公开(公告)号：CN102939648B

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201180027087.6

申请日：2011-05-25

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 置田尚吾 ,  大西康博

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/677 ,  H05H1/46

CPC classification number: B44C1/227 ,  H01J37/32779 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/681 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H05H2001/4675 ,  Y10S438/973

Abstract: 等离子处理装置(1)具备贮存部(2)、处理部(5)、校准室(4)。贮存部(2)供给并回收在多个收容孔(7a)内分别收容有晶片(W)的可搬运的托盘(7)。处理室(5)对在从贮存部(2)供给的托盘(7)收容的晶片(W)执行等离子处理。校准室(4)具备载置等离子处理前的托盘(7)的旋转工作台(41)，并进行该旋转工作台(41)上的晶片(W)的定位。控制装置(6)的收容状态判断部(6b)使用由高度检测传感器(44A～44D)检测出的高度来判断晶片(W)是否相对于托盘(7)的收容孔(7a)产生错位。

公开(公告)号：CN101258786B

公开(公告)日：2012-08-29

申请号：CN200680032251.1

申请日：2006-09-01

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 奥村智洋 ,  伊藤裕之 ,  佐佐木雄一朗 ,  冈下胜己 ,  水野文二 ,  中山一郎 ,  置田尚吾 ,  永井久雄

IPC: H05H1/46

CPC classification number: H01J37/321

Abstract: 实现了均匀性出色的等离子体掺杂。当预定气体从气体供应设备引入真空容器时，该真空容器通过排气孔藉由作为排气装置的涡轮分子泵被排气，且通过压力调节阀在真空容器内维持预定压力。通过将13.56MHz的高频功率从高频电源供应到置为与样品电极对立的介电质窗口附近的线圈，由此在真空容器内产生感应耦合等离子体。介电质窗口是由多个介电质板组成，且槽形成于相互对立的至少两个介电质板的至少一侧内。气体通道由该槽和其对立的平坦表面形成，且设置于最靠近样品电极的介电质板内的气体排出口被允许连通介电质窗口内的槽。从气体排出口引入的气体的流速可以独立地被控制，且处理的均匀性可以提高。