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公开(公告)号：CN101023714A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200580031892.0
申请日：2005-09-20
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , C23C16/50
CPC classification number: H01J37/32348 , H01J37/32724 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种等离子加工设备，其中防止了由电极与固体电介质之间热膨胀差引起的电弧放电的出现。加工单元(10L、10R)的壳体(20)的底部开口，并使用固体电介质板(50)关闭，且电极(30)容纳在壳体(20)内，且电极(30)在纵向方向上是自由的。固体电介质板(50)具有例如可以由自己支撑电极(30)的静重的强度。电极(30)安装在固体电介质板(50)的上表面，且没有固定到其上，从而电极(30)的静重大体上全部由固体电介质板(50)承受。
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公开(公告)号：CN101023714B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200580031892.0
申请日：2005-09-20
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , C23C16/50
CPC classification number: H01J37/32348 , H01J37/32724 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种等离子加工设备，其中防止了由电极与固体电介质之间热膨胀差引起的电弧放电的出现。加工单元(10L、10R)的壳体(20)的底部开口，并使用固体电介质板(50)关闭，且电极(30)容纳在壳体(20)内，且电极(30)在纵向方向上是自由的。固体电介质板(50)具有例如可以由自己支撑电极(30)的静重的强度。电极(30)安装在固体电介质板(50)的上表面，且没有固定到其上，从而电极(30)的静重大体上全部由固体电介质板(50)承受。
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公开(公告)号：CN1833313A
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：CN200480018059.8
申请日：2004-06-24
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/31 , C23C16/455 , H05H1/46
Abstract: 在用于将处理气体通过孔排比如狭缝喷射到有待处理的物体的表面的处理设备中，即使该孔排很短，具有大面积的物体的表面也可以被有效地处理。多个电极板(11，12)被并排地设置于等离子表面处理设备(M)的处理器(1)上。狭缝状的孔排(10a)形成于相邻的电极板之间，并且由并排设置的孔排(10a)组成孔排组(100)。该物体(W)通过移动机构(4)沿着每个狭缝(10a)的延伸方向移动。
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公开(公告)号：CN100433263C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200480018059.8
申请日：2004-06-24
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/31 , C23C16/455 , H05H1/46
Abstract: 在用于将处理气体通过孔排比如狭缝喷射到有待处理的物体的表面的处理设备中，即使该孔排很短，具有大面积的物体的表面也可以被有效地处理。多个电极板(11，12)被并排地设置于等离子表面处理设备(M)的处理器(1)上。狭缝状的孔排(10a)形成于相邻的电极板之间，并且由并排设置的孔排(10a)组成孔排组(100)。该物体(W)通过移动机构(4)沿着每个狭缝(10a)的延伸方向移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101023713A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200580031890.1
申请日：2005-09-20
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , C23C16/50
CPC classification number: H01J37/32348 , H01J37/32724 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明提出了一种等离子加工设备，其中电极与壳体之间的绝缘得到提高，并可以从外部控制电极的温度。固体电介质(50)形成在电极(30)的放电空间形成表面上。电极(30)以在放电空间形成表面上的固体电介质(50)被露出的方式放置在壳体(20)内。壳体内的空间(29)，即壳体(20)与壳体内部的电极(30)之间的空间，填充有大体上纯净的氮气，氮气的压力比放电空间内的压力设定得大些。优选地，氮气是循环的。
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公开(公告)号：CN108601328A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780009531.9
申请日：2017-02-27
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: A01G31/00
Abstract: 本发明提供一种使用了海水(W1)的水耕栽培系统(1)，其用于使用海水对耐盐植物进行水耕栽培，该系统包括：供水泵(21)，其从海汲取盐浓度、细菌量以及无用物为一定基准以下的海水(W1)；水槽(30)，其贮存由该供水泵汲取的海水，并且配置栽培的耐盐植物；过滤器(27)，其将从海(S)中取出的海水(W1)中的细菌及无用物除去，其中，由所述过滤器(27)除去了所述细菌及所述无用物的海水(W1)被送入所述水槽(30)。
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公开(公告)号：CN101258784B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200680032713.X
申请日：2006-09-15
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 为了提供能够容纳待加工物品的面积的增加、并且能够在开始正常等离子放电时确保适当的加工的大气压等离子加工设备。在一种大气压等离子加工设备中，台(20)的第一台部分(21)的第一金属表面(21a)被暴露，并且由电介质材料组成的待加工物品(W)放置在第一金属表面21a上。固体介电层(25)设置在第二台部分(22)的第二金属(24)上。物品W的周边部分放置在固体介电层(25)的内部介电部分(26)上。电极(11)在第二台部分(22)的上方的第二移动范围(R2)内产生助走放电(D2)。然后，电极(11)移动到第一台部分(21)的上方的第一移动范围(R1)并产生正常等离子放电(D1)。
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公开(公告)号：CN101023713B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200580031890.1
申请日：2005-09-20
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , C23C16/50
CPC classification number: H01J37/32348 , H01J37/32724 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 本发明提出了一种等离子加工设备，其中电极与壳体之间的绝缘得到提高，并可以从外部控制电极的温度。固体电介质(50)形成在电极(30)的放电空间形成表面上。电极(30)以在放电空间形成表面上的固体电介质(50)被露出的方式放置在壳体(20)内。壳体内的空间(29)，即壳体(20)与壳体内部的电极(30)之间的空间，填充有大体上纯净的氮气，氮气的压力比放电空间内的压力设定得大些。优选地，氮气是循环的。
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公开(公告)号：CN101258784A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200680032713.X
申请日：2006-09-15
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J2237/0206 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 为了提供能够容纳待加工物品的面积的增加、并且能够在开始正常等离子放电时确保适当的加工的大气压等离子加工设备。在一种大气压等离子加工设备中，台(20)的第一台部分(21)的第一金属表面(21a)被暴露，并且由电介质材料组成的待加工物品(W)放置在第一金属表面21a上。固体介电层(25)设置在第二台部分(22)的第二金属(24)上。物品W的周边部分放置在固体介电层(25)的内部介电部分(26)上。电极(11)在第二台部分(22)的上方的第二移动范围(R2)内产生助走放电(D2)。然后，电极(11)移动到第一台部分(21)的上方的第一移动范围(R1)并产生正常等离子放电(D1)。
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