公开(公告)号：CN108431291A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680069937.1

申请日：2016-10-28

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 吉田慎太郎 ,  奥野博行 ,  中井淳一

IPC: C23C14/14 ,  C22C21/00 ,  C22C21/12 ,  C23C14/34 ,  G02B5/08

Abstract: 提供一种通过将构成紫外线反射膜的稀土类元素、Cu和其余的Al的量、以及稀土类元素与Cu的比率控制在规定的范围，从而波长254nm的紫外线的反射率为85％以上的紫外线反射膜。一种紫外线反射膜，其含有一种或两种以上的稀土类元素：0.2at％以上且3.0at％以下，和Cu：0.2at％以上且6.0at％以下中的任意一者，余量由Al和不可避免的杂质构成，满足下述(1)式，波长254nm的紫外线的反射率为85％以上。X+0.5Y＜3.5…(1)[X是稀土类元素的量[at％]，Y是Cu的量[at％]。]。

公开(公告)号：CN1238554C

公开(公告)日：2006-01-25

申请号：CN03800885.8

申请日：2003-06-23

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 松崎均 ,  高木胜寿 ,  中井淳一 ,  中根靖夫

IPC: C23C14/34 ,  C22C5/06 ,  C22F1/14

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C22C5/06 ,  C22C5/08

Abstract: 一种银合金溅射靶及其制造方法，该银合金溅射靶，特别有利于由溅射法形成膜厚分布均匀的银合金薄膜，由X射线衍射法求出任意4个位置的结晶取向强度时，4个测定位置的表示最高结晶取向强度(Xa)的方位相同，且在各测定位置最高结晶取向强度(Xa)与第二高的结晶取向强度(Xb)的强度比(Xb/Xa)的偏差在20%以下的银合金溅射靶。

公开(公告)号：CN1545569A

公开(公告)日：2004-11-10

申请号：CN03800885.8

申请日：2003-06-23

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 松崎均 ,  高木胜寿 ,  中井淳一 ,  中根靖夫

IPC: C23C14/34 ,  C22C5/06 ,  C22F1/14

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C22C5/06 ,  C22C5/08

Abstract: 一种银合金溅射靶及其制造方法，该银合金溅射靶，特别有利于由溅射法形成膜厚分布均匀的银合金薄膜，由X射线衍射法求出任意4个位置的结晶取向强度时，4个测定位置的表示最高结晶取向强度(Xa)的方位相同，且在各测定位置最高结晶取向强度(Xa)与第二高的结晶取向强度(Xb)的强度比(Xb/Xa)的偏差在20％以下的银合金溅射靶。