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公开(公告)号：CN1690851B
公开(公告)日：2010-04-28
申请号：CN200510066667.2
申请日：2005-04-21
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F220/18 , C07C69/73 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/115 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含(A)树脂和(B)酸生成剂，所述的树脂包含(i)一种式(I)的结构单元和(ii)选自式(II)、(III)、(IV)和(V)的结构单元中的至少一种结构单元。本发明还提供一种用于光刻胶组合物的新单体，以及制备这些单体和组合物的方法。
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公开(公告)号：CN101910952A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880123110.X
申请日：2008-12-22
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0275 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法，其中，在双图形法等多重图形法中，极微细且精度良好地形成通过第一次抗蚀剂图形形成用的抗蚀剂组合物而得到的图形。本发明为一种抗蚀剂处理方法，其中，包括：将含有树脂(A)、光酸产生剂(B)以及交联剂(C)的第1抗蚀剂组合物涂布到基体上并进行干燥而得到第1抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第1抗蚀剂图形、并对其进行硬烘焙，在其上涂布第2抗蚀剂组合物并进行干燥而得到第2抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第2抗蚀剂图形的工序，其中，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，在碱水溶液中不溶或难溶，可与酸作用后溶解。
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公开(公告)号：CN1696828B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510070438.8
申请日：2005-05-09
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。
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公开(公告)号：CN1696828A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510070438.8
申请日：2005-05-09
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。
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公开(公告)号：CN101125823B
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN200710140073.0
申请日：2007-08-14
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07C309/02 , C07C381/12 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D307/93 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , Y10S430/122
Abstract: 一种式(I)表示的盐，其中，X表示C1-C12二价直链或支链烃基，Y表示可以被至少一个取代基取代的C1-C30烃基，并且在所述C1-C30烃基中的至少一个-CH2-可以被-O-或-CO-取代，Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，并且A+表示有机抗衡离子。本发明还提供一种含有上述式(I)表示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101566798A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910135320.7
申请日：2009-04-20
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型抗蚀剂组合物，所述组合物包含树脂(A)、树脂(B)和产酸剂，所述树脂(A)不含氟原子而含侧链中有酸不稳定性基团的结构单元(a1)，所述树脂(B)含侧链中有含氟基团的结构单元(b2)和至少一种选自有酸不稳定性基团的结构单元(b1)、有羟基的结构单元(b3)和侧链中有内酯结构的结构单元(b4)的结构单元，其中所述树脂(B)的量为2重量份或更少每100重量份树脂(A)。
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公开(公告)号：CN1721992A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200510082178.6
申请日：2005-07-04
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F293/005 , C08L53/00 , G03F7/0392 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供一种星形聚合物及制备该星形聚合物的方法，所述的星形聚合物包含中心核和三个或更多个与中心核结合的分支，和具有的重均分子量为1,000至100,000，其中包含至少一个重复单元的至少一个分支选自下面的重复单元(1)、(2)、(3)、(4)和(9)。本发明还提高一种包含星形聚合物和酸生成剂的化学放大正型抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN1690851A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510066667.2
申请日：2005-04-21
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: C08F220/18 , C07C69/73 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/33 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/115 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含(A)树脂和(B)酸生成剂，所述的树脂包含(i)一种式(I)的结构单元和(ii)选自式(II)、(III)、(IV)和(V)的结构单元中的至少一种结构单元。本发明还提供一种用于光刻胶组合物的新单体，以及制备这些单体和组合物的方法。
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公开(公告)号：CN102081303A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN201010559041.6
申请日：2010-11-23
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物，其中Rc1表示可以具有一个或多个取代基的芳族基团，Rc2和Rc3各自独立地表示氢原子，可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或可以具有一个或多个取代基的芳族基团，Rc4和Rc6各自独立地表示氢原子或可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或Rc4和Rc6彼此结合以形成烷烃二基，Rc5表示可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或可以具有一个或两个取代基的氨基，Rc7表示氢原子或可以具有一个或多个取代基的脂族烃基，或Rc5和Rc7彼此结合以形成烷烃二基。
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公开(公告)号：CN101644894A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910160391.2
申请日：2009-08-05
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，其包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且本身不溶于或微溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；树脂(B)，其包含由结构式(I)表示的结构单元和在侧链中具有氟原子的结构单元，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。
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