公开(公告)号：CN103149798A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201210251272.X

申请日：2012-07-19

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 市川幸司 ,  增山达郎 ,  山口训史

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，酸生成剂，和具有由式(IA)表示的阴离子的盐，其中R1、A1、A13、X12、A14、R1A和R2A如说明书中限定。

公开(公告)号：CN102890405A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201210250394.7

申请日：2012-07-19

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 市川幸司 ,  山口训史

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，其中R1、A1、A13、A14、X12、Q1、Q2、L1、环W1和Z+如说明书中限定。

公开(公告)号：CN1673861B

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：CN200510056001.9

申请日：2005-03-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 户石好治 ,  高田佳幸 ,  山口训史

IPC: G03F7/004 ,  C23F1/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：树脂，所述的树脂含有具有酸不稳定基团的结构单元且其本身不溶于或难溶于碱性水溶液且通过酸的作用而变成在碱性水溶液中可溶的；酸生成剂；和式(C-1)的化合物：其中R1和R2各自独立地表示氢或含有1至4个碳原子的烷基，R3、R4和R5各自独立地表示氢或羟基。

公开(公告)号：CN101910952A

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200880123110.X

申请日：2008-12-22

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  高田佳幸 ,  山口训史 ,  武元一树 ,  宫川贵行 ,  藤裕介

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0275 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法，其中，在双图形法等多重图形法中，极微细且精度良好地形成通过第一次抗蚀剂图形形成用的抗蚀剂组合物而得到的图形。本发明为一种抗蚀剂处理方法，其中，包括：将含有树脂(A)、光酸产生剂(B)以及交联剂(C)的第1抗蚀剂组合物涂布到基体上并进行干燥而得到第1抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第1抗蚀剂图形、并对其进行硬烘焙，在其上涂布第2抗蚀剂组合物并进行干燥而得到第2抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第2抗蚀剂图形的工序，其中，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，在碱水溶液中不溶或难溶，可与酸作用后溶解。

公开(公告)号：CN101211113A

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：CN200710161112.5

申请日：2007-12-18

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 荒木香 ,  山口训史 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：(A)由式(I)表示的盐、(B)由式(II)表示的盐和(C)树脂，所述树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，其中在式(I)和(II)中的R21、Q1、Q2、Q3、A+和A’+与权利要求书和说明书中定义的相同。

公开(公告)号：CN101086620B

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN200710108240.3

申请日：2007-06-04

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 原田由香子 ,  吉田勋 ,  山口训史

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种式(I)表示的盐，其中，X表示n-价连接基团，Y1和Y2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，n表示2或3，并且A+表示有机抗衡离子。本发明进一步提供一种含有上述式(I)表示的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN102146064A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN201110006946.5

申请日：2011-01-10

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山口训史 ,  市川幸司

IPC: C07D295/088 ,  C07D295/096 ,  C07D295/15 ,  C07D295/155 ,  C07D333/46 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  C07C17/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D295/088 ,  C07D295/096 ,  C07D295/15 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物。所述盐由式(I)表示，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，L1表示*-CO-O-La-或*-CH2-O-Lb-，*表示与-C(Q1)(Q2)-的结合位置，La和Lb独立地表示C1-C15二价饱和烃基，在所述C1-C15二价饱和烃基中，一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，环W1表示C2-C36含氮杂环基，在所述C2-C36含氮杂环基中，一个或多个-CH2-可以被-O-代替，并且Z1⊕表示有机抗衡离子。

公开(公告)号：CN102033426A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN201010291997.2

申请日：2010-09-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山口训史 ,  金淳信 ,  吉田勋 ,  市川幸司

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物，其包含具有酸敏基团且不溶或难溶于碱性水溶液但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液中的树脂、产酸剂和式(I)表示的化合物：其中Z1表示C7-C20亚烷基、C3-C20二价饱和环基或通过结合至少一个C1-C6亚烷基与至少一个C3-C20二价饱和环基而形成的二价基团。

公开(公告)号：CN1645254B

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：CN200510004738.6

申请日：2005-01-18

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 武元一树 ,  桥本和彦 ,  山口训史

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：(A)一种树脂和(B)一种酸生成剂，所述的树脂包含(i)5至50摩尔％的式(I)的结构单元、(ii)5至50摩尔％的式(II)的结构单元，和(iii)5至50摩尔％的至少一种选自由式(III)和(IV)组成的组的结构单元。本发明组合物适用于使用ArF、KrF等的受激准分子激光平版印刷，并显示了各种显著的光刻胶性能，特别地，赋予因此得到的光刻胶图案更好的有效敏感度和清晰度，且尤其是，赋予优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度。

公开(公告)号：CN101581882A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200910140907.7

申请日：2009-05-12

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 釜渊明 ,  山口训史

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046

Abstract: 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，所述化学放大型正性抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂，所述树脂包含侧链具有酸－不稳定基团的结构单元以及由式(I)表示的结构单元，在式(I)中，R1表示氢原子等，R’和R”独立地为氢原子等，k表示1至12的整数，R独立地为C1－C6烷基等，并且x表示0至7的整数；所述酸生成剂由式(V)表示，在所述式(V)中，Y1和Y2各自独立表示氟原子等，R12表示可以被取代的C1－C30直链、支链或环状烃基，并且A+表示有机抗衡离子。