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公开(公告)号：CN1732087A
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN200380107518.5
申请日：2003-12-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41J2/05
Abstract: 本发明提供了一种用于喷墨头的衬底，包括：产生用于从油墨排出口中排出油墨的热能的加热电阻器和形成在加热电阻器上方并具有与油墨接触的接触表面的上部保护层。而且所述上部保护层由包括Ta和Cr(其中Ta的含量大于Cr的含量)的非晶态合金制成。这种结构可使得衬底在抗气蚀性和抗腐蚀性方面出色，并且具有高耐用性，同时具有与Ta膜制成的传统保护层相似的排出性能。本发明还提高了包括上述衬底的喷墨头，以及其制造方法。
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公开(公告)号：CN105097447B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201510241268.9
申请日：2015-05-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1645 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , H01L21/306
Abstract: 基板加工方法和制造液体排出头用基板的方法。该基板加工方法包括：在硅基板的第一表面形成第一孔，所述第一孔具有未贯通基板的深度；以及以使第二孔与第一孔连通的方式在第二表面形成第二孔，使得在基板中形成由第一孔和第二孔形成的通孔。形成第二孔的方法包括：在使第二孔与第一孔连通之后，通过干蚀刻在第一孔和第二孔之间形成比第一孔的开口宽的连通部。
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公开(公告)号：CN109094196A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201810638283.0
申请日：2018-06-20
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供液体喷出头基板和液体喷出头。液体喷出头基板配置有多个单元。各单元均包括：形成于支撑基板的第一面的压力产生元件；以及一对独立液室，该对独立液室以彼此相对的方式形成于压力产生元件的两侧，并且向支撑基板的第一面开口。液体喷出头基板在支撑基板中包括：第一共用液室，其与成对的独立液室中的位于一侧的多个独立液室连通；第二共用液室，其与成对的独立液室中的位于另一侧的多个独立液室连通；以及分隔壁，其使第一共用液室和第二共用液室彼此分离。
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公开(公告)号：CN105097447A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510241268.9
申请日：2015-05-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1645 , B41J2/1404 , B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1626 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , H01L21/306 , H01L21/02019 , H01L21/6715
Abstract: 基板加工方法和制造液体排出头用基板的方法。该基板加工方法包括：在硅基板的第一表面形成第一孔，所述第一孔具有未贯通基板的深度；以及以使第二孔与第一孔连通的方式在第二表面形成第二孔，使得在基板中形成由第一孔和第二孔形成的通孔。形成第二孔的方法包括：在使第二孔与第一孔连通之后，通过干蚀刻在第一孔和第二孔之间形成比第一孔的开口宽的连通部。
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公开(公告)号：CN101032885B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200710080082.5
申请日：2007-03-07
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645 , H01L21/76898
Abstract: 本发明提供一种喷墨头基片和喷墨头及其制造方法。该喷墨头基片的制造方法包括在硅基片中形成供墨口，该方法包括：在基片的一面形成蚀刻掩模层的步骤，该蚀刻掩模层在与供墨口相对应的位置处具有开口；沿开口的长度方向形成至少两行通过蚀刻掩模层的开口的未穿透孔的步骤；以及通过在开口中对基片进行晶体各向异性蚀刻来形成供墨口的步骤。
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公开(公告)号：CN1978198B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200610140397.X
申请日：2006-12-08
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/14072 , B41J2/14129 , B41J2/16517 , B41J2202/03
Abstract: 本发明提供一种喷墨头用基板、具有该基板的喷墨头、该喷墨头的清洁方法以及使用上述喷墨头的喷墨记录装置， 目的在于在使利用热能作为用于喷出墨水的能量的喷墨头，能可靠且均匀地除去蓄积在与墨水接触的热作用部上的结痂。为此，本发明在包含热作用部(108)的区域上可电连接地配置上部保护层(107)，该上部保护层(107)能电连接成成为用于与墨水发生电化学反应的电极。用包含通过电化学反应而溶解出的金属、且不会由于加热而形成阻碍上述溶解的氧化膜的材料形成该上部保护层。由此，使其发生可靠的电化学反应而使上部保护层的表面层溶解出，从而能均匀且可靠地除去热作用部上的结痂。
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公开(公告)号：CN101380847A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810212556.1
申请日：2008-09-05
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/14145 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1634 , B41J2/1635 , B41J2/1639 , B41J2/1645
Abstract: 本发明公开了一种用于制造液体喷射头基底的方法，所述基底包括具有用于供应液体的供给端口的硅基底。所述方法包括：在硅基底表面上设置蚀刻掩模层，所述蚀刻掩模层在与所述供给端口相对应的部分上具有开口；通过经由蚀刻掩模层上的开口对硅基底进行各向异性蚀刻而在所述硅基底上形成第一凹部；在所述硅基底的第一凹部的表面上形成第二凹部，所述第二凹部朝向硅基底的另一表面延伸；和通过从具有第二凹部的表面对所述硅基底进行各向异性蚀刻而形成供给端口。本发明还公开了相应的液体喷射头。
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公开(公告)号：CN100406256C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200510092602.5
申请日：2005-08-16
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1628 , B41J2/14072 , B41J2/14129 , B41J2/1603 , B41J2/1646
Abstract: 本发明是一种具有与通电对应地发生用于喷出墨的热能的发热部的喷墨头用基板，既可谋求实现记录的高清晰化或高画质等用的发热部的小面积化，又可防止热能效率的下降，降低功耗。为此，通过将对于电极布线层103的保护绝缘层作成2层(108a、108b)并在发热部102上除去其一方108a，提高了热能效率。此外，在电极布线层103上配置发热电阻体层107，通过在比形成发热部用的电极布线层103的间隙宽的范围内实施除去保护绝缘层108a时的构图，通过用第1和第2电极布线层103、104构成电极布线，使之不产生发热部102的有效发泡区域的减少。
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公开(公告)号：CN100376400C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN200410102223.5
申请日：2004-12-16
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1643 , B41J2/1603 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1645 , H05K3/244
Abstract: 本发明提供液体排出头用基板、液体排出头和其制造方法。在与用于将电力供给到排出能量发生部分的共用配线相同的工序制作将液体排出头连接到外部配线的电极片，从而减少工时。对于具有将电力供给到排出能量发生部分的电极片和共用配线的液体排出头用基板，在对金属膜的共用配线进行电镀成膜的工序中作为相同材料的金属膜对电极片进行电镀成膜，从而可减少液体排出头制造工时。
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公开(公告)号：CN100357105C
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200310124270.5
申请日：2003-12-29
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41J2/1603 , B41J2/14129 , B41J2/1604 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2/1646
Abstract: 提供一种喷墨头及喷墨装置。该喷墨头的其特征在于：利用发热电阻体薄膜产生的热能喷出墨，该发热电阻体薄膜由Cr、Si及N构成，且具有以下组成：Cr：17～20原子%、Si：42～55原子%、N：28～40原子%，由它们构成100原子%，或Cr、Si及N占99.5原子%以上且少于100原子%、剩余的为杂质，并且Si原子含量大于Cr原子含量的2倍。
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