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公开(公告)号：CN110297403B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201910510003.2
申请日：2015-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/30 , G03F7/24 , G03F7/16 , G03F9/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , B65H23/188 , B65H20/34 , B65H20/24 , B65H20/02 , B65H18/10
Abstract: 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
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公开(公告)号：CN108710263B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201810312226.3
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置，其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转，使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动，由此将圆筒光罩的图案曝光至基板，其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构，支承机构包括：可旋转地支承转轴的可动体；以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源；及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。
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公开(公告)号：CN108919607B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201810608818.X
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN107748486B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201711113525.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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公开(公告)号：CN110083018A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201811596980.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107957660A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201711205151.0
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号：CN104303110A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380025725.X
申请日：2013-04-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/677
CPC classification number: G02F1/1303 , B29C65/18 , B29C65/5057 , B29C65/7451 , B29C65/7847 , B29C66/1122 , B29C66/43 , B29C66/8221 , B29C66/83221 , B29C66/83241 , B29C66/853 , B29C66/934 , B65G2249/04 , B65H19/1852 , B65H19/1873 , B65H2301/46172 , B65H2301/4621 , B65H2301/46312 , B65H2408/2171 , B65H2801/61 , C03B33/0235 , G02F1/133351 , G02F2001/133354 , Y02P40/57
Abstract: 一种基板处理系统，具有：第1处理单元，对以速度V1搬送的基板连续地实施第1处理；以及第2处理单元，以速度V2搬送由第1处理单元处理后的基板，对基板连续地实施第2处理，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＞V2的情况下，设置多个第2处理单元，且还具有切断机构和选择投入机构，在根据第1、第2处理单元各自的性能，能够将速度的关系设定成V1＜V2的情况下，设置多个第1处理单元，且还具有将由多个第1处理单元实施第1处理的多个基板，依次接合并投入至第2处理单元的接合机构。
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公开(公告)号：CN114229474A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202210005576.1
申请日：2017-08-07
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , B65H20/02 , B65H23/188 , B65H26/00 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
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公开(公告)号：CN109154784B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201780030933.7
申请日：2017-04-17
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是将具有可挠性的长条片状基板(P)的一部分沿圆筒状的外周面的圆周方向卷绕而加以支承的转筒(DR)，包括：圆筒体(50)，其具有距中心轴(AXo)为固定半径的圆筒状外周面；光电感测器(PDi)，其输出与朝向圆筒体(50)的外周面投射并射入至形成于圆筒体(50)的外周面的一部分的开口部(50n)的光束(LBn)的强度对应的信号；及感测器电路基板(60)，其输入来自光电感测器(PDi)的信号，以进行用以测量光束(LBn)的强度变化或光束位置的信号处理。
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公开(公告)号：CN107908083B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201711078129.4
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。
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