Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optoelektronisches Bauelement (100) mit zumindest einer metallischen Oberfläche (1) umfassend einen kontaktierten optoelektronischen Halbleiterchip (2), der zur Emission von Strahlung eingerichtet ist, eine Schutzschicht (5), die auf der zumindest einen metallischen Oberfläche (1) angeordnet ist, wobei die Schutzschicht (5) ein Schutzmaterial (3) aus zumindest einem N-heterozyklischen Carben (14) umfasst, wobei zwischen dem Schutzmaterial (3) und der zumindest einen metallischen Oberfläche (1) eine kovalente Bindung (4) ausgebildet ist.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements (1) aufweisend die folgenden Schritte angegeben: A) Bereitstellen einer Mehrzahl von Halbleiterchips (10), die an einem Träger (50) angeordnet sind, B) Anordnen eines Hilfsträgers (60) auf der von dem Träger (50) abgewandten Seite der Halbleiterchips (10), C) Entfernen des Trägers (50), D) Vereinzeln des Hilfsträgers (60) zwischen den Halbleiterchips (10) zu Hilfsträger-Chip-Einheiten (2), die jeweils mindestens einen Halbleiterchip (10) und ein an diesen angrenzendes Hilfsträgerteil (61) aufweisen, E) Anordnen der Hilfsträger-Chip-Einheiten (2) an jeweils einen Anschlussträger (30), und F) Entfernen jeweils eines Hilfsträgerteils (61) von jeweils einer Hilfsträger-Chip-Einheit (2). Es wird ferner ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) angegeben.
Abstract:
Es wird ein Optoelektronisches Halbleiterbauelement (1) angegeben, das einen Halbleiterkörper (10) mit einem aktiven Bereich (100) umfasst, der zur Emission von elektromagnetischer Strahlung eines ersten Wellenlängenbereichs eingerichtet ist und eine zur Auskopplung der Strahlung vorgesehenen Auskoppelfläche (10A). Auf der Auskoppelfläche (10A) ist eine Gitterschicht (20) angeordnet, die eine Mehrzahl von Kavitäten (200) umfasst. Der aktive Bereich (100) ist in eine Mehrzahl von separat ansteuerbaren Emissionsbereichen (1000) unterteilt. Auf die Gitterschicht (20) ist zumindest bereichsweise eine Antihaftschicht (30) aufgebracht. Die Kavitäten (200) sind den Emissionsbereichen (1000) zugeordnet und durchdringen die Gitterschicht (20) vollständig. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauelements (1) angegeben.
Abstract:
Es wird eine optoelektronische Vorrichtung (1) aufweisend zumindest eine Außenoberfläche (2) mit einem Silikon (20) angegeben, wobei chemische Verbindungen, umfassend eine Ankergruppe (3) und eine Kopfgruppe (4), mit der Ankergruppe an das Silikon gebunden sind,und wobei die Adhäsion der auf der Außenoberfläche befindlichen Bereiche des Silikons (2) durch die Kopfgruppen der chemischen Verbindungen vermindert ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung angegeben.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Fixierung einer matrixfreien elektrophoretisch abgeschiedenen Schicht auf einem Halbleiterchip (2) für die Herstellung eines Strahlungsemittierenden Halbleiterbauelements angeben, das die folgenden Schritte aufweist: Bereitstellen eines Halbleiterwafers (1), wobei der Halbleiterwafer (1) ein Trägersubstrat (5) und wenigstens einen Halbleiterchip (2) aufweist, wobei der wenigstens eine Halbleiterchip (2) eine aktive Zone zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung aufweist, und wobei an einer dem Trägersubstrat (5) abgewandten Oberfläche (4) des wenigstens einen Halbleiterchips (2) wenigstens ein Kontaktbereich (3) ausgebildet ist; elektrophoretisches Abscheiden eines Materials (7) auf der dem Trägersubstrat (5) abgewandten Oberfläche (4) des wenigstens einen Halbleiterchips (2) zur Ausbildung der elektrophoretisch abgeschiedenen Schicht, wobei ein Abscheiden des Materials (7) auf dem wenigstens einen Kontaktbereich (3) verhindert wird, und; Aufbringen eines anorganischen Matrixmaterials (8) auf wenigstens einen Teilbereich einer dem Trägersubstrat (5) abgewandten Oberfläche des Halbleiterwafers (1) zur Fixierung des Materials (7) auf dem wenigstens einen Halbleiterchip (2). Ferner wird ein Strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement angegeben.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic component (100) comprising at least one metallic surface (1) having a contacted optoelectronic semiconductor chip (2) configured to emit radiation, and a protective layer (5) arranged on said at least one metallic surface (1), the protective layer (5) comprising a protective material (3) consisting of at least one N-heterocyclic carbene (14), and a covalent bond (4) being formed between the protective material (3) and the at least one metallic surface (1).