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公开(公告)号：CN112920373B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202011431226.9
申请日：2020-12-07
Applicant: SKC株式会社 , 宇利精密化学株式会社
Abstract: 本发明公开了二异氰酸酯组合物、其制备方法以及使用其的光学材料。根据本发明的实施方案的二异氰酸酯组合物在所述组合物中包含5ppm至200ppm的量的具有甲基基团的异氰酸苄基酯、5ppm至1,000ppm的量的具有卤素基团的芳族化合物、1ppm至1,000ppm的量的具有乙基基团的异氰酸苄基酯、或其组合。可以通过防止出现黄变、条纹和浑浊来改善光学特性并同时增强机械特性诸如耐冲击性。因此，其可以有利地制备高品质的光学材料。
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公开(公告)号：CN112920375A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202011437156.8
申请日：2020-12-07
Applicant: SKC株式会社 , 宇利精密化学株式会社
Abstract: 本发明公开了制备二异氰酸酯组合物及光学镜片的方法。在实施方案中，在从二胺通过二胺盐酸盐制备二异氰酸酯的过程中可以使用盐酸水溶液代替氯化氢气体以及使用固体三光气代替光气气体。另外，所述实施方案提供了通过控制制备二异氰酸酯的二胺盐酸盐组合物中的水含量在特定范围内来制备具有更高品质的二异氰酸酯组合物和光学镜片的方法。
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公开(公告)号：CN112920084A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202011431161.8
申请日：2020-12-07
Applicant: SKC株式会社 , 宇利精密化学株式会社
IPC: C07C263/10 , C07C263/20 , C07C265/14 , C07C209/74 , C07C211/51 , C08G18/75 , C08G18/38 , G02B1/04
Abstract: 本发明公开了二胺组合物和制备二异氰酸酯组合物的方法。根据本发明的实施方案的二胺组合物包含在所述组合物中量为10ppm至2,000ppm的具有甲基的苄基单胺。当将其制备二异氰酸酯组合物和光学材料时，可以通过防止所述光学材料中黄变、条纹、和浑浊的出现来改善光学特性并且同时增强诸如耐冲击性的机械特性。另外，在根据另一个实施方案的制备二异氰酸酯组合物的方法中，将二胺组合物的根据CIE色坐标的b*值调节至特定范围，由此不仅可以提高所述二异氰酸酯组合物的产率和纯度，而且还可以增强最终光学镜片的光学特性。因此，所述制备二异氰酸酯组合物的方法可以应用于高品质塑料光学镜片的制备。
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公开(公告)号：CN112920084B
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202011431161.8
申请日：2020-12-07
Applicant: SKC株式会社 , 宇利精密化学株式会社
IPC: C07C263/10 , C07C263/20 , C07C265/14 , C07C209/74 , C07C211/51 , C08G18/75 , C08G18/38 , G02B1/04
Abstract: 本发明公开了二胺组合物和制备二异氰酸酯组合物的方法。根据本发明的实施方案的二胺组合物包含在所述组合物中量为10ppm至2,000ppm的具有甲基的苄基单胺。当将其制备二异氰酸酯组合物和光学材料时，可以通过防止所述光学材料中黄变、条纹、和浑浊的出现来改善光学特性并且同时增强诸如耐冲击性的机械特性。另外，在根据另一个实施方案的制备二异氰酸酯组合物的方法中，将二胺组合物的根据CIE色坐标的b*值调节至特定范围，由此不仅可以提高所述二异氰酸酯组合物的产率和纯度，而且还可以增强最终光学镜片的光学特性。因此，所述制备二异氰酸酯组合物的方法可以应用于高品质塑料光学镜片的制备。
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公开(公告)号：CN112920370A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202011430101.4
申请日：2020-12-07
Applicant: SKC株式会社 , 宇利精密化学株式会社
Abstract: 本发明公开了一种制备二异氰酸酯组合物和光学镜片的方法。在所述实施方案中，可以在从二胺通过二胺盐酸盐制备二异氰酸酯的方法中使用盐酸水溶液和有机溶剂代替氯化氢气体以及固体三光气代替光气气体。另外，所述实施方案提供了制备二异氰酸酯组合物和光学镜片的方法，所述方法通过控制二胺盐酸盐组合物中金属、阳离子或阴离子的总含量而具有优异的产率和品质并且减轻环境问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112695384A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202010531605.9
申请日：2020-06-11
Applicant: SKC株式会社
Abstract: 本发明涉及碳化硅晶锭及其制备方法以及碳化硅晶片的制备方法。所述碳化硅晶锭包括：本体部，包括本体部一截面和与本体部一截面对置的本体部另一截面，以及突出部，位于本体部另一截面上，并且具有基于本体部另一截面弯曲的表面；本体部另一截面包括一端点和另一端点，一端点是位于所述本体部另一截面的一端的一点，另一端点是位于所述本体部另一截面的末端的一点，一端点、突出部的最高点和另一端点位于与本体部一截面垂直的同一平面上，作为同一平面与突出部表面的交线的弧的曲率半径由下面的数学式1表示。本发明的碳化硅晶锭及其制备方法可以精确地控制晶体生长的温度梯度，并且可以提供具有更好特性的碳化硅晶锭。数学式13D≤r≤37D。
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公开(公告)号：CN107108227B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201680004414.9
申请日：2016-03-22
Applicant: SKC株式会社
IPC: C01B32/20 , C01B32/205
Abstract: 本申请提供一种石墨片，该石墨片在水平和垂直方向的热扩散率之比为300或300以上。此外，本申请还提供了一种在垂直方向上的热扩散率为2.0mm2/s或2.0mm2/s以下的石墨片。该石墨片在水平和垂直方向上具有优异的导热性及柔韧性，并且制造成本低，因此具有经济优势。
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公开(公告)号：CN108581822A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201810493229.1
申请日：2018-05-22
Applicant: SKC株式会社
Abstract: 本发明实施方式涉及一种多孔聚氨酯抛光垫及采用该抛光垫制备半导体器件的方法。所述多孔聚氨酯抛光垫包括聚氨酯类预聚物和固化剂，所述抛光垫的厚度为1.5-2.5mm，具有平均直径为10-60μm的多个孔，抛光垫的比重为0.7-0.9g/cm3，25℃下的表面硬度为45-65Shore D，抗拉强度为15-25N/mm2，延伸率为80-250％，从与待抛光的物体直接接触的抛光表面至预定深度测得的AFM(原子力电子显微镜)弹性模量为30-100MPa，其中，所述预定深度为距抛光表面1-10μm的深度。
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公开(公告)号：CN112920082B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202011430121.1
申请日：2020-12-07
Applicant: SKC株式会社 , 宇利精密化学株式会社
IPC: C07C263/10 , C07C263/20 , C07C265/14 , C07C209/74 , C07C211/51 , C07C211/18 , C07C211/12 , C08G18/75 , C08G18/76 , C08G18/73 , C08G18/38 , G02B1/04
Abstract: 本发明公开了一种二异氰酸酯组合物、其制备方法以及使用其的光学材料。在实施方案中，在从二胺通过二胺盐酸盐制备二异氰酸酯的过程中可以使用盐酸水溶液代替氯化氢气体以及固体三光气代替光气气体。另外，实施方案提供了制备二异氰酸酯组合物以及高品质光学镜片的方法，其中将二胺盐酸盐组合物与三光气的反应中使用的有机溶剂中的水含量、阳离子含量或含有3个或更多个氯(Cl)的芳族化合物的含量调节至特定范围。
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