光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置

    公开(公告)号:CN103424984B

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201310182559.6

    申请日:2013-05-16

    Abstract: 本发明涉及光掩模坯料及其制造方法、光掩模、图案转印方法及溅射装置。本发明提供光学浓度等特性的偏差小且缺陷少品质高、并且具有高蚀刻速度的功能性膜的制造技术。本发明的光掩模坯料的制造方法中,在制造透明衬底上具备至少一层功能性膜的光掩模坯料时,功能性膜由含有铬元素和与铬的混合体系成为液相的温度为400℃以下的金属元素的铬系材料构成,在形成该功能性膜的工序中,使铬靶(靶A)和以至少一种所述金属元素作为主要成分的靶(靶B)同时溅射(共溅射:Co‑Sputtering)。另外,除了可以采用上述靶A和靶B各使用一个的方式以外,还可以采用其中任意一种靶使用多个的方式或两种靶都使用多个的方式。

    锂磷系复合氧化物碳复合体及其制造方法、以及电化学器件和锂离子二次电池

    公开(公告)号:CN107112532A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201580070794.1

    申请日:2015-11-13

    Abstract: 本发明是一种锂磷系复合氧化物碳复合体,其用于电化学器件的正极活性物质,且是所述锂磷系复合氧化物的表面覆盖有碳而成,所述锂磷系复合氧化物碳复合体的特征在于:以相对于锂磷系复合氧化物碳复合体的质量比计,使锂磷系复合氧化物碳复合体分散于超纯水中而成的溶出液中所溶出的氟离子,是500ppm以上且15000ppm以下;锂磷系复合氧化物的组成,是由通式(1)所表示:Li1‑xFe1‑zMzPO4‑aFa,其中,‑0.1≤x<1,0≤z≤1,0≤a≤4…(1),式(1)中,M表示由Mn、Ni、Co、V、Cr、Al、Nb、Ti、Cu、Zn所组成的群组中选出的1种以上的金属元素。由此,提供一种锂磷系复合氧化物碳复合体,其即便使用包含三价的原料,在用作电化学器件的正极活性物质时,也可得到高的充放电容量。

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