显示装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112823568A

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN201880097946.0

    申请日:2018-09-25

    Abstract: 在边框区域以与框状的阻挡壁交叉延伸的方式设置,通过与依次层叠有第一金属层(Ma)、第二金属层(Mb)以及第三金属层(Mc)的各显示配线(18f、18g)相同的材料形成在同一层,在显示区域侧与显示配线(18f、18g)电连接,在端子部侧与端子电连接的引绕配线(18f、18g)中,第三金属层(Mc)以覆盖第一金属层(Ma)的侧面以及第二金属层(Mb)的侧面以及上表面的方式设置。

    显示设备、显示设备的制造方法、显示设备的制造装置

    公开(公告)号:CN111602190A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN201880086484.2

    申请日:2018-01-18

    Abstract: 提供一种显示设备(2),其以提高在背板中的间隔物的高度精度作为目的,该显示设备(2)包括包含第一电极(22)露出的多个开口(23c)的所述边缘罩(23)、包含第一平坦部、第二平坦部(21b)以及接触孔(21c)的平坦化膜(21),所述显示设备的特征在于,所述多个开口(23c)的每一个,在俯视下与所述第一平坦部(21a)重叠,在俯视下所述多个开口(23c)之间具有所述第二平坦部(21b),从所述平坦化膜(21)的基板侧的底面(21d)到在俯视下与所述第一平坦部(21a)重叠的所述边缘罩(23)的第二电极(25)侧的表面(21m)为止的高度(H1)低于从所述底面(21d)到所述第二平坦部(21b)的第二电极(25)侧的表面(21u)为止的高度(H2)。

    半导体装置以及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110476255A

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201780089175.6

    申请日:2017-03-29

    Abstract: 本发明是设置在显示装置(1)的像素电路中的半导体装置(10),从下方向侧起依次包括基板(11)、LTPS层(135SLA)、第一栅极绝缘层(14)、第一金属层(145GA、145GB)、第一平坦化层(15)、第二栅极绝缘层(16)、氧化物半导体层(165SLB)半导体层、第二金属层(165SB、165DB)、钝化层(17)以及第三金属层(165CA)。LTPS-TFT(10A)的栅极电极(145GA)与氧化物半导体TFT(10B)的栅极电极(145GB)由第一金属层形成。

    半导体器件及其制造方法
    30.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106104810A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201580013007.X

    申请日:2015-03-10

    Abstract: 半导体器件具备薄膜晶体管(100),薄膜晶体管(100)包括衬底(1)、设置在衬底(1)上的栅极电极(3)、形成在栅极电极(3)上的栅极绝缘层(5)、形成在栅极绝缘层(5)上的岛状的氧化物半导体层(7)、以覆盖氧化物半导体层(7)的上表面(7u)和整个侧面(7e)的方式设置并且具有仅使氧化物半导体层(7)的上表面(7u)的一部分露出的单个开口部(9p)的保护层(9)、在单个开口部(9p)内与氧化物半导体层(7)分别接触的源极电极(11)和漏极电极(13)。

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