曝光装置和器件制造方法

    公开(公告)号:CN101852993A

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN201010155625.7

    申请日:2003-12-08

    CPC classification number: G03F7/707 G03F7/70341

    Abstract: 一种曝光装置包括:在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧,通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上,曝光衬底(P),回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时,即使向衬底外侧流出液体,也能抑制环境的变动,复制出精度优良的图案。

    曝光装置和器件制造方法

    公开(公告)号:CN1723540A

    公开(公告)日:2006-01-18

    申请号:CN200380105422.5

    申请日:2003-12-08

    CPC classification number: G03F9/7026 G03F7/70341 G03F9/7003 G03F9/7034

    Abstract: 曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50),投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上,对衬底(P)进行曝光。它包括:保持衬底的衬底台(PST);向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1);以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息,一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。

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