公开(公告)号：CN101308328A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200810099591.7

申请日：2008-05-15

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 秋田诚 ,  末次益实 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F12/22 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/1891 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含(A)树脂和(B)至少一种酸生成剂，其中(A)树脂包含：(i)由式(I)表示的聚合单元；(ii)由式(II)表示的聚合单元；和(iii)选自由式(III)表示的聚合单元和由式(IV)表示的聚合单元中的至少一种聚合单元。

公开(公告)号：CN101192006A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200710194002.9

申请日：2007-11-26

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 末次益实 ,  秋田诚 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含：(A)树脂和(B)酸生成剂，所述的树脂可以通过酚醛清漆树脂、聚(羟基苯乙烯)和具有至少两个乙烯基醚结构的化合物反应得到。

公开(公告)号：CN1696828A

公开(公告)日：2005-11-16

申请号：CN200510070438.8

申请日：2005-05-09

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 武元一树 ,  桥本和彦 ,  宫川贵行

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。

公开(公告)号：CN101308328B

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN200810099591.7

申请日：2008-05-15

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 秋田诚 ,  末次益实 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F12/22 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/1891 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含(A)树脂和(B)至少一种酸生成剂，其中(A)树脂包含：(i)由式(I)表示的聚合单元；(ii)由式(II)表示的聚合单元；和(iii)选自由式(III)表示的聚合单元和由式(IV)表示的聚合单元中的至少一种聚合单元。

公开(公告)号：CN102043336A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN201010516733.2

申请日：2010-10-13

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增山达郎 ,  桥本和彦 ,  重松淳二

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C08F120/34 ,  C08F220/34 ,  C08F222/24 ,  C08F222/14 ,  C08F122/22 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C07C251/66

CPC classification number: C08F120/34 ,  C07C251/66 ,  C07C309/70 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含：一种包含衍生自通式(I)所示化合物的结构单元的聚合物：其中，R1表示氢原子或甲基；R2表示可具有一个以上取代基的C6-C12芳烃基；R3表示氰基或者可具有一个以上取代基并可包含一个以上杂原子的C1-C12烃基；A1表示单键、-(CH2)g-CO-O-*或-(CH2)h-O-CO-(CH2)i-CO-O-*，其中g、h和i各自独立表示1至6的整数，并且*表示与氮原子的成键位置，一种具有酸不稳定性基团并且不溶于或微溶于碱性水溶液的树脂，但是该树脂通过酸的作用可变得溶于碱性水溶液；以及一种产酸剂。

公开(公告)号：CN102001926A

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN201010269794.3

申请日：2010-08-31

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 桥本和彦 ,  市川幸司

IPC: C07C49/84 ,  C07C69/84 ,  C07C69/773 ,  C07C69/92 ,  C07C69/54 ,  C07C69/96 ,  C08F220/30 ,  G03F7/039 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C69/84 ,  C07C69/54 ,  C07C69/96 ,  C07C2603/74 ,  C08F20/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供化合物，树脂，抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀剂图案的方法。本发明的化合物由式(A)表示；其中R1表示氢原子或C1至C6烷基；Z1表示单键，-CO-O-*或-CO-O-(CH2)k-CO-O-*；Z2表示单键，*-O-CO-，*-CO-O-，*-O-(CH2)k-CO-，*-CO-(CH2)k-O-，*-O-(CH2)k-CO-O-，*-O-CO-(CH2)k-O-或*-O-CO-(CH2)k-O-CO-；k表示1至6的整数；*表示与W的结合位置；W表示C4至C36(n+1)价脂环烃基或C6至C18(n+1)价芳族烃基，在所述脂族烃基和所述芳族烃基中含有的一个或多个氢原子可以被卤素原子，C1至C12烷基，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基或-OR10取代；R10表示氢原子或由式(R2-2)表示的基团；R2表示氢原子，由式(R2-1)或式(R2-2)表示的基团；n表示1至3的整数；R4，R5和R6独立地表示C1至C12烃基；R7和R8独立地表示氢原子或C1至C12烃基；R9表示C1至C14烃基。

公开(公告)号：CN101329511A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200810128868.4

申请日：2008-06-20

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 秋田诚 ,  吉田勋 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/039 ,  C08L25/18 ,  C08K5/43

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C69/00 ,  C07C2603/24 ,  C08F212/14 ,  C08F212/34 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/106

Abstract: 一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含(A)树脂和(B)至少一种酸生成剂，所述的(A)树脂包含：(i)由式(I)表示的聚合单元，其中R7表示氢原子等，R8表示C1－C4烷基，p表示1至3的整数，q表示0至2的整数；(ii)选自由式(II)表示的聚合单元和由式(IV)表示的聚合单元中的至少一种聚合单元，在式(II)中，R1表示氢原子等，R2表示C1－C8烷基，并且环X表示脂环烃基，在式(IV)中，R3表示氢原子等，R4和R5独立地表示氢原子等，R10表示C1－C6烷基等；以及(iii)由式(III)表示的聚合单元，其中R3、R4和R5与上述定义相同，E表示二价烃基，G表示单键等，Z表示羰基等，并且L表示蒽基等。

公开(公告)号：CN1645254A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN200510004738.6

申请日：2005-01-18

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 武元一树 ,  桥本和彦 ,  山口训史

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：(A)一种树脂和(B)一种酸生成剂，所述的树脂包含(i)5至50摩尔％的式(I)的结构单元、(ii)5至50摩尔％的式(II)的结构单元，和(iii)5至50摩尔％的至少一种选自由式(III)和(IV)组成的组的结构单元。本发明组合物适用于使用ArF、KrF等的受激准分子激光平版印刷，并显示了各种显著的光刻胶性能，特别地，赋予因此得到的光刻胶图案更好的有效敏感度和清晰度，且尤其是，赋予优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度。

公开(公告)号：CN101329511B

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN200810128868.4

申请日：2008-06-20

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 秋田诚 ,  吉田勋 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/039 ,  C08L25/18 ,  C08K5/43

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07C69/00 ,  C07C2603/24 ,  C08F212/14 ,  C08F212/34 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/106

Abstract: 一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含(A)树脂和(B)至少一种酸生成剂，所述的(A)树脂包含：(i)由式(I)表示的聚合单元，其中R7表示氢原子等，R8表示C1-C4烷基，p表示1至3的整数，q表示0至2的整数；(ii)选自由式(II)表示的聚合单元和由式(IV)表示的聚合单元中的至少一种聚合单元，在式(II)中，R1表示氢原子等，R2表示C1-C8烷基，并且环X表示脂环烃基，在式(IV)中，R3表示氢原子等，R4和R5独立地表示氢原子等，R10表示C1-C6烷基等；以及(iii)由式(III)表示的聚合单元，其中R3、R4和R5与上述定义相同，E表示二价烃基，G表示单键等，Z表示羰基等，并且L表示蒽基等。

公开(公告)号：CN101735390A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910212074.0

申请日：2009-11-03

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 安藤信雄 ,  桥本和彦

IPC: C08F222/14 ,  C08F212/14 ,  C08F212/08 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F220/08 ,  C08F24/00 ,  C08F220/12 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F222/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2059 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 一种聚合物，其包含由结构式(I)表示的结构单元以及由结构式(II)表示的结构单元，其中，R1代表氢原子或甲基，X代表直链或支链C1-C6亚烷基、Z代表由结构式(Ia)表示的基团；R2在各种情况下独立地是直链或支链C1-C6烷基，并且m代表0至15的整数；R3代表氢原子或甲基；R4在各种情况下独立地是直链或支链C1-C6烷基，并且n代表0至4的整数。