一种大长径比钼坩埚及其旋压方法

    公开(公告)号:CN109877208A

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201910208960.X

    申请日:2019-03-19

    Abstract: 本发明提供一种大长径比钼坩埚及其旋压方法,首先根据设计要求,切取合适尺寸的钼板,接着将切取的钼板安装在旋压模具上并进行加热;其次将加热后的钼板进行普通旋压,得到初步旋压件;再次将得到的初步旋压件进行强力旋压得到钼坩埚半成品,然后将得到的钼坩埚半成品进行整形和清洗,得到大长径比钼坩埚的成品。本发明前期通过普通旋压使钼板变形,然后通过多道次小压下量的强力旋压,使普通旋压形成的初步旋压件侧壁减薄拉长,同时避免了材料内部产生裂纹等缺陷,最终制得现有技术无法旋压制备的小口径、大长径比的钼坩埚,整个加工方法简单,操作方便,造价低廉,使用寿命较长,对大长径比钼坩埚的生产具有重要的意义。

    一种高致密超细晶大尺寸钼靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN109778126A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201910187697.0

    申请日:2019-03-13

    Abstract: 本发明提供一种高致密超细晶大尺寸钼靶材的制备方法,通过冷等静压压型-烧结-热等静压压型-热轧制-退火-机加工的工艺流程来制备钼靶材,钼靶材先通过热等静压处理后,对钼靶材坯料进行了第一次致密化处理,然后将该坯料进行热轧处理,对钼靶材坯料进行了第二次致密化处理,最后经过950-1100℃,保温60-90min的退火处理及机械加工等工序获得所需性能的钼靶材。本发明的制备方法能够制作出高纯度(纯度达到99.9%以上))、全致密(密度达到99.9%以上)、超细晶(晶粒度小于20μm)的钼靶材,可满足要求越来越高的溅射工艺,提高薄膜溅射速度,改善钼金属溅射薄膜的质量,提高薄膜性能。

    带孔的多层S-CMC材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN105563934B

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201511018271.0

    申请日:2015-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种带孔的多层S‑CMC材料及其制备方法。该材料包括:钼薄板层和无氧铜板层,其中:每两层所述无氧铜板之间均夹持有一层所述钼薄板且通过轧制方式复合在一起,所述钼薄板具有N排通孔且通孔中均填满铜,N为大于等于2的整数。其制备方法包括带通孔钼薄原料板的制备步骤、带通孔钼薄原料板的清理步骤、加热及热轧步骤、退火及冷轧步骤。本发明得到的材料中,每层钼薄板孔中均填充满铜,界面结合强度好,导热性能增强且热膨胀性能均匀,热膨胀系数可以维持在10*10‑6/K左右,厚度方向热导率>300w/m·k。该制备方法简单、效率高,适用于大批量生产且材料收得率大。

    钨钼轧机咬入装置以及钨钼轧机

    公开(公告)号:CN210080368U

    公开(公告)日:2020-02-18

    申请号:CN201920650358.7

    申请日:2019-05-08

    Abstract: 一种钨钼轧机咬入装置以及一种安装有该咬入装置的钨钼轧机。该咬入装置包括具有安装槽的安装槽构件,设置于钨钼轧机上且位于钨钼轧机的咬入平台的导卫面下方;用于与轧件接触的自由辊,自由辊包括有安装轴,于安装轴的外侧可转动地套设有辊子,自由辊设置于安装槽中、且辊子可于安装槽内转动,辊子的上端相对于导卫面向外凸出以与轧件滚动接触。通过本实用新型提供的技术方案使轧制的板坯与咬入平台间的摩擦方式由滑动摩擦变为滚动摩擦,减小了板坯与咬入平台的摩擦力,使得轧件能够顺利咬入,提高了轧机的咬入能力,避免了轧件出现分层、晶粒粗等缺陷的出现,保证生产的顺利进行。

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