träger (1) angeordnet sind, mit einem zweiten Träger (9), wobei im zweiten Träger (9) wenigstens zwei Z-Dioden (10) angeordnet sind, wobei die Z-Dioden (10) weitere elektrische Anschlüsse (11, 12) aufweisen, wobei jeder weitere elektrische Anschluss (11, 12) zu einer weiteren Kontaktfläche (13, 14) geführt ist, wobei die weiteren Kontaktflächen (13,14) auf einer Oberseite (16) des zweiten Trägers (9) angeordnet sind, wobei der erste Träger (1) und/oder die ersten Träger (1) mit der Unterseite (6) auf der Oberseite (16) des zweiten Träger (9) aufliegen und mit dem zweiten Träger (9) fest verbunden sind, wobei die Z-Dioden (10) antiparallel zu den Dioden (2) angeordnet sind, wobei eine elektrische Leitung (15) vorgesehen ist, die die Z- Dioden (10) in einer Serienschaltung verbindet, und wobei die Kontaktflächen (7, 8) einer Diode (2) mit den weiteren Kontaktflächen (13, 14) einer Z-Diode (10) elektrisch in Kontakt stehen.