公开(公告)号：CN1901053B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200610101951.3

申请日：2006-07-11

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 田内裕基 ,  中井淳一 ,  藤井秀夫

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/258 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/165 ,  C22C5/06 ,  C23C14/3414 ,  G11B7/258 ,  G11B7/259 ,  Y10T428/21

Abstract: 一种银合金反射膜被用于光学信息记录介质，并包含作为主成分的银、总共1-10原子％的至少一种稀土元素，和总共1-15原子％的选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种，其中所述至少一种稀土元素与所述选自In、Sn、Al和Mg中的至少一种的总含量为5原子％或更高。该银合金反射膜优选还包含0.01-3原子％的Bi和Sb中的至少一种。银合金溅射靶具有与该银合金反射膜相同的组成。

公开(公告)号：CN1925037A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200610125772.3

申请日：2006-08-28

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 藤井秀夫 ,  井土带刀 ,  田内裕基

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/243 ,  G11B7/26

CPC classification number: C23C14/3414 ,  G11B7/243 ,  G11B7/2534 ,  G11B2007/24304 ,  G11B2007/2431 ,  G11B2007/24312

Abstract: 提供了不仅初始反射率、记录标记的生成等优异，而且在高温和高湿环境中的耐久性也特别优异的光学信息记录介质用记录层，它可以适用于采用蓝－紫色激光束的下一代光盘。通过照射激光束产生记录标记的所述光学信息记录介质用记录层包含含有5－50原子百分数的In和/或12－40原子百分数的Zn的Sn基合金。

公开(公告)号：CN1901054A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610101952.8

申请日：2006-07-11

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 中井淳一 ,  田内裕基 ,  藤井秀夫

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/258 ,  C23C14/34

CPC classification number: G11B7/266 ,  G11B7/258 ,  G11B7/259 ,  Y10T428/21

Abstract: 一种银合金反射膜用于光学信息记录介质并包含作为主成分的Ag、总共1－10原子％的选自Nd、Gd、Y、Sm、La和Ce中的至少一种，以及总共2－10原子％的选自Li、Mg、Al、Zn、Cu、Pt、Au、Pd、Ru和Rh中的至少一种。反射膜优选还包含0.01－3原子％的Bi和Sb中的至少一种和/或2－10原子％的选自In、Sn和Pb中的至少一种。一种光学信息记录介质包括该银合金反射膜。一种银合金溅射靶具有与该银合金反射膜相同的组成。

公开(公告)号：CN1550573A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：CN200410044707.9

申请日：2004-05-17

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 高木胜寿 ,  中井淳一 ,  田内裕基 ,  佐藤俊树 ,  松崎均 ,  藤井秀夫

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  C22C5/06 ,  C22C12/00

CPC classification number: C22C5/06 ,  C23C14/3414

Abstract: 一种Ag－Bi基合金溅射靶以及该溅射靶的制备方法，其特征在于，溅射靶的析出Bi强度为0.01原子％－1或以下，其是根据下式，基于X－射线衍射的分析结果计算出来的。析出Bi强度＝[IBi(102)/(IAg(111)+IAg(200)+IAg(220)+IAg(311))]/[Bi]该溅射靶的Bi固溶于Ag中。根据本发明，在使用该溅射靶形成薄膜时，可以抑制其薄膜之中Bi含量相对于溅射靶Bi含量的显著降低。