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公开(公告)号：CN103424986B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201310182369.4
申请日：2013-05-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: B29C33/3842 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03C15/00 , C03C17/00 , C03C17/23 , C03C17/3665 , C04B35/047 , C04B35/105 , C04B35/12 , C04B35/56 , C04B35/58 , G03F1/24 , G03F1/26 , G03F1/48 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/0002
Abstract: 本发明涉及模具制作用坯料及模具的制造方法。本发明提供能够在确保由铬系材料构成的硬掩模膜的硬掩模功能的同时通过提高该硬掩模膜的干蚀刻速度来提高蚀刻加工性的新技术。设置在衬底(1)上的硬掩模膜(2)由含有锡的铬系材料形成。对于构成硬掩模膜(2)的含有锡的铬系材料而言，对氟类干蚀刻条件的蚀刻耐性与不含锡的铬系材料膜的蚀刻耐性同等或者在其以上，而且在氯类干蚀刻条件下显示出与不含锡的铬系材料膜相比显著高的蚀刻速度。结果，氟类干蚀刻的时间缩短而减轻对抗蚀剂图案的损伤，能够以高精度进行图案转印。
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公开(公告)号：CN103424981B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201310182377.9
申请日：2013-05-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明涉及半色调相移掩模坯料以及半色调相移掩模的制造方法。本发明提供能够在确保由铬系材料构成的遮光膜所要求的光学特性和化学特性等各种特性的同时提高该遮光膜的干蚀刻速度的新技术。在透明衬底(1)上层叠有半色调相移膜(2)和遮光膜(3)。遮光膜(3)具有单层结构或多层结构，至少一层由含有锡的铬系材料形成。另外，半色调相移膜(2)由氮氧化硅钼构成。由含有锡的铬系材料构成的层能够在不使遮光性降低的情况下显著提高含氧的氯类干蚀刻时的蚀刻速度。因此，将图案转印到该遮光膜上时对抗蚀剂图案和硬掩模图案的负荷得到减轻，能够以高精度进行图案转印。
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公开(公告)号：CN110554563B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN201910460886.0
申请日：2019-05-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模。具体提供一种光掩模坯料，其在基板上包括加工膜和由含铬材料制成的膜，所述由含铬材料制成的膜形成为与加工膜接触并具有第一、第二和第三层的三层结构，所述第一、第二和第三层的每个层都含铬、氧和氮，其中第一层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下，厚度为20nm以上，第二层的铬含量为50原子％以上，氧含量为20原子％以下，氮含量为30原子％以上，第三层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下。
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公开(公告)号：CN113867098A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202110731603.9
申请日：2021-06-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 笹本纮平
Abstract: 本发明涉及光掩模的制造方法和光掩模坯。通过如下方法由光掩模坯制造光掩模，该光掩模坯包括透明基板、包含硅且不含铬的第一无机膜和包含铬且不含硅的第二无机膜，该第二无机膜与该第一无机膜接触，该方法包括如下步骤：使用抗蚀剂图案通过氟系干蚀刻形成第二无机膜的图案，以及使用第二无机膜的图案通过氟系干蚀刻形成第一无机膜的图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106502041B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201610788932.6
申请日：2016-08-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 笹本纮平
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明涉及光掩模坯，其包含透明衬底和含铬膜。所述含铬膜由包含Cr、N和可选的O的铬化合物形成，并且具有如下组成：Cr+N+O总含量≥93at％，且满足式：3Cr≤2O+3N。满足第一组成的铬化合物层的厚度在所述含铬膜的总厚度的10％～70％的范围内，所述第一组成是：N/Cr原子比≥0.95，Cr含量≥40at％，Cr+N含量≥80at％，O含量≤10at％。
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公开(公告)号：CN106019810B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201610195663.2
申请日：2016-03-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明提供半色调相移掩模坯，包括透明基板和半色调相移膜，该半色调相移膜由具有至少90at％的Si+N+O含量、30‑70at％的Si含量、30‑60at％的N+O含量和30at％以下的O含量的硅基材料组成，并且具有70nm以下的厚度。该半色调相移膜对于掩模图案加工足够薄，在曝光于亚200nm辐照时经历最小的图案尺寸变动劣化并且保持必要的相移和透射率。
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公开(公告)号：CN110554563A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910460886.0
申请日：2019-05-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种光掩模坯料、制造光掩模的方法和光掩模。具体提供一种光掩模坯料，其在基板上包括加工膜和由含铬材料制成的膜，所述由含铬材料制成的膜形成为与加工膜接触并具有第一、第二和第三层的三层结构，所述第一、第二和第三层的每个层都含铬、氧和氮，其中第一层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下，厚度为20nm以上，第二层的铬含量为50原子％以上，氧含量为20原子％以下，氮含量为30原子％以上，第三层的铬含量为40原子％以下，氧含量为50原子％以上，氮含量为10原子％以下。
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公开(公告)号：CN103424983B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201310182144.9
申请日：2013-05-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模坯料及光掩模的制造方法。本发明在确保由铬系材料构成的膜的化学特性等各种特性的同时减轻对该铬系材料膜进行蚀刻时对光致抗蚀剂的负荷。在透明衬底(1)上形成有遮光膜(2)，在该遮光膜(2)上设置有硬掩模膜(3)。硬掩模膜(3)整体由含有锡的铬系材料构成。由含有锡的铬系材料构成的膜能够显著提高氯类干蚀刻时的蚀刻速度。并且，与由将铬的一部分置换成轻元素的铬系材料构成的膜相比，对氟类干蚀刻具有同等以上的蚀刻耐性。因此，对用于加工硬掩模膜的光致抗蚀剂的蚀刻负荷得到减轻，即使在使抗蚀剂膜减薄的情况下也能够进行高精度的图案转印。
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公开(公告)号：CN106324978A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610509880.4
申请日：2016-07-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及无机材料膜、光掩模坯料及光掩模的制造方法。能够确保与以往的铬系材料膜同等的特性并且能够提高干蚀刻速度。如果是以0.1原子％以上且11.5原子％以下的浓度范围含有锡的无机材料膜，则可以避免锡局部存在而形成粒子、该粒子成为光学膜中的缺陷的问题。本发明的无机材料膜为通过溅射成膜的包含铬系材料的光掩模坯料用的无机材料膜，该无机材料膜包含具有导电性的遮光层，该遮光层含有0.1原子％以上且11.5原子％以下的锡和15原子％以下的氧。另外，氧浓度的下限例如为3原子％。另外，无机材料膜具有导电性，但利用电阻率进行评价时，优选为5000Ω/cm2以下。
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