公开(公告)号：CN110790928B

公开(公告)日：2022-06-07

申请号：CN201910708540.8

申请日：2019-08-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 竹村胜也 ,  饭尾匡史 ,  浦野宏之 ,  本田和也

IPC: C08G73/10 ,  C08J5/18 ,  G03F7/039 ,  C08L79/08

Abstract: 本发明的目的在于提供一种聚合物，其易溶于广泛使用且安全的有机溶剂，可溶于碱性水溶液，且能够作为可形成精细图案并能够得到高分辨率的正型光敏树脂组合物的基础树脂而使用。所述聚合物具有聚酰胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰亚胺结构单元，其特征在于，所述聚合物选自聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体，所述聚合物包含二胺与下述通式(3)所表示的四羧酸二酐及下述通式(4)所表示的二羧酸或二羧酸卤化物中的任意一种以上的反应生成物，所述二胺含有下述通式(1)所表示的二胺及通式(2)所表示的二胺中的任意一种以上。[化学式1][化学式2][化学式3][化学式4]。

公开(公告)号：CN113527680A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202011486388.2

申请日：2020-12-16

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： 德米特里·祖巴列夫 ,  浦野宏之 ,  竹村胜也 ,  饭尾匡史 ,  本田和也 ,  河合义夫

IPC: C08G73/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种聚合物，该聚合物能够用作可溶于碱性水溶液、可形成微细图案、可获得高分辨率，并且即使在低温下进行固化时机械特性仍良好的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物的基础树脂。此外，还提供使用了所述聚合物的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物。所述聚合物的特征在于，含有下述通式(1)和/或(2)表示的结构单元。式中，T1、T2任选彼此相同或不同，表示‑CO‑、‑SO2‑中的任意一种，X1为4价有机基团，l为0或1。式中，T1、T2、l与所述T1、T2、l相同，X2为2价有机基团。

公开(公告)号：CN107544206B

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201710504684.2

申请日：2017-06-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  藤原敬之 ,  福岛将大 ,  本田和也

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C25/18 ,  C07D279/20 ,  C07D333/76 ,  C07D327/08

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明的抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含有碘代苯甲酰氧基的氟代磺酸的锍盐或碘鎓盐，无论其为正型或负型，都提供高感光度和最小的LWR或改善的CDU。

公开(公告)号：CN110963952A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910920497.1

申请日：2019-09-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  本田和也 ,  须贺祐辉 ,  计良祐纪

IPC: C07C381/12 ,  C07C317/12 ,  C07C25/18 ,  C07C317/04 ,  C07C317/08 ,  C07C317/18 ,  C07C317/14 ,  C07C317/24 ,  C07D327/08 ,  C07D333/76 ,  C07D279/20 ,  C07D335/16 ,  C07D339/08 ,  C07D335/12 ,  C07D333/08 ,  C07D335/02 ,  C07D327/06 ,  C07C211/63 ,  C07C211/64 ,  C07D277/10 ,  C07C215/40 ,  C07D487/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供具有式(1)的新型鎓盐和包含该鎓盐作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当使用高能辐射通过光刻法加工抗蚀剂组合物时，形成抗蚀剂图案，其在LWR和CDU方面得到改善。在式(1)中，R1、R2和R3各自为含有除氟以外的杂原子的C1-C20一价烃基，Z+为锍、碘鎓或铵阳离子。

公开(公告)号：CN119439625A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411047002.6

申请日：2024-08-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 浦野宏之 ,  饭尾匡史 ,  渡边修 ,  竹村胜也 ,  本田和也

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/075

Abstract: [课题]提供一种负型感光性树脂组合物、图案形成方法、固化覆膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜和电子部件，所述负型感光性树脂组合物可溶于碱水溶液，能够形成微细的图案且能够得到高分辨率，并且，即便在低温下进行固化的情况下，断裂伸长率、拉伸强度之类的机械特性也良好，进而，高温高湿试验前后的密合力不会劣化。[解决手段]一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包含(A)聚合物、(B)光产酸剂、(C)交联剂、(D)溶剂，所述(A)聚合物包含下述通式(1)和/或(2)所示的结构单元，且包含下述通式(3)和/或(4)所示的结构单元。#imgabs0#

公开(公告)号：CN107935899B

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201710945782.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  本田和也 ,  铃木贵大

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1‑C20一价烃基，p＝0‑5，q＝0‑5，并且r＝0‑4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN107935899A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201710945782.X

申请日：2017-10-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  本田和也 ,  铃木贵大

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1-C20一价烃基，p＝0-5，q＝0-5，并且r＝0-4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。