Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement (100) umfassend einen Halbleiterchip (1), der zur Emission von Strahlung befähigt ist, feuchtestabile Glaspartikel (2), die im Strahlengang des Halbleiterchips (1) angeordnet sind und als Füllstoff, Streupartikel und/oder Filterpartikel verwendet werden,wobei die feuchtestabilen Glaspartikel (2) jeweils einen feuchtesensitiven Kern (3) aus einem Glasmaterial aufweisen, wobei der Kern (3) mit zumindest einer feuchtestabilen anorganischen Beschichtung (4) umhüllt ist.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement, umfassend : - einen Träger aufweisend eine Chipmontagefläche, - wobei die Chipmontagefläche eine Reflexionsbeschichtung aufweist, - einen mittels eines Klebstoffs auf der Reflexionsbeschichtung geklebten optoelektronischen Halbleiterchip, so dass die Reflexionsbeschichtung in einen mittels des Halbleiterchips bedeckten ersten Teilabschnitt und in einen zweiten Teilabschnitt, der frei von dem Halbleiterchip ist, unterteilt ist, - wobei der Klebstoff Reflexionspartikel zum Reflektieren von mittels des Halbleiterchips emittierter elektromagnetischer Strahlung aufweist, - wobei der zweite Teilabschnitt zumindest teilweise mittels einer Korrosionsschutzschicht bedeckt ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst das optoelektronische Bauelement (100) einen Träger (1), einen optoelektronischen Halbleiterchip (2) und eine Verkapselung (3). Der Halbleiterchip ist auf einer Montagefläche (10) des Trägers befestigt und mit dem Träger elektrisch leitend verbunden. Die Verkapselung umformt den Halbleiterchip und überdeckt die Montagefläche zumindest teilweise. Die Verkapselung umfasst eine erste Schicht (31) und eine zweite Schicht (32), wobei die erste Schicht zwischen der Montagefläche und der zweiten Schicht angeordnet ist. Die erste Schicht und die zweite Schicht basieren jeweils auf einem Silikon. Die erste Schicht und die zweite Schicht grenzen im Bereich einer Grenzfläche direkt aneinander.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements weist die folgenden Verfahrensschritte auf. Ein Träger mit einer Oberseite wird bereitgestellt. Ein optoelektronischer Halbleiterchip wird über der Oberseite des Trägers angeordnet. Weiterhin wird ein Vergussmaterial über der Oberseite des Trägers angeordnet, wobei der optoelektronische Halbleiterchip in das Vergussmaterial eingebettet wird. Das Vergussmaterial bildet eine Vergussoberfläche. Das Vergussmaterial wird an der Vergussoberfläche umgeformt, wobei an der Vergussoberfläche eine Topographie erzeugt wird. Das Umformen des Vergussmaterials an der Vergussoberfläche erfolgt durch eine Härtung der Vergussoberfläche. Mit der Härtung der Vergussoberfläche geht eine Faltung der Vergussoberfläche einher.
Abstract:
Es wird ein Plättchen (1) für ein optoelektronisches Bauelement angegeben, das ein Silikon aufweist, wobei auf zumindest einer Oberfläche des Plättchens (1) chemische Verbindungen umfassend jeweils eine Ankergruppe (3) und eine Kopfgruppe (4) vorhanden sind, und die chemischen Verbindungen mit der Ankergruppe (3) an das Silikon gebunden sind, und wobei die Adhäsion auf der zumindest einen Oberfläche durch die Kopfgruppe (4) der chemischen Verbindungen vermindert ist. Es wird weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben, welches ein solches Plättchen (1) enthält. Es wird weiterhin das optoelektronische Bauelement angegeben.
Abstract:
Bei einem Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements wird ein Träger mit einer Oberseite bereitgestellt. Über der Oberseite des Trägers wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angeordnet. Weiterhin wird über der Oberseite des Trägers ein Vergussmaterial angeordnet, wobei der optoelektronische Halbleiterchip in das Vergussmaterial eingebettet wird. Das Vergussmaterial bildet eine Vergussoberfläche. Auf die Vergussoberfläche werden Partikel aufgesprüht, wobei ein Teil der Partikel an der Vergussoberfläche verbleibt, wobei an der Vergussoberfläche eine Topographie erzeugt wird.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement (100) aufweisend zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchip (1), der zur Emission von Strahlung eingerichtet ist, zumindest eine metallische reflektierende Oberfläche (6), zumindest eine funktionale Komponente (7) mit einer Komponentenoberfläche (70), die von der metallischen reflektierenden Oberfläche (6) verschieden ist, einen Barriereschichtenstapel (8) zum Schutz vor korrosiven Medien, der sowohl auf der zumindest einen metallischen reflektierenden Oberfläche (6) als auch auf der Komponentenoberfläche (70) angeordnet ist, wobei der Barriereschichtenstapel (8) zumindest eine anorganische Oxid-, Oxinitrid- oder Nitridschicht (81) und zumindest eine plasmapolymerisierte Siloxanschicht (82) aufweist.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement umfasst ein Gehäuse, das eine durch eine umlaufende Wandung begrenzte Kavität aufweist. Zumindest ein Abschnitt der Wandung weist eine von einer ebenen Oberfläche abweichende Oberflächentopografie auf.
Abstract:
Es wird eine optoelektronische Vorrichtung (1) aufweisend zumindest eine Außenoberfläche (2) mit einem Silikon (20) angegeben, wobei chemische Verbindungen, umfassend eine Ankergruppe (3) und eine Kopfgruppe (4), mit der Ankergruppe an das Silikon gebunden sind,und wobei die Adhäsion der auf der Außenoberfläche befindlichen Bereiche des Silikons (2) durch die Kopfgruppen der chemischen Verbindungen vermindert ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement (100) mit einem Träger (1) und einem auf dem Träger angeordneten Halbleiterchip (2) angegeben, wobei der Träger eine Montagefläche (1M) aufweist, die mit einer Reflexionsbeschichtung (4) versehen ist. Eine Korrosionsschutzschicht (7) ist auf dem Halbleiterchip gebildet, wobei der Halbleiterchip in vertikaler Richtung zwischen der Reflexionsbeschichtung und der Korrosionsschutzschicht angeordnet ist. Die Reflexionsbeschichtung ist mit einer Barriereschicht (5) versehen, die in der vertikalen Richtung bereichsweise zwischen dem Halbleiterchip und der Reflexionsbeschichtung angeordnet ist. Die Barriereschicht ist aus einem anorganischen Material gebildet und dient als zusätzliche Korrosionsschutzschicht für die Reflexionsbeschichtung dient. Insbesondere weist die Barriereschicht (5) eine vertikale Schichtdicke auf, die zwischen einschließlich 1 nm und 100 nm ist. Außerdem weist die Korrosionsschutzschicht (7) eine vertikale Schichtdicke auf, die zwischen einschließlich 10 nm und 5000 nm ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines Bauelements, insbesondere zur Herstellung eines solchen Bauelements angegeben.