公开(公告)号：CN112289703A

公开(公告)日：2021-01-29

申请号：CN202010701619.0

申请日：2020-07-20

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中野央二郎

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304 ,  B24B7/22 ,  B24B27/00 ,  B24B37/10 ,  B24B37/34

Abstract: 本发明涉及基板清洗装置、基板处理装置及基板清洗方法。基板清洗装置具备：保持基板的基板保持机构；使保持于基板保持机构的基板旋转的旋转机构；及清洗基板的清洗机构。清洗机构具备：支柱；从支柱伸出且其高度位置不变动的支臂；支撑于支臂且通过抵接于基板表面来清洗表面的清洗件；使清洗件在从基板离开的上升位置与抵接于基板的下降位置之间相对于支臂升降的升降机构；及至少控制清洗件下降时的速度的控制部。

公开(公告)号：CN108789132B

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201810810886.4

申请日：2013-09-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  中野央二郎 ,  今井正芳 ,  盐川阳一

IPC: B24B37/04 ,  B24B37/34 ,  H01L21/67

Abstract: 一种基板清洗装置，具有：保持基板(W)并使其旋转的基板保持部(1)；将药液供给到基板(W)上的药液喷嘴(11)；将双流体喷流供给到基板(W)上的双流体喷嘴(12)；以及使药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)一体地从基板(W)的中心部向周缘部移动的移动机构(15,21,22)，药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)隔开规定距离而相邻，关于药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)的移动方向，药液喷嘴(11)位于双流体喷嘴(12)的前方。采用本发明，可高效地清洗晶片等基板。

公开(公告)号：CN110049930A

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201880002955.7

申请日：2018-11-14

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中野央二郎 ,  石桥知淳

IPC: B65D81/26 ,  B65D51/16 ,  H01L21/304

Abstract: 一种擦洗部件的保存容器，具有容器主体以及卡合于所述容器主体的盖体，在由所述容器主体和所述盖体包围而成的保存容器内部收容擦洗部件，在所述容器主体与所述盖体卡合的卡合面形成有使所述保存容器内部和保存容器外部连通的通气槽。

公开(公告)号：CN108878314B

公开(公告)日：2023-09-29

申请号：CN201810450204.3

申请日：2018-05-11

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 中野央二郎 ,  国泽淳次

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明公开基板清洗装置。在一实施方式中，基板清洗装置具备：第一轴群，该第一轴群包含第一驱动轴和惰轮轴，该第一驱动轴具有使基板旋转的第一驱动辊，该惰轮轴具有通过基板而旋转的从动辊；第二轴群，该第二轴群包含多个第二驱动轴，该多个第二驱动轴分别具有使基板旋转的第二驱动辊；清洗机构，该清洗机构对通过第一驱动辊及多个第二驱动辊而旋转的基板进行清洗；以及旋转检测部，该旋转检测部对从动辊的转速进行检测，从动辊位于与基板通过清洗机构而受到力的方向相反的一侧。

公开(公告)号：CN114846584B

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202080090122.8

申请日：2020-12-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 松田道昭 ,  中野央二郎 ,  大垣冬季 ,  渡边裕辅 ,  国泽淳次

IPC: H01L21/304

Abstract: 清洗装置具备：多个辊，该多个辊保持基板的周缘部；旋转驱动部，该旋转驱动部通过驱动所述多个辊旋转而使所述基板旋转；清洗部件，该清洗部件与所述基板抵接而进行该基板的清洗；清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板供给清洗液；传声器，该传声器对由于所述基板的周缘部的切口与所述多个辊接触而产生的声音进行检测；以及旋转速度计算部，该旋转速度计算部基于由所述传声器检测的声音计算所述基板的旋转速度。

公开(公告)号：CN114846584A

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN202080090122.8

申请日：2020-12-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 松田道昭 ,  中野央二郎 ,  大垣冬季 ,  渡边裕辅 ,  国泽淳次

IPC: H01L21/304

Abstract: 清洗装置具备：多个辊，该多个辊保持基板的周缘部；旋转驱动部，该旋转驱动部通过驱动所述多个辊旋转而使所述基板旋转；清洗部件，该清洗部件与所述基板抵接而进行该基板的清洗；清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板供给清洗液；传声器，该传声器对由于所述基板的周缘部的切口与所述多个辊接触而产生的声音进行检测；以及旋转速度计算部，该旋转速度计算部基于由所述传声器检测的声音计算所述基板的旋转速度。

公开(公告)号：CN114682547A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111590195.6

申请日：2021-12-23

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 及川文利 ,  深谷孝一 ,  马场枝里奈 ,  末政秀一 ,  中野央二郎

IPC: B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B3/12 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 提供一种基板清洗装置及基板的清洗方法。基板清洗装置具备：旋转机构，该旋转机构使基板旋转；清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液；以及摆动机构，该摆动机构使所述清洗液供给喷嘴从所述基板的旋转中心附近朝向所述基板的外周端在比所述基板的半面窄的范围内摆动。

公开(公告)号：CN103707179B

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201310461098.6

申请日：2013-09-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  中野央二郎

IPC: B24B37/34 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 一种基板清洗装置，具有：收容基板(W)的清洗槽(1)；配置在清洗槽(1)内的基板保持部(2)；将药液供给于由基板保持部(2)保持的基板(W)的药液喷嘴(5)；以及将清洗液供给于清洗槽(1)内表面(1a)的多个清洗液喷嘴(7)，对清洗槽(1)的内表面(1a)实施粗糙化处理、亲水性材料的涂层等的亲水化处理。采用本发明，可用廉价材料构成清洗槽，同时可防止药液对清洗槽的腐蚀。

公开(公告)号：CN103706499B

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：CN201310461090.X

申请日：2013-09-30

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 前田幸次 ,  下元博 ,  中野央二郎 ,  今井正芳 ,  盐川阳一

IPC: B05B7/00 ,  H01L21/30

Abstract: 一种基板清洗装置，具有：保持基板(W)并使其旋转的基板保持部(1)；将药液供给到基板(W)上的药液喷嘴(11)；将双流体喷流供给到基板(W)上的双流体喷嘴(12)；以及使药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)一体地从基板(W)的中心部向周缘部移动的移动机构(15,21,22)，药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)隔开规定距离而相邻，关于药液喷嘴(11)及双流体喷嘴(12)的移动方向，药液喷嘴(11)位于双流体喷嘴(12)的前方。采用本发明，可高效地清洗晶片等基板。

公开(公告)号：CN107004593A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580061139.X

申请日：2015-11-10

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 深谷孝一 ,  前田幸次 ,  石桥知淳 ,  中野央二郎

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种基板清洗装置，在进行双流体清洗时，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板的表面。基板清洗装置(18)具备：保持基板(W)的基板保持机构(1)；使保持于基板保持机构(1)的基板(W)旋转的基板旋转机构(2)；使双流体喷流朝向基板(W)的表面喷出的双流体喷嘴(46)；配置于基板的周围的护盖；及使护盖旋转的护盖旋转机构。护盖旋转机构使护盖在与基板在相同的旋转方向上旋转。