公开(公告)号：DE112016002046A5

公开(公告)日：2018-03-01

申请号：DE112016002046

申请日：2016-04-28

Applicant: PLANSEE SE

Inventor： DRONHOFER ANDRE ,  LINKE CHRISTIAN ,  EIDENBERGER ELISABETH

IPC: H01J37/34

公开(公告)号：AT14576U1

公开(公告)日：2016-01-15

申请号：AT3022014

申请日：2014-08-20

Applicant: PLANSEE SE

Inventor： KÖSTENBAUER HARALD ,  WINKLER JÖRG ,  JANUSCHEWSKY JUDITH ,  EIDENBERGER ELISABETH ,  LEICHTFRIED GERHARD ,  KATHREIN MARTIN ,  HWANG MOO SUNG

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  C23C14/58

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Metallisierung für ein Dünnschichtbauelement sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Metallisierung. Weiters betrifft die Erfindung ein Sputtering Target aus einer Mo-Basislegierung, enthaltend Al sowie Ti und übliche Verunreinigungen sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtering Targets aus einer Mo-Basislegierung.

公开(公告)号：AT14911U1

公开(公告)日：2016-08-15

申请号：AT1082015

申请日：2015-05-06

Applicant: PLANSEE SE

Inventor： DRONHOFER ANDRÉ ,  LINKE CHRISTIAN ,  EIDENBERGER ELISABETH

IPC: H01J37/34

Abstract: Target (1a-d) für eine Kathodenzerstäubungsanlage mit einem rohrförmigen Targetkörper (2a-d) aus einem Zerstäubungsmaterial, und zumindest einem mit dem Targetkörper (2a-d) verbundenen, aus dem Targetkörper herausragenden, Anschlussstück (6a-d) zum Anschließen des Targetkörpers (2a-d) an eine Kathodenzerstäubungsanlage wobei der Targetkörper (2a-d) mit dem zumindest einen Anschlussstück (6a-d) vakuumdicht und verdrehsicher verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem zumindest einen Anschlussstück (6a-d) und dem Targetkörper (2a-d) zumindest ein Dämpferelement (4a-d') angeordnet ist.