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公开(公告)号：CN118112887A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311617357.X
申请日：2023-11-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光刻中，抗图案崩塌且极限分辨性优异，又感度、LWR亦经改善的抗蚀剂组成物；以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂组成物，包含：(A)含有包含具有酸不稳定基团的重复单元的聚合物的基础聚合物、(B)有机溶剂、及(C)下式(1)表示的鎓盐。zq+xq‑(1)式中，Zq+为锍阳离子、錪阳离子或铵阳离子。Xq‑为阴离子。但，将Xq‑作为共轭碱的酸(XqH)，其沸点未满165℃且分子量是150以下。
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公开(公告)号：CN111793054B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202010256383.4
申请日：2020-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D319/06 , C07D321/06 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07D333/48 , C07D307/00 , C07D317/18 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。
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公开(公告)号：CN110885282B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201910856590.0
申请日：2019-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C25/18 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07C43/225 , C07D207/27 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN109426080B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201810957182.X
申请日：2018-08-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/28 , C08F220/20 , C08F220/38 , C07C67/297 , C07C69/54 , C07D493/08 , C07D493/18 , C07D307/00
Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN110885282A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910856590.0
申请日：2019-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C25/18 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07C43/225 , C07D207/27 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105717744A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201510955723.1
申请日：2015-12-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F220/38 , C07C69/533 , C07C69/54
Abstract: 提供具有多个叔醇羟基的单体。通过将该单体聚合而得到的有用的聚合物。由包含该聚合物的抗蚀剂组合物，以高分辨率形成在碱显影剂中不可溶并且具有高耐蚀刻性的负型图案。
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公开(公告)号：CN118812766A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467831.3
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/18 , C07C69/54 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C69/90 , C07C69/92 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C309/73 , C07D333/76 , C08F212/14 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、图案形成方法、及单体。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及提供含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、图案形成方法、及为前述抗蚀剂材料的原料的单体。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为：含有含自聚合物主链间隔酯键而键结的有取代或无取代的经碘化的1价芳香族羧酸的锍盐或錪盐的重复单元a。
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公开(公告)号：CN116136645A
公开(公告)日：2023-05-19
申请号：CN202211459788.3
申请日：2022-11-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在使用高能射线的光学光刻中为高感度且LWR及CDU有所改善的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用此组成物的图案形成方法。一种化学增幅抗蚀剂组成物，包含：(A)聚合物P，因酸作用而改变对于显影液的溶解性，包含具有含有预定的含氟原子的芳香环的酸不稳定基团的重复单元、具有苯酚性羟基的重复单元及预定的因曝光而产酸的重复单元；(B)鎓盐型淬灭剂；及(C)溶剂。
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公开(公告)号：CN111440104B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202010046427.0
申请日：2020-01-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D307/33 , C07D307/93 , C07D327/06 , C07D333/76 , C07D495/08 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。
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公开(公告)号：CN108623506B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN201810234145.6
申请日：2018-03-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/12 , C07C309/30 , C07C309/31 , C07C303/32 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07D335/02 , C07D333/46 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1][化学式2]
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