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公开(公告)号:CN101909859B
公开(公告)日:2015-02-04
申请号:CN200880122606.5
申请日:2008-11-19
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29C59/04 , B29C2059/023 , B29D11/00346 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种辊型纳米压印装置,其能够防止由模具辊转印纳米构造后的被转印膜的厚度不均匀,另外,能够容易地更换模具辊。本发明是通过转动模具辊在被转印膜的表面连续形成纳米尺寸的突起的辊型纳米压印装置,上述模具辊是在外周面形成有纳米尺寸的凹坑的圆筒体,上述纳米压印装置是如下辊型纳米压印装置:在被上述模具辊的内周面包围的区域,具有具备通过流体的注入能够膨胀的弹性膜的流体容器,在使上述弹性膜收缩的状态下进行模具辊的装卸,在使上述弹性膜膨胀的状态下从内侧保持模具辊。
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公开(公告)号:CN103635776A
公开(公告)日:2014-03-12
申请号:CN201280033095.6
申请日:2012-06-29
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供能非破坏、精度良好地检查具有凹凸形状的检查对象的形状检查方法、结构物的制造方法以及形状检查装置。本发明的形状检查方法是对表面具有凹凸形状的标准样品和表面具有凹凸形状的检查对象照射光,比较上述标准样品的多个波长的反射率和上述检查对象的上述多个波长的反射率,由此检查上述检查对象的上述凹凸形状的形状检查方法。
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公开(公告)号:CN103228820A
公开(公告)日:2013-07-31
申请号:CN201180057110.6
申请日:2011-11-25
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C25D17/005 , C25D11/005 , C25D11/04 , C25D11/24 , C25D17/10
Abstract: 本发明的电极结构(100)具备:铝电极(10),其与铝基材的表面接触;固定部件(20),其将铝电极(10)固定于铝基材的表面;弹性部件(30),其配置于固定部件(20)和铝基材之间;引线(40),其至少在有的条件下与铝电极(10)电连接;以及盖部件(50),其以引线(40)贯通了开口部(50a)的状态被封闭。
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公开(公告)号:CN102791909A
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN201180012799.0
申请日:2011-03-08
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: G02B1/118 , B29C33/424 , B29C33/565 , B29C45/26 , B29C45/372 , C25D11/04 , C25D11/045 , C25D11/12 , C25D11/16 , C25D11/18
Abstract: 本发明的阳极氧化层的形成方法包含:工序(a),准备已形成于支撑体(12)的第1主面上的铝膜(16);和工序(b),对铝膜(16)的表面进行阳极氧化,由此形成具有多个微细凹部(18pa、18pb)的多孔氧化铝层(18),在工序(a)中,在支撑体(12)的与第1主面相反的一侧的第2主面上设置具有规定图案的低热传导部件(22)。根据本发明,能够形成以规定图案具备微细结构相互不同的区域的多孔氧化铝层。
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公开(公告)号:CN101909858A
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:CN200880122604.6
申请日:2008-11-07
Applicant: 夏普株式会社
IPC: B29C59/04 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , B29L11/00
CPC classification number: G02B1/118 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29C2791/001 , B29K2105/243 , G02B5/208
Abstract: 本发明提供一种即使在薄膜的基材具有紫外线吸收能力的情况下也能够高效地制造出精度高的纳米压印薄膜的方法。本发明的纳米压印薄膜的制造方法是一种形成在基材上的、在表面具有纳米尺寸的凹凸的纳米压印薄膜的制造方法,上述制造方法包括:第一工序,在包含紫外线吸收成分的基材上涂敷具有紫外线固化性的树脂来形成膜;第二工序,从上述膜的表面侧照射紫外线来形成半固化的膜;第三工序,对上述半固化的膜的表面进行凹凸处理来形成具有凹凸面的膜;以及第四工序,对上述具有凹凸面的膜进行固化处理来得到纳米压印薄膜。
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公开(公告)号:CN109475901B
公开(公告)日:2021-12-14
申请号:CN201780043471.2
申请日:2017-07-03
Abstract: 本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法,包括:将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1);在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2);在将上述树脂夹在中间的状态下,将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面,在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3);以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化,形成上述聚合物层的工序(4),上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂,上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的,上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。
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公开(公告)号:CN108026298B
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN201680053976.2
申请日:2016-08-24
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 一种具备具有多个凸部(35p)、(36p)的表面的合成高分子膜(35)、(36),当从合成高分子膜的法线方向观察时,多个凸部的二维尺寸处于超过20nm且小于500nm的范围内,且表面具有杀菌效果,所述合成高分子膜(35)、(36)含有氟元素,氟含量在厚度方向上不固定,具有凸部侧的氟含量高于凸部侧的相反侧的分布。
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公开(公告)号:CN108495720B
公开(公告)日:2020-08-25
申请号:CN201780005426.8
申请日:2017-07-03
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜,所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置,所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子,通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom%以上,往深度方向远离上述凹凸构造的表面90~120nm的区域的平均值为3atom%以下,通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90~120nm的区域的平均值为4atom%以下。
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公开(公告)号:CN108138331B
公开(公告)日:2020-07-14
申请号:CN201680060184.8
申请日:2016-10-06
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 对圆柱状或圆筒状的基材(12)的表面进行处理的方法包含:(a)在以基材的长轴方向与水平方向大致平行的方式对基材进行了配置的状态下,以基材的长轴为中心使所述基材旋转的工序;以及(b)使基材的外周面的一部分与第一蚀刻槽(51)所收容的第一蚀刻液(E1)接触的工序。
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公开(公告)号:CN106332553A
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201680000545.X
申请日:2016-02-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: B29D11/00788 , B29C33/62 , B29C35/0805 , B29C59/026 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2033/04 , B29K2105/0002 , B29K2105/0005 , B29K2995/0087 , B29K2995/0097 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/30 , B32B37/15 , B32B38/06 , B32B2551/00 , C08F290/067 , C08L75/16 , C09D5/006 , C09D5/1662 , C09D5/1681 , C09D5/1693 , C09D133/08 , C09D133/24 , C09D175/16 , G02B1/118 , G02B1/14 , G02B1/18 , C08F222/1006 , G02B1/111
Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括:工序(1),涂敷下层树脂和上层树脂;工序(2),在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下,将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂,形成在表面具有凹凸结构的树脂层;以及工序(3),使上述树脂层固化,上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体,上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体,上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体,并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。
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