公开(公告)号：CN1712831A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN200510076480.0

申请日：2005-06-14

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 波冈义哲 ,  青木则茂 ,  宫田毅

IPC: F24F7/06

CPC classification number: H01L21/67733 ,  F24F3/161 ,  H01L21/67017

Abstract: 一种清洁室、局部清洁系统、其使用方法及清洁室安全系统，实现简便地短时间地能够构筑在清洁室内区域具有必要的清洁度的局部清洁化区域。本发明的局部清洁化系统，包括在清洁室内天花板下配置了格子状运送用轨道和沿着运送用轨道运送可能的自走式风扇过滤单元。通过将自走式风扇过滤单元，使用运送用轨道在清洁室内所规定的区域移动，可在清洁室内所规定区域形成与除该所规定区域以外的区域清洁度高的局部清洁化区域。

公开(公告)号：CN1638058A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410102200.4

申请日：2004-12-15

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 宫田毅 ,  三由裕一 ,  波冈义哲

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/302 ,  B08B3/08 ,  C11D7/00 ,  C11D7/08

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/08 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047

Abstract: 本发明公开了一种半导体晶片的清洗方法，能够除去半导体晶片上的金属杂质。本发明的半导体晶片的清洗方法包括：用碱性药液除去半导体晶片上异物的清洗工序；用弱酸性清洗液中和半导体晶片的表面电荷的清洗工序；以及用酸性药液除去残留在半导体晶片上的金属杂质的清洗工序。由于半导体晶片表面被中和，在不带电荷的状态下进行HPM处理，因此金属杂质不会附着，能够使得半导体晶片的表面获得极高洁净度。