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公开(公告)号：CN1940726A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610139932.X
申请日：2006-09-27
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28
Abstract: 一种制备化学放大正性光刻胶用树脂的方法，该方法包括将至少一种单体和/或至少一种已聚合的低聚物进行聚合，从而提供化学放大正性光刻胶用树脂的步骤，其中采用两种或更多种聚合引发剂以引发聚合，由此以高产率获得树脂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101021683B
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN200710079265.5
申请日：2007-02-13
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供了化学放大光刻胶组合物，其包含：树脂(A)，其不含有氟原子，而含有具有酸不稳定基团的结构单元(a1)；树脂(B)，其含有具有含氟基团的结构单元(b2)和选自具有酸不稳定基团的结构单元(b1)、具有羟基的结构单元(b3)和具有内酯结构的结构单元(b4)的至少一种结构单元；和产酸剂。
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公开(公告)号：CN101928369A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010217436.8
申请日：2010-06-23
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F222/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/24 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C08F224/00 , C08F220/10 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/14 , C08F226/06 , C08F228/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种树脂和抗蚀剂组合物。所述树脂包含衍生自由式(aa)表示的化合物的结构单元，其中T表示C4至C36脂环族烃基，所述脂环族烃基中所含的氢原子可以被卤素原子，羟基，任选被卤素原子或羟基取代的C1至C12烷基，C1至C12烷氧基，C6至C12芳基，C7至C12芳烷基，缩水甘油基氧基，C2至C4酰基，烷氧羰基，烷酰氧基烷基或氰基代替，并且所述脂环族烃基中所含的-CH2-被至少一个-SO2-代替并且还可以被-CO-，-O-，-S-，-SO2-或-N(Rc)-代替；Rc表示氢原子或C1至C6烷基；R1表示氢原子，卤素原子，或表示可以任选具有卤素原子的C1至C6烷基；并且Z1表示任选取代的C1至C17饱和烃基，并且所述饱和烃基中所含的-CH2-可以被-CO-，-O-，-S-或-N(Rc)-代替。
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公开(公告)号：CN101566797A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200910135319.4
申请日：2009-04-20
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395 , G03F7/2041 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型抗蚀剂组合物，所述组合物包含树脂(A)、树脂(B)和产酸剂，所述树脂(A)不含氟原子而含侧链中有酸不稳定性基团的结构单元(a1)，所述树脂(B)含侧链中有含氟基团的结构单元(b2)和至少一种选自有酸不稳定性基团的结构单元(b1)、有羟基的结构单元(b3)和侧链中有内酯结构的结构单元(b4)的结构单元，其中基于所述树脂(B)的所有单元，所述结构单元(b1)的含量低于10摩尔％。
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公开(公告)号：CN101546126A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910118251.9
申请日：2009-03-03
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/2041 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122
Abstract: 本发明的目的在于提供不会影响作为功能性树脂组合物的基本特性、能进一步提高析像度的化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物。该化学放大型抗蚀剂组合物含有树脂和产酸剂，所述树脂含有在侧链具有对酸不稳定的基团的结构单元、式(I)表示的结构单元、以及具有多环式内酯结构的结构单元，并且所述树脂本身为可溶于有机溶剂，不溶或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液的树脂，所述产酸剂是式(II)A+E－(II)表示的产酸剂。
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公开(公告)号：CN101021683A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200710079265.5
申请日：2007-02-13
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供了化学放大光刻胶组合物，其包含：树脂(A)，其不含有氟原子，而含有具有酸不稳定基团的结构单元(a1)；树脂(B)，其含有具有含氟基团的结构单元(b2)和选自具有酸不稳定基团的结构单元(b1)、具有羟基的结构单元(b3)和具有内酯结构的结构单元(b4)的至少一种结构单元；和产酸剂。
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