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公开(公告)号:CN101191194A
公开(公告)日:2008-06-04
申请号:CN200610130966.2
申请日:2006-11-22
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C23C14/3414 , C23C14/085 , C23C14/086 , G11B7/266
Abstract: 提供一种用于形成可记录光学记录介质的记录层的溅射靶,其中该溅射靶包括Bi和Fe,且该溅射靶的堆积密度高于96%,还提供一种利用该溅射靶制造的可记录光学记录介质,该可记录光学记录介质即使在蓝色激光波长范围内也能够进行高密度记录。
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公开(公告)号:CN101019178A
公开(公告)日:2007-08-15
申请号:CN200680000836.5
申请日:2006-05-19
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/24 , G11B7/005 , G11B7/258 , G11B7/007 , G11B7/0045
CPC classification number: G11B7/243 , G11B7/00454 , G11B7/0052 , G11B7/24038 , G11B7/24079 , G11B7/259 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
Abstract: 一种双层结构相变型光记录介质,包括:基底(1)、反射层(2)、第一保护层(3)、第一记录层(4)、第二保护层(5)、树脂中间层(6)、第三保护层(7)、由Cu或者Cu合金层构成的排热层(8)、第四保护层(9)、第二记录层(10)、第五保护层(11)、以及覆盖基底(12)。高反射部分的反射比与记录之后的调制的乘积为等于或高于用于再现的下限值的值。
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公开(公告)号:CN1867972A
公开(公告)日:2006-11-22
申请号:CN200480029847.7
申请日:2004-08-16
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125
CPC classification number: G11B7/0062 , G11B7/00454 , G11B7/00456
Abstract: 一种光信息记录方法,对于匀速旋转的光记录介质,与基本时钟周期同步照射包含相同数的由加热功率期间和冷却功率期间构成的标记记录期间的激光束,该基本时钟周期与旋转半径方向各位置的移动速度反比例变化,并记录线密度一定的信息,其中,通过由基本时钟周期的2倍的周期生成的脉冲串形成偶数倍长度的标记,最初的标记记录期间延迟第一时间,仅在最初的标记记录期间和从最后起前一个标记记录期间,通过由比基本时钟周期的2倍长的周期生成的脉冲串形成奇数倍长度的标记。
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公开(公告)号:CN102649357A
公开(公告)日:2012-08-29
申请号:CN201210070659.5
申请日:2012-02-17
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/01
CPC classification number: B41J2/14233 , B41J2002/14491 , B41J2202/08
Abstract: 本发明公开了一种喷墨头和喷墨记录装置,所述喷墨头包括具有多个喷嘴的喷嘴板,位于喷嘴板上的振动板,由分隔壁分隔的空间形成的液体室,压电元件,其具有在振动板表面上以此顺序层叠的共用电极、压电体和单独电极;具有第一开口的第一绝缘膜和具有第二开口的第二绝缘膜以此顺序层叠在第一表面上;第一线,该第一线通过第一开口和第二开口从单独电极引出,位于第一线上的、具有第三开口的第三绝缘膜;以及第二线,该第二线通过第三开口引出,其中该第三绝缘膜形成在第二绝缘膜的第一区域中,并且没有形成在其第二区域中,该第二区域不包括具有形成在液体室上的第一线的区域。
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公开(公告)号:CN100545918C
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200580038629.4
申请日:2005-09-13
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125
Abstract: 一种光记录介质的记录方法,包括:用具有m个脉冲组的激光照射介质,其中每个脉冲组都包括加热脉冲和冷却脉冲,其中m是自然数;并且用激光在扫描速度v下扫描所述介质来记录长度均为nT的标记,其中n是3或更大的自然数,T是时钟周期,其中最后冷却脉冲的长度TCPn根据扫描速度v使用下述函数来确定:在v<v0时,TCPn/T=f1,n(v);在v≥v0时,TCPn/T=f2,n(v),其中f1,n(v)和f2,n(v)均表示扫描速度v的连续函数,并满足异常标记的存在比例是1.0×10-4或更少的条件,而且v0是可选择的扫描速度。
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公开(公告)号:CN101512647A
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200780033612.9
申请日:2007-08-30
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G11B7/24038 , G11B7/0901 , G11B7/24056 , G11B7/24079 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25711 , G11B2007/25715 , Y10T428/21
Abstract: 一种多层相变光学记录介质,其具有第一基片和第二基片,以及多个信息层,其中除了从第一基片侧看去被置于最内侧的信息层,其他信息层的每个热扩散层具有氧化铟、氧化锌、氧化锡和氧化硅。当它们的含量分别用“a”、“b”、“c”和“d”[摩尔百分比]表示时,其满足下述要求:3≤a≤50,0≤d≤30,a+b+c+d=100;并且当用“n”表示第一和第二基片的折射率,用“λ”表示激光波长,并用H表示第一和第二基片的引导槽(groove guide)深度时,H满足下述要求:λ/17n≤H≤λ/11.5n。
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公开(公告)号:CN101496105A
公开(公告)日:2009-07-29
申请号:CN200780028420.9
申请日:2007-07-27
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G11B7/2433 , G11B7/0062 , G11B7/24079 , G11B7/2437 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
Abstract: 提供一种可记录光学记录介质,其包含:基板、记录层以及反射层,其中该记录层和该反射层形成于该基板上,该记录层由无机材料形成,以及利用通过照射蓝色激光导致的在该记录层的不可逆变化,信息记录在该可记录光学记录介质上。
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公开(公告)号:CN101253560A
公开(公告)日:2008-08-27
申请号:CN200680031667.1
申请日:2006-08-25
Applicant: 株式会社理光
Inventor: 加藤将纪
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125 , G11B7/007
CPC classification number: G11B7/0062 , G11B7/00454 , G11B7/1267
Abstract: 本发明提供了一种用于在相变光信息记录介质上记录的方法,包括:当记录n~Tw时间长度的标记时,照射具有功率Pw的“m”个数目的加热脉冲以及具有功率Pc的“m”个数目的冷却脉冲,以及当设置最佳写入功率时,在测试记录和信息记录期间,当“n”为随意的时,改变第“m”加热脉冲THm和第“m”冷却脉冲TCm中的至少任一个的预设值,其中,“m”是自然数,“n”是自然数,Tw是通道比特长度,Pw大于Pc,并且当“n”为奇数时,n=2m+1成立,当“n”为偶数时,n=2m成立。
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公开(公告)号:CN101037766A
公开(公告)日:2007-09-19
申请号:CN200710085608.9
申请日:2007-03-01
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: C23C14/08 , C23C14/0036 , C23C14/3414 , G11B7/243 , G11B7/2585 , G11B7/266 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432 , H01J37/34 , H01J37/3414 , H01J37/3429 , Y10T428/21
Abstract: 本发明提供一种以含有Bi和B为特征的用于制作追记型光记录介质的溅射靶及其制造方法、使用该溅射靶的追记型高密度光记录介质,以及可以提高制膜速度来提高生产性、制膜时的强度高、并且提高了填充密度的用于制作追记型光记录介质的溅射靶。
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公开(公告)号:CN1942937A
公开(公告)日:2007-04-04
申请号:CN200680000015.1
申请日:2006-03-02
Applicant: 株式会社理光
IPC: G11B7/0045 , G11B7/125
CPC classification number: G11B7/126 , G11B7/0045
Abstract: 本发明涉及一种用于多层光记录介质的记录方法,所述多层光记录介质包括M个相变记录层,并且M≥2。所述方法包括:通过利用包括多个激光束脉冲的记录脉冲串而用激光照射所述记录层中的第K个,在第K记录层中记录标记。用于第K记录层的记录脉冲串具有t(K)[T]的周期,第1记录层是与激光束最近的记录层,并且第M记录层是与激光束最远的记录层,T是时钟周期。满足以下关系:t(1)<t(M),并且记录脉冲串的周期在激光束照射的方向上从一个记录层到下一个记录层不减小。
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