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公开(公告)号：CN105240244B
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201510791209.9
申请日：2015-11-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 沈阳诺思真空技术有限公司
Abstract: 一种获得10‑9Pa量级超高真空度的设备及其方法，它属于真空技术领域，具体涉及一种获得超高真空度的设备及其方法。本发明的目的是要解决现有实现10‑9Pa量级真空系统组成复杂、成本很高，真空获取系统占用空间大，极限真空维持稳定性差、操作复杂的问题。设备包括机械泵、波纹管、真空电磁阀、分子泵、工作室、闸板阀、卤素灯、进气孔、加热带、石英窗口、真空计、热电偶、密封法兰和工作负载。方法：首先启动机械泵，再启动分子泵，然后打开卤素灯，并启动加热带烘烤，烘烤一定时间后关闭卤素灯和加热带，直至压力为10‑9Pa时，先关闭闸板阀，关闭电磁阀、分子泵和机械泵。本发明主要用于获得10‑9Pa量级超高真空。
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公开(公告)号：CN111826609B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202010238371.9
申请日：2020-03-30
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种U‑W‑N三元薄膜及其制备方法和应用，它属于激光聚变工程技术领域，具体涉及一种兼具黑腔减散和防护作用的U‑W‑N三元薄膜及其制备方法和应用。本发明的目的是要解决现有铀黑腔结构层复杂，UNx减散/防护层中N含量调控范围受限，抑制受激布里渊散射能力有限，Au防护层M带硬X射线与超热电子易激发的问题。U‑W‑N三元薄膜中N的质量分数为x％，且0＜x≤66.7，W的质量分数为y％，且0＜y≤10％，余量为U。制备方法：采用直流反应磁控溅射共沉积方法，以N2作为反应气，以U靶和W靶通过直流电源进行磁控溅射沉积，得到U‑W‑N三元薄膜。U‑W‑N三元薄膜作为减散/防护层应用于黑腔上。
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公开(公告)号：CN112390658A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN202011179763.9
申请日：2020-10-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C04B38/06 , C04B35/10 , C04B35/14 , C04B35/48 , C04B35/622
Abstract: 一种氧化物泡沫陶瓷材料机械加工成型方法，它属于工程材料加工技术领域，具体涉及一种氧化物泡沫陶瓷材料的加工方法。本发明目的是要解决氧化物泡沫陶瓷材料结构强度低、机械加工成型困难的问题。方法：一、高温预处理；二、泡沫骨架强化；三、机械加工成型；四、高温处理除碳，即实现氧化物泡沫陶瓷材料机械加工成型。优点：显著改善氧化物泡沫陶瓷材料可加工性，提高泡沫材料加工成品率。本发明主要用于氧化物泡沫陶瓷材料机械加工成型。
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公开(公告)号：CN111681782A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN202010556546.0
申请日：2020-06-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种阻抗匹配靶制造方法，采用单点金刚石车削技术加工标准材料台阶，采用机械研磨技术分别通过双面研磨、单面研磨、手工研磨加工待测材料薄膜，通过聚乙烯醇溶液将待测材料薄膜与标准材料台阶装配成阻抗匹配靶。本方法分别采用固态块材加工成标准材料与待测材料样品，可确保加工前后材料纯度、密度不变，满足阻抗匹配实验用靶材料尽可能为纯净密实材料的需求，降低材料密度、纯度变化造成的物理实验结果不确定度的增加，通过聚乙烯醇溶液将标准材料/待测材料样品粘接在一起，可满足标注材料与待测材料之间的力学平衡条件和界面连续条件。
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公开(公告)号：CN111637859A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN202010556547.5
申请日：2020-06-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种阻抗匹配靶的激光作用有效区域的确定方法，通过分别在标准材料台阶与待测材料薄膜表面特定区域做标识，对标准材料台阶与待测材料薄膜进行测量，再将待测材料薄膜的测量区域装配到标准材料台阶测量对应区域范围内，以待测材料薄膜上的标记点为阻抗匹配靶的标记点，测量阻抗匹配靶装配后的表面形貌。本发明阻抗匹配靶的激光作用有效区域的确定方法实现了阻抗匹配靶测量区域的标记简单、易实现的特点，且通过所作标记，能够实现激光打靶时位置在实际测量区域范围内，减小测量误差导致的实验结果的不确定度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109036589B
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201810829526.9
申请日：2018-07-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种掺钽铀薄膜在黑腔上的应用，它属于激光聚变工程技术领域，具体涉及一种掺钽铀薄膜的应用。本发明的目的是为了解决现有铀黑腔中金内衬激光‑X射线转换效率不足、M带X射线产额高，而物理期望的无内衬铀黑腔化学稳定性差、黑腔结构不稳定的问题。一种掺钽铀薄膜作为黑腔内衬防护层使用，或作为能量转化层应用于黑腔上。优点：具有于良好的抗氧化腐蚀性能；作为内衬防护层，在防护铀黑腔能量转化层的同时，还具有更好的界面结合力、化学相容性，以及更高的能量耦合效率；作为能量转化层，其相比Au具有更高的激光‑X射线转换效率、更低的M带X射线产额，相比U其具有突出的化学稳定性及结构可靠性。
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公开(公告)号：CN107068205B
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201710272260.8
申请日：2017-04-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: UB2薄膜在黑腔上的应用，它属于激光聚变工程技术领域，具体涉及一种兼具黑腔减散和防护作用的UB2薄膜的应用。本发明目的是为了解决现有铀黑腔结构复杂、Au/B减散层化学稳定性差、组分比例及分布调控困难的问题。UB2薄膜作为减散/防护层替代黑腔Au/B减散层和Au防护层应用于黑腔上。优点：UB2薄膜用于黑腔能实现薄膜成分的精确控制、降低黑腔脱模工艺难度，有效抑制激光等离子体受激布里渊散射；同时该薄膜还具有降低M带热电子产额、提高激光‑X射线转换效率、保护铀黑腔转化层的作用。UB2薄膜集减散、防护功能于一身，有效简化了点火黑腔及其它高性能、高转化率黑腔结构及其制备工艺。
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公开(公告)号：CN106893974B
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201710175459.9
申请日：2017-03-22
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种微小平面零件的无切割自成型方法，它涉及一种用于激光惯性约束聚变实验研究用平面微小零(靶)件的无切割自成型制备方法。本发明目的是为了解决惯性约束聚变靶微小平面零件制造存在的二次精密加工技术难题。方法：一、利用预制图形的Si基片镀脱模剂，即得到镀脱模剂的模板；二、采用沉积法在镀脱模剂的模板上制备微小平面零件材料薄膜，得到沉积微小平面零件材料薄膜的模板；三、脱模：释放沉积微小平面零件材料薄膜的模板表面的微小平面零件薄膜，即得到微小平面零件。优点：规避平微小面尺寸二次加工技术难题；适用范围非常广；可批量生产，重复精度高；模板可重复使用，成本低。本发明主要用于加工微小平面零件。
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公开(公告)号：CN108559965A
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201810832224.7
申请日：2018-07-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种金属铀表面制备抗氧化铀钽薄膜的方法，它属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种金属铀材料表面防护用抗氧化铀钽薄膜的制备方法。本发明目的是为了解决金属铀材料化学性质活泼，应用中极易氧化腐蚀失效的问题。金属铀表面制备抗氧化铀钽薄膜的方法：以铀钽合金靶作为靶材，采用直流磁控溅射在金属铀薄膜或金属铀块体表面制备抗氧化铀钽薄膜；或以金属铀靶和金属钽靶为靶材，采用双靶磁控溅射共沉积方法在金属铀薄膜或金属铀块体表面制备抗氧化铀钽薄膜。优点：铀钽薄膜具有优异的抗氧化性能，与铀材料具有良好的界面结合力及化学相容性。本发明主要用于在金属铀表面制备抗氧化铀钽薄膜。
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公开(公告)号：CN107068205A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710272260.8
申请日：2017-04-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
CPC classification number: Y02E30/14 , G21B1/11 , C23C14/067
Abstract: UB2薄膜在黑腔上的应用，它属于激光聚变工程技术领域，具体涉及一种兼具黑腔减散和防护作用的UB2薄膜的应用。本发明目的是为了解决现有铀黑腔结构复杂、Au/B减散层化学稳定性差、组分比例及分布调控困难的问题。UB2薄膜作为减散/防护层替代黑腔Au/B减散层和Au防护层应用于黑腔上。优点：UB2薄膜用于黑腔能实现薄膜成分的精确控制、降低黑腔脱模工艺难度，有效抑制激光等离子体受激布里渊散射；同时该薄膜还具有降低M带热电子产额、提高激光‑X射线转换效率、保护铀黑腔转化层的作用。UB2薄膜集减散、防护功能于一身，有效简化了点火黑腔及其它高性能、高转化率黑腔结构及其制备工艺。
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