半导体激光装置
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101483318B

    公开(公告)日:2011-11-23

    申请号:CN200910001611.7

    申请日:2009-01-09

    Abstract: 提供一种抑制活性层发生结晶缺陷,并改善对发光点施加的应力的非对称性,从而可防止可靠性降低且提高偏光特性的半导体激光装置。在由n型GaAs构成的基板(10)上集成有红色激光部(1)和红外激光部(2)。在红色激光部(1)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(14)、和红外激光部(2)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(24),分别设置有具有发光点的脊条部,在各脊条部的两侧方形成有由SiNx构成的电流阻碍层(15A),在电流阻碍层(15A)上的各脊条部的外侧的区域中,选择性形成有由ZrO2构成的应变缓和层(15B)。当设p型金属包层(14、24)的热膨胀系数为Tc、电流阻碍层(15A)的热膨胀系数为Tb、应变缓和层(15B)的热膨胀系数为Tc时,满足Tb<Tc<Ts的关系。

    氮化物半导体激光装置
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102130424A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201110025560.9

    申请日:2011-01-20

    CPC classification number: H01S5/34333 B82Y20/00 H01S5/0655 H01S5/2022 H01S5/22

    Abstract: 本发明提供一种氮化物半导体激光装置,其即便使激光束的功率高输出化,也能够使FFP(远视野图像)特性稳定且广角化。其具有:在n型复合层(2)之上形成的活性层(4);形成在活性层之上,且具有沿光的射出方向延伸的剖面凸状的脊形部(6a)和位于该脊形部的两侧方的平坦部(6b)的p型复合层(6);形成在两平坦部之上,且具有比p型复合层大的光吸收系数的光吸收层(9);在包含光吸收层的、p型复合层的上表面及脊形部的侧面形成的绝缘膜(8)。光吸收层具有设置在射出端面侧且脊形部中心到光吸收层的脊形部侧的端面的距离为Di1的第一区域、设置在射出端面的相反侧且脊形部中心到光吸收层的脊形部侧的端面的距离为Di2的第二区域,其中Di1和Di2的关系满足Di1<Di2。

    半导体激光装置
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101483318A

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200910001611.7

    申请日:2009-01-09

    Abstract: 提供一种抑制活性层发生结晶缺陷,并改善对发光点施加的应力的非对称性,从而可防止可靠性降低且提高偏光特性的半导体激光装置。在由n型GaAs构成的基板(10)上集成有红色激光部(1)和红外激光部(2)。在红色激光部(1)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(14)、和红外激光部(2)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(24),分别设置有具有发光点的脊条部,在各脊条部的两侧方形成有由SiNx构成的电流阻碍层(15A),在电流阻碍层(15A)上的各脊条部的外侧的区域中,选择性形成有由ZrO2构成的应变缓和层(15B)。当设p型金属包层(14、24)的热膨胀系数为Tc、电流阻碍层(15A)的热膨胀系数为Tb、应变缓和层(15B)的热膨胀系数为Tc时,满足Tb<Tc<Ts的关系。

    半导体激光装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN1992454A

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200610110844.7

    申请日:2006-08-15

    Abstract: 本发明公开了半导体激光装置及其制造方法。目的在于:能够在形成在同一衬底上的多波长半导体激光装置中,再现性良好地获得可高温动作且具有低噪音特性的自振动型激光。在红外激光区域中,在衬底10上依次叠层有下侧覆盖层12、活性层13、第一上侧覆盖层14、蚀刻停止层15、以及成为脊部的第二上侧覆盖层16。在红色激光区域中,在衬底10上依次叠层有下侧覆盖层22、活性层23、第一上侧覆盖层24、蚀刻停止层25、以及成为脊部的第二上侧覆盖层26。红外激光的蚀刻停止层15的厚度与红色激光的蚀刻停止层25的厚度不同。

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