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公开(公告)号：CN100517569C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200580026943.0
申请日：2005-08-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G01M11/02 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70133 , G03F7/70141 , G03F7/70258 , G03F7/70566 , G03F7/706
Abstract: 提供一种光学特性测量装置及方法、曝光装置及方法、及组件制造方法。由于光学特性测量装置(90)中设有光学系统单元(93)，因此可一并测量照明光学系统之照明形状及大小、投影光学系统之波面像差、照明光之偏振状态。因此，例如在以变形照明之一种的偏振照明进行曝光时，只要根据该测量结果调整各种光学系统，即可实现高精度的曝光。其中，该光学系统单元(93)将用以使照明光通过的开口部(97)、用以测量波面像差之微透镜阵列(98)、用以测量照明光之偏振光检测系统(99)选择性地配置于照明光之光路上。
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公开(公告)号：CN117616341A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280047560.5
申请日：2022-06-30
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 为了以高生产量实现精度高的曝光，曝光装置具备：保持并移动基板的基板保持架；模块，其包括具有二维排列的光调制元件的空间光调制器、向所述空间光调制器照射照明光的照明单元、以及投影单元，该投影单元向在所述基板上沿第1方向以及垂直于所述第1方向的第2方向二维排列的光照射区域分别引导来自所述光调制元件的所述照明光；以及沿扫描方向驱动所述基板保持架的控制部，所述光调制元件相对于所述扫描方向以及与该扫描方向正交的非扫描方向倾斜规定角度θ来二维排列，0°＜θ＜90°，所述控制部在对所述基板的规定范围进行曝光时，以使表示向所述规定范围内照射的从所述光调制元件分别射出的所述照明光的中心的光点位置交错配置这样的速度，对所述基板保持架进行扫描。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117597629A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202280044799.7
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光装置具备：照明光学系统；空间光调制器，其由来自上述照明光学系统的光进行照明；投影光学系统，其将自上述空间光调制器射出的光照射于曝光对象；及平台，其供上述曝光对象载置；且上述平台使上述曝光对象在规定的扫描方向移动，由此由上述投影光学系统照射于上述曝光对象的光在上述曝光对象上进行扫描，上述空间光调制器具备多个镜，上述多个镜分别绕倾斜轴旋转，上述倾斜轴沿与上述投影光学系统的光轴方向及上述扫描方向这两方向正交的方向延伸，上述多个镜通过调整各自的相对于上述扫描方向的倾斜成为开状态，从而使光向上述投影光学系统射出，上述曝光装置具备角度调整机构，其调整上述空间光调制器相对于上述扫描方向的倾斜角。
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公开(公告)号：CN118475881A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202280085593.9
申请日：2022-12-14
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明使被照射面上的累计照度分布均匀化。一种曝光装置，将来自空间光调制器(10)的光向在扫描方向上被扫描的物体照射，对上述物体进行曝光，具备以照明光对上述空间光调制器(10)进行照明的照明单元(ILU)，上述照明单元(ILU)具有：光学积分器，其供上述照明光入射；和减光构件(FS)，其配置在上述光学积分器的出射面与上述空间光调制器(10)之间的光路上，且配置在不与上述光学积分器和上述空间光调制器(10)接触的位置，减少上述照明光的一部分。
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公开(公告)号：CN117616343A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280048553.7
申请日：2022-07-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 为了提高FO‑WLP的布线图案形成中的处理量，曝光装置包括：空间光调制器；算出部，基于配置于基板上的第1半导体芯片上的规定测量点的位置测量结果即第1位置测量结果、配置于上述基板上的第2半导体芯片上的规定测量点的位置测量结果即第2位置测量结果、以及上述第1半导体芯片的第1连接部及上述第2半导体芯片的第2连接部的设计信息，来算出上述第1连接部及上述第2连接部的位置；以及曝光处理部，基于上述算出部的算出结果来控制上述空间光调制器，对将上述第1连接部与上述第2连接部加以连接的布线图案进行曝光。
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公开(公告)号：CN117581163A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202280046271.3
申请日：2022-06-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 为检查照明空间光调制器是否有缺陷元件，本发明的曝光装置，将与由具有多个元件的空间光调制器所生成的描绘数据对应的图案光对物体进行曝光，其具备：数据输出部，将该描绘数据输出至该空间光调制器；照明光学系统，对该空间光调制器照射照明光；第1移动体，保持该物体；投影光学系统，将以该空间光调制器生成的该图案光的像投影至该物体；检测部，检测被投影的该图案光的像；以及判定部，根据该检测部的检测结果，判定该空间光调制器是否可生成与从该数据输出部输出的该描绘数据对应的图案光。
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公开(公告)号：CN117581162A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202280045775.3
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 目的在于在多重曝光处理中抑制存储部的数据量增大。曝光装置具备：照明光学系统；空间光调制器，其通过来自照明光学系统的光而被照明；投影光学系统，其将从空间光调制器出射的光照射到曝光对象；载台，其载置曝光对象，使曝光对象和投影光学系统在规定的扫描方向上相对移动；以及控制部，其具有存储与曝光图案相关的信息的存储部，控制向曝光对象的曝光。控制部以执行第1工序和第2工序的方式控制向曝光对象的曝光，其中该第1工序基于与曝光图案相关的信息进行第1曝光，该第2工序基于在第1工序中使用的与第1曝光图案相关的信息中的至少一部分进行第2曝光。
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