公开(公告)号：CN110526802B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201910437381.2

申请日：2019-05-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  提箸正义 ,  小竹正晃 ,  井上直也 ,  增永恵一 ,  渡边聪

IPC: C07C33/26 ,  C07C29/00 ,  C07C67/08 ,  C07C69/533 ,  C08F212/14 ,  C08F232/08 ,  C08F220/38 ,  C08F220/30 ,  G03F7/038

Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、负型抗蚀剂组合物、光掩模坯和抗蚀剂图案形成方法。包含含有在分子中具有至少两个酸可消除的羟基或烷氧基重复单元的聚合物的负型抗蚀剂组合物对于形成具有高分辨率和最小的LER同时使缺陷最小化的抗蚀剂图案有效。

公开(公告)号：CN111187235A

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201911101447.7

申请日：2019-11-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小野绘实子 ,  提箸正义 ,  福岛将大 ,  计良祐纪

IPC: C07D307/00 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D333/08 ,  C07D327/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。

公开(公告)号：CN109725015A

公开(公告)日：2019-05-07

申请号：CN201811256005.5

申请日：2018-10-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 新井直树 ,  提箸正义 ,  片山和弘

IPC: G01N24/08 ,  G06K9/62 ,  G16C20/70 ,  G16C20/30

Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于抗蚀剂的品质管理及探明不良产生时的早期原因的简便的经机械化的解析方法。本发明提供一种抗蚀剂的品质管理方法，其特征在于，包括：(1)对抗蚀剂进行前处理，得到分析样本的工序；(2)将所述分析样本供于机器分析，得到分析结果的工序；(3)将所述分析结果变换为数值数据，进行多变量解析的工序；以及(4)由得到的解析结果对品质进行管理的工序。

公开(公告)号：CN109426080A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201810957182.X

申请日：2018-08-22

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  提箸正义 ,  长谷川幸士 ,  阿达铁平 ,  片山和弘

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08F220/28 ,  C08F220/20 ,  C08F220/38 ,  C07C67/297 ,  C07C69/54 ,  C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  C07D307/00

Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有在酸的作用下能够极性转换的取代基的单体和聚合物。包含所述聚合物的抗蚀剂组合物以高分辨率形成不溶于碱性显影剂中并且具有高的耐蚀刻性的负型图案。