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公开(公告)号：CN101228623A
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200680026891.1
申请日：2006-08-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/683 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/68707 , H01L21/6723 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/68728
Abstract: 提供了基板处理单元、基板传送方法、基板洗净处理单元和基板电镀设备，使得诸如机器人臂的基板载入机构在载入基板之后快速释放保持在基板上，从而缩短保持所述基板的时间并提高流通量。所述基板处理单元(10)包括用于将所述基板(11)保持在特定的保持位置的基板保持机构(10)，以及处理机构(32)，用于将规定的处理施加至由所述基板保持机构所述保持的所述基板，其中基板引导机构(20)设有引导销(15)，用于将所述基板引导至保持位置附近。所述基板引导机构具有位于保持位置的所述基板的外周上的多个辊(14)，而所述多个辊适于通过从所述基板的侧部将所述基板的周边支承在所述保持位置的附近而支承所述基板，所述辊具有一体的结构，所述一体的结构包括大直径部分以及形成在所述大直径部分上方的小直径部分，而大直径部分的上侧部分具有肩部，以便所述基板在传送中临时地支承在其上，并且所述肩部形成有朝向其外周向下倾斜的倾斜表面。
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公开(公告)号：CN118742999A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202380023365.3
申请日：2023-02-10
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B24B9/00 , B24B21/00 , B24B49/10
Abstract: 本发明关于研磨晶片等基板的基板研磨装置，尤其关于进行基板的凹口部、基板的斜面部、基板的元件面及基板的背面的研磨的基板研磨装置。基板研磨装置具备第一研磨模块、第二研磨模块及第三研磨模块，第一研磨模块、第二研磨模块及第三研磨模块是分别研磨基板的不同区域的研磨模块。
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公开(公告)号：CN112424924B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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公开(公告)号：CN116438632A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202180076294.4
申请日：2021-10-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210‑1)，该第一搬送机构用于将被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)沿着搬送路径(405)搬送至下游侧的基板交接位置(418)；超声波清洗槽(440)，该超声波清洗槽配置于从搬送路径(405)离开的位置，并用于清洗被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)；移载机(420)，该移载机用于在搬送路径(405)的基板交接位置(418)与超声波清洗槽(440)之间移载基板(WF)；及第二搬送机构(210‑2)，该第二搬送机构用于将通过移载机(420)而从超声波清洗槽(440)移载至基板交接位置(418)的基板(WF)沿着搬送路径(405)进一步向下游侧搬送。
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公开(公告)号：CN115666853A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180038346.9
申请日：2021-05-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B41/02 , B24B37/005 , B24B37/30 , B24B41/047 , B24B41/06 , B24B55/06 , H01L21/304
Abstract: 实现一种适合表面基准研磨的研磨装置。研磨装置100包含：沿着基板300的第一方向(X方向)配置的多个基板保持机构200；沿着与第一方向(X方向)交叉的第二方向(Y方向)配置的多个研磨头201；夹着基板300而与多个研磨头201相对，并在第二方向(Y方向)延伸的载台202；及用于使多个研磨头201与载台202在第一方向(X方向)移动的驱动机构500、600。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107081673B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201710064401.7
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。
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公开(公告)号：CN112424924A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201980046589.X
申请日：2019-07-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/677 , B24B37/26 , B24B37/30 , B24B41/06 , B24B57/02 , B65G39/04 , H01L21/304
Abstract: 提供搬送四边形的基板的自动化装置。根据一实施方式，提供用于搬送四边形的基板的基板搬送装置，该基板搬送装置具有：多个搬送辊，被构成为支承基板的下表面；多个辊轴，安装有所述多个搬送辊；马达，用于使所述多个辊轴旋转；以及推动器，用于提升所述多个搬送辊上的基板，以使所述多个搬送辊上的基板远离所述多个搬送辊，所述推动器具有平台，能够在所述多个搬送辊之间的空隙通过。
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公开(公告)号：CN106994645B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201610817482.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
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公开(公告)号：CN110919527A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201910887678.9
申请日：2019-09-19
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 在使用被划分为圆状或环状的薄膜的基板研磨装置中，在方形的基板的角部以及边部的中央的附近局部地对按压力进行调节是困难的。本发明公开了一种研磨头以及研磨装置，该研磨头是用于通过安装于研磨台的研磨垫来对方形的基板进行研磨的研磨装置的研磨头，具备：头主体部；多个弹性袋，该多个弹性袋设置于头主体部的应与研磨台相对的表面；以及基板保持板，该基板保持板用于保持基板，并且由弹性袋向远离头主体部的方向按压该基板保持板，在头主体部设置有与各个弹性袋连通的袋用流路，研磨头还具备设置于弹性袋与基板保持板之间的至少两块支撑板，弹性袋隔着支撑板而按压基板保持板。
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公开(公告)号：CN110000689A
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201910007722.2
申请日：2019-01-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供了用于面朝上式的研磨装置的研磨头、具备该研磨头的研磨装置及使用了该研磨装置的研磨方法。在面朝上式的研磨装置中，不经由旋转接头就供给研磨液。作为一实施方式，本申请公开了一种研磨头，该研磨头在下表面安装研磨垫来使用，该研磨头用于面朝上式的研磨装置，该研磨头具备：液体贮存部，该液体贮存部设于研磨头的旋转轴的周围，且用于接收液体；及液体排出口，该液体排出口设于研磨头的下表面，且用于排出由液体贮存部接收到的液体，在研磨头的上部形成有以研磨头的旋转轴为中心的环状的开口，液体贮存部经由开口而研磨头的外部的空间连通。
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