半导体基板的清洗干燥方法

    公开(公告)号:CN108807140B

    公开(公告)日:2023-11-07

    申请号:CN201810366118.4

    申请日:2018-04-23

    Abstract: 本发明提供一种半导体基板的清洗干燥方法,其可在不用特殊装置的情况下,抑制对清洗基板后的清洗液进行干燥时发生的图案倒塌或损坏及图案底部的树脂分解,能有效去除清洗液,其特征在于包括以下工序:(I)用清洗液清洗形成图案的半导体基板;(II)用包含含通式(1)所示的重复单元的树脂(A)及溶剂的组合物置换所述基板上残留的清洗液并以小于所述树脂(A)的分解温度的温度加热去除该已置换的组合物中的溶剂;(III)通过将所述半导体基板保持0℃以上且小于所述树脂(A)的分解温度的温度并同时对所述树脂(A)吹气温度为所述树脂(A)的分解温度以上的气体,从与所述气体接触的表面侧分解去除所述树脂(A)。#imgabs0#

    正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜及其制造方法、图案形成方法

    公开(公告)号:CN115113484A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210288306.6

    申请日:2022-03-22

    Abstract: 本发明涉及正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜及其制造方法、图案形成方法。本发明的课题是为了提供在碱水溶液中为可溶,不会损及保护被膜的机械特性、密接性等优良的特征并能获得高分辨率,且即使在低温硬化时,机械特性、对基板的密接性仍良好的正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜。该课题的解决手段是一种正型感光性树脂组成物,其特征为含有:(A)含有选自聚酰亚胺结构、聚酰胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱物结构中的至少1种以上的结构的碱可溶性树脂,(B)具有环化聚合而成的结构单元的高分子化合物,及(C)因光而产生酸并使其对碱水溶液的溶解速度增加的感光剂,且具有重氮醌结构的化合物。

    正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜及其制造方法、图案形成方法

    公开(公告)号:CN114063388A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202110885231.5

    申请日:2021-08-03

    Abstract: 本发明涉及正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜及其制造方法、图案形成方法。本发明的课题旨在提供可形成微细图案,并可获得高分辨率,且即使于低温硬化时,机械特性亦良好,而且无于高温高湿试验前后的密接力劣化的正型感光性树脂组成物、及正型感光性干薄膜。一种正型感光性树脂组成物,含有:(A)碱可溶性树脂,含有选自聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的至少1种以上的结构;(B)交联性高分子化合物,含有下列通式(1)表示的结构单元,且具有会与(A)成分交联的基团;及(C)感光剂,是因光而产生酸且对于碱水溶液的溶解速度增大的感光剂,为具有醌二叠氮化物结构的化合物。

    负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜

    公开(公告)号:CN114063387A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202110884911.5

    申请日:2021-08-03

    Abstract: 本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜。本发明的课题是提供能形成矩形性高的微细图案并可获得高分辨率,且即使于低温硬化时机械特性亦良好,而且高温高湿试验前后的密接力不会劣化的负型感光性树脂组成物。一种负型感光性树脂组成物,含有:(A)碱可溶性树脂,含有选自聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的至少1种以上的结构;(B)交联性高分子化合物,含有下列通式(1)表示的结构单元,且具有会与(A)成分交联的基团;(C)因光而产生酸的化合物;及(D)热交联剂。

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