防污性膜的制造方法
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109475901B

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN201780043471.2

    申请日:2017-07-03

    Abstract: 本发明提供一种能以长期间连续制造防污性优异的防污性膜的防污性膜的制造方法。本发明的防污性膜的制造方法是具备在表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构的聚合物层的防污性膜的制造方法,包括:将树脂涂敷到基材的表面上的工序(1);在涂敷有第一脱模剂的模具的表面上涂敷第二脱模剂的工序(2);在将上述树脂夹在中间的状态下,将上述基材按压到上述模具的涂敷有上述第二脱模剂的表面,在上述树脂的表面形成上述凹凸结构的工序(3);以及使在表面具有上述凹凸结构的上述树脂固化,形成上述聚合物层的工序(4),上述树脂含有包含规定的化合物而成的防污剂,上述第一脱模剂是包含规定的化合物而成的,上述第二脱模剂是包含规定的化合物而成的。

    防污性薄膜
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108495720B

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN201780005426.8

    申请日:2017-07-03

    Abstract: 本发明提供防污性以及耐磨性优良的防污性薄膜。本发明为具备在表面具有凹凸构造的聚合体层的防污性薄膜,所述凹凸构造为多个凸部以可见光波长以下的间隔设置,所述聚合体层含有碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子,通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例为在上述凹凸构造的表面为33atom%以上,往深度方向远离上述凹凸构造的表面90~120nm的区域的平均值为3atom%以下,通过X射线光电子能谱法测量的氮原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在往深度方向远离上述凹凸构造的表面90~120nm的区域的平均值为4atom%以下。

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