公开(公告)号：CN100511583C

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200710169238.7

申请日：2004-03-04

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 野上光秀 ,  宫本荣司

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/205 ,  H01L21/285 ,  H01L21/31 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/67 ,  C23C16/509 ,  C23C16/513 ,  C23F4/00 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/3065 ,  C23C16/5093 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32724

Abstract: 一种等离子加工装置，其中加工气体在圆环形内电极(11)和圆环形外电极(21)之间被等离子化。热导内温度调节部件(50)通过螺栓(7)挤压在内电极(11)的内周面上。热导外温度调节部件(60)通过螺栓(8)挤压在外电极(21)的外周面上。内、外部件(50、60)是可膨胀的和可收缩的C形形状。

公开(公告)号：CN1833313A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200480018059.8

申请日：2004-06-24

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 安西纯一郎 ,  中野良宪 ,  川崎真一 ,  中武纯夫 ,  真弓聪 ,  宫本荣司 ,  武内稔公

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  C23C16/455 ,  H05H1/46

Abstract: 在用于将处理气体通过孔排比如狭缝喷射到有待处理的物体的表面的处理设备中，即使该孔排很短，具有大面积的物体的表面也可以被有效地处理。多个电极板(11，12)被并排地设置于等离子表面处理设备(M)的处理器(1)上。狭缝状的孔排(10a)形成于相邻的电极板之间，并且由并排设置的孔排(10a)组成孔排组(100)。该物体(W)通过移动机构(4)沿着每个狭缝(10a)的延伸方向移动。