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公开(公告)号：CN101855939A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200880115346.9
申请日：2008-11-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L51/5268 , H01L51/56 , H01L2251/5346 , H01L2251/5361 , H01L2251/5392 , H05B33/10 , H05B33/22
Abstract: 本发明提供提取效率最大提高到发射光的80％的有机LED元件，本发明提供一种透光性基板，包含：透光性玻璃基板；在所述玻璃基板上形成的包含玻璃的散射层，所述散射层包含对于透射光的至少一个波长具有第一折射率的基材、和分散在所述基材中并且具有与所述基材不同的第二折射率的许多散射物质；和在所述散射层上形成的、具有高于所述第一折射率的第三折射率的透光性电极，所述散射物质在所述散射层内的分布向所述透光性电极减少。
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公开(公告)号：CN101766052A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200880100726.5
申请日：2008-07-24
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L51/5268 , H01L2924/16152 , H05B33/02 , H05B33/10 , H05B33/22
Abstract: 本发明提供提取效率最大提高到发射光的80％的有机LED元件。本发明的带电极透光性基板，包含：透光性基板；在透光性基板上形成的散射层，所述散射层包含对于有机LED元件的发射光的波长中的至少一个波长具有第一折射率的基材、和位于基材内部并且具有与基材不同的第二折射率的许多散射物质；和在散射层上形成的、具有与第一折射率相同或者更低的第三折射率的透光性电极，其特征在于，所述散射物质在所述散射层内的分布从所述散射层内部向所述透光性电极减少。
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公开(公告)号：CN1914695B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200580004070.3
申请日：2005-02-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C2217/231 , C03C2218/154 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , G02F1/13439 , H01J9/02 , H01J2217/04 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供由能够很容易地形成布线图案、且可以低成本实现低电阻的透明度良好的氧化锡膜形成的透明电极的制造方法。该透明电极的制造方法是在基板上形成了制作有布线图案的氧化锡膜的透明电极的制造方法，该方法的特征在于，包括在基板上形成具有吸光性的氧化锡膜的工序，用蚀刻液溶解具有吸光性的氧化锡膜的一部分以制作布线图案的工序，对形成了布线图案的具有吸光性的氧化锡膜进行加热处理以获得氧化锡膜的工序。
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公开(公告)号：CN101460651A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200780020719.X
申请日：2007-06-08
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C23C14/34 , C04B35/457 , G02F1/1343 , H01B5/14 , H01B13/00
CPC classification number: C23C14/3414 , C04B35/457 , C04B2235/3206 , C04B2235/3217 , C04B2235/3232 , C04B2235/3244 , C04B2235/3251 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C23C14/086 , G02F1/13439
Abstract: 本发明提供适合于通过DC溅射法、DC脉冲溅射法和AC溅射法形成透明导电膜的氧化锡类靶材。所述溅射靶材是用溅射法形成透明导电膜时所使用的溅射靶材，其特征在于，以氧化锡为主要成分，包含选自A掺杂剂组的至少一种元素以及选自B掺杂剂组的至少一种元素作为掺杂剂，A掺杂剂组包括锌、铌、钛、镁、铝和锆，B掺杂剂组包括钨、钽和钼。
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