板状体的研磨装置及板状体的研磨方法

    公开(公告)号:CN102806517B

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201210179431.X

    申请日:2012-06-01

    Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨装置及板状体的研磨方法,该研磨装置具备:背垫,构成为吸附保持板状体的主表面中的第一面;研磨垫,构成为被按压于所述板状体的所述主表面中的第二面并研磨该第二面,辅助板配置于所述板状体的周围或周围的局部,该辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起。

    基板的研磨装置及基板的研磨方法

    公开(公告)号:CN102416597A

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN201010297257.X

    申请日:2010-09-28

    Abstract: 本发明提供一种能够长时间顺利地对玻璃基板进行研磨的基板的研磨装置及基板的研磨方法。本发明将与吸附片相比拉伸方向的刚性高的中间片夹在膜体和吸附片之间并进行粘接。通过研磨中产生的研磨阻力,膜体在拉伸方向上伸缩,由于膜体的伸缩动作,有时中间片和膜体之间发生剥离,但由于中间片介于膜体和吸附片之间,因此在因玻璃基板G的吸附而制约伸缩的吸附片和拉伸方向的刚性比吸附片高的中间片之间,由于中间片在拉伸方向上不伸缩,因此不会发生相对偏离,能够防止吸附片从中间片剥离并卷起。

    板状体研磨装置及研磨系统

    公开(公告)号:CN102950538B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201210295630.7

    申请日:2012-08-17

    Abstract: 本发明涉及一种板状体研磨装置及研磨系统,具有:板状体保持单元,保持一边的长度为1000mm以上的板状体;研磨垫,与被所述板状体保持单元保持的所述板状体相对设置,所述研磨垫形成有:多个浆料供给孔,在与所述板状体相对的相对面上形成,向所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给浆料;浆料吸引孔,仅在与所述板状体相对的相对面的中央部形成,吸引被供给到所述抵接部的所述浆料。

    板状体的研磨装置及板状体的研磨方法

    公开(公告)号:CN102806517A

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:CN201210179431.X

    申请日:2012-06-01

    Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨装置及板状体的研磨方法,该研磨装置具备:背垫,构成为吸附保持板状体的主表面中的第一面;研磨垫,构成为被按压于所述板状体的所述主表面中的第二面并研磨该第二面,辅助板配置于所述板状体的周围或周围的局部,该辅助板构成为防止所述研磨垫的按压引起的所述板状体的周围的所述背垫的隆起。

    板状体研磨装置及研磨系统

    公开(公告)号:CN102950538A

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:CN201210295630.7

    申请日:2012-08-17

    Abstract: 本发明涉及一种板状体研磨装置及研磨系统,具有:板状体保持单元,保持一边的长度为1000mm以上的板状体;研磨垫,与被所述板状体保持单元保持的所述板状体相对设置,所述研磨垫形成有:多个浆料供给孔,在与所述板状体相对的相对面上形成,向所述研磨垫和所述板状体的抵接部供给浆料;浆料吸引孔,仅在与所述板状体相对的相对面的中央部形成,吸引被供给到所述抵接部的所述浆料。

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