公开(公告)号：CN101866113A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN201010140711.0

申请日：2005-10-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 中野胜志 ,  奥村正彦 ,  杉原太郎 ,  水谷刚之 ,  藤原朋春

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。

公开(公告)号：CN100539019C

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200580031061.3

申请日：2005-09-16

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 水谷刚之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具备：喷嘴构件(70)，具有供给液体(LQ)的供给口(12)以及回收液体(LQ)的回收口(22)中的至少一者；和喷嘴调整机构(80)，根据衬底(P)的位置或姿势调整喷嘴构件(70)的位置以及倾斜中的至少任意一者。曝光装置在衬底(P)上形成液体(LQ)的浸液区域，隔着浸液区域的液体(LQ)对衬底(P)进行曝光。由此，可以将液体良好地保持在投影光学系统与衬底之间，进行高精度的曝光处理。

公开(公告)号：CN101258581A

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200680032751.5

申请日：2006-09-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内徹 ,  水谷刚之 ,  根井正洋 ,  滨谷正人 ,  奥村正彦

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70733

Abstract: 本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。

公开(公告)号：CN1902733A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200480039841.8

申请日：2004-12-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 水谷刚之

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70833 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70358

Abstract: 本发明提供一种曝光方法，使用具有保持带有在相互不同的方向延伸的光轴的光学系统的多个部分镜筒的反射折射投影光学系统将掩模上的图案转印到衬底上，其中，测量上述反射折射投影光学系统绕与上述掩模及上述衬底的至少一方交叉的光轴的旋转量，并且基于上述旋转量的测量结果，调整上述掩模及上述衬底的至少一方的、姿势和扫描方向中的至少一种。通过以抵消起因于投影光学系统的旋转的衬底上的投影像的旋转的方式对掩模及衬底的至少一方的姿势和扫描方向中的至少一种进行调整来曝光衬底，就可获得良好的曝光精度。