-
-
公开(公告)号：CN108885408A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780022186.2
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un)，其具有光束扫描部，该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。
-
公开(公告)号：CN108884583A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780021517.0
申请日：2017-03-28
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是一面于长度方向搬送基板(FS)一面对利用导电体形成于基板(FS)的表面的导电图案(PT)的一部分选择性地实施镀敷的镀敷处理方法，且包括：利用导电材料于基板(FS)上形成连接于导电图案(PT)中的特定图案部分(SPT)且沿长度方向延伸的辅助图案(APT)；使基板(FS)的表面沿长度方向遍及既定距离地接触于电解镀敷液(LQ1)；于基板(FS)上的至少特定图案部分(SPT)与电解镀敷液(LQ1)接触的期间，使设置于基板(FS)的表面自电解镀敷液(LQ1)分离的位置的电极构件(19)与辅助图案(APT)接触，且经由电极构件(19)对电解镀敷液(LQ1)施加电压。
-
公开(公告)号：CN106919003B
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201611176699.2
申请日：2012-09-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法及装置、图案曝光方法、以及元件制造方法，将基板搬送于长边方向，于基板的被处理面形成电子元件用的图案，包含：一边利用引导构件分别支承在基板的长边方向上分离既定距离的2处位置，一边以使基板的2处位置之间在与长边方向正交的短边方向以既定程度收缩的方式，对基板的既定距离的部分赋予长边方向张力的步骤；在2处位置之间，在无摩擦的状态或接触区域小的状态下，利用基板支承构件将基板的被处理面的背侧的面的一部分，平面状或曲面状地予以支承的步骤；在与在以既定程度收缩的状态下利用基板支承构件予以支承的基板的一部分对应而被设定于被处理面的区域内形成电子元件用的图案的步骤。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105556391B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
-
公开(公告)号：CN108040500A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201680056621.9
申请日：2016-09-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/677 , B65G49/00 , G03F7/20 , H01L21/02
CPC classification number: B65G49/00 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/677
Abstract: 本发明的制造系统(10)，是一边将长条的可挠性片材基板(P)搬送于长边方向、一边通过多个处理装置(PR)连续的对该片材基板施以处理，其具备设置在该多个处理装置(PR)中的第1处理装置(PR2)与相邻的第2处理装置(PR3)之间的蓄积部(BF1)，以及于第1处理装置(PR2)中，暂时停止对该片材基板(P)的处理、或该片材基板(P)的搬送时，判定该蓄积部(BF1)的该片材基板(P)的蓄积状态是否满足以预想的该第1处理装置(PR2)的停止时间决定的所需蓄积状态的控制装置(14,18)。
-
公开(公告)号：CN107908083A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711078129.4
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。
-
公开(公告)号：CN107748486A
公开(公告)日：2018-03-02
申请号：CN201711113525.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
-
公开(公告)号：CN107209461A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006570.9
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
65
records
(took 0.045 seconds)
