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    照明光学装置及光学装置
    21.
    发明公开
    照明光学装置及光学装置 失效

    公开(公告)号：CN101107572A

    公开(公告)日：2008-01-16

    申请号：CN200680003129.1

    申请日：2006-01-25

    Applicant: 奥林巴斯株式会社

    Inventor： 水泽圣幸

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/7005 ,  G03F7/70075

    Abstract: 本发明涉及一种照明光学装置和光学装置，该光学装置采用所述照明光学装置，它们能够有效地收集从发光部(2)发出的光，用于以较低的照度不均匀性进行照明，而无需采用复杂结构。该照明光学装置设有：发光部(2)；透镜系统(3)，该透镜系统用于将从发光部发出的发散光束转变成平行光束；无焦光学系统(4a、4b)，该无焦光学系统用于调节通过透镜阵列(3)获得的平行光束的截面面积；复眼透镜(6)，该复眼透镜用于从截面面积被无焦光学系统调节的平行光形成多个光源图像(I)；以及柯勒照明光学系统，其使用通过复眼透镜(6)形成的多个光源图像(I)作为光源。

    照明方法和曝光方法及其装置
    23.
    发明公开
    照明方法和曝光方法及其装置 失效 转让

    公开(公告)号：CN1639845A

    公开(公告)日：2005-07-13

    申请号：CN03805595.3

    申请日：2003-07-02

    Applicant: 日立比亚机械股份有限公司

    Inventor： 押田良忠 ,  丸山重信 ,  小林和夫 ,  内藤芳达 ,  大坂义久

    IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B19/00 ,  G02B3/00

    CPC classification number: G03F7/70075 ,  G02B3/005 ,  G02B3/0062 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0057 ,  G03F7/7005

    Abstract: 一种曝光装置，特征在于包括照明光学系统和投影光学系统，该明光学系统具有：把分开的多个光源以一维或二维排列的光源阵列；使从该光源阵列的各光源射出的光聚光的聚光光学系统；在空间上分解由该聚光光学系统聚光的光来生成多个疑似二次光源的、由棒状透镜的排列构成且各棒状透镜的垂直于光轴的剖面形状的纵横比r1与上述被照明区域的纵横比r0之比r1/r0为大于或等于0.8且小于或等于1.2的光学积分器；以及使来自利用该光学积分器生成的多个疑似二次光源的光叠加在一起来照明具有应该曝光的图形的被照明区域的聚光透镜；该投影光学系统把透射或反射了由该照明光学系统照明的应该曝光的图形的光投影、曝光到被曝光物上的被曝光区上。

    制造EUV投射曝光系统的照明系统的方法和照明系统
    26.
    发明公开
    制造EUV投射曝光系统的照明系统的方法和照明系统 有权

    公开(公告)号：CN108713168A

    公开(公告)日：2018-10-26

    申请号：CN201780016341.X

    申请日：2017-02-22

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： J.贝尔 ,  D.伦德 ,  M.曼格 ,  U.米勒 ,  J.利希滕撒勒 ,  A.奥森 ,  J.韦尔克 ,  M.霍尔兹 ,  H.霍尔德尔

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/702 ,  G03F7/7085

    Abstract: 本发明涉及一种制造EUV系统的照明系统的方法，该方法包括以下步骤：将照明系统的反射镜模块安装在提供给反射镜模块的安装位置处，以便确立从源位置引导到照明场的照明束路径，其中该反射镜模块包括第一安装位置处具有第一分面反射镜的第一反射镜模块和照明系统的第二安装位置处具有第二分面反射镜的第二反射镜模块；在照明束路径的第一反射镜模块之前的输入耦合位置处将测量光耦合到照明束路径中；在测量光在照明束路径的反射镜模块中的每一个处反射之后，检测测量光；从检测的测量光来确定至少一个系统测量变量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量变量的实际状态；通过使用灵敏度从实际测量值来确定校正值，该灵敏度表示系统测量变量和至少一个反射镜模块在其安装位置的情形的变化之间的关系；通过使用校正值调整至少一个反射镜模块，致使改变刚性主体的自由度上安装位置中的反射镜模块的情形，以便于改变实际状态使得在辐射进EUV辐射源的EUV辐射的情况下，照明场中的照明辐射满足照明规范。

    一种直写光刻机中高利用率高均匀度的LED照明系统
    27.
    发明公开
    一种直写光刻机中高利用率高均匀度的LED照明系统 无效

    公开(公告)号：CN108303859A

    公开(公告)日：2018-07-20

    申请号：CN201810226355.0

    申请日：2018-03-19

    Applicant: 合肥芯碁微电子装备有限公司

    Inventor： 杨宇航 ,  吴琼 ,  何少锋 ,  李永强 ,  项宗齐

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/2057 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/7015

    Abstract: 本发明提供一种直写光刻机中高利用率高均匀度的LED照明系统，包括LED光源，还包括准直镜组、匀光镜组、聚光透镜和转向棱镜，所述LED光源、准直镜组、匀光镜组和聚光透镜的中心均位于同一轴线上，所述转向棱镜位于DMD数字掩膜板的下方；所述LED光源的出射光发散角对应的数值孔径为NA0.85；所述匀光镜组为一对微透镜阵列对称组合而成；所述转向棱镜的入射面与所述轴线垂直，所述转向棱镜的出射面与所述DMD数字掩膜板平行。本发明具有光源利用率高、照明均匀性好、结构简单、装配容易、精度要求低、成本低、良品率高的特点。

    一种微光刻投射曝光设备的光学系统
    29.
    发明公开
    一种微光刻投射曝光设备的光学系统 有权

    公开(公告)号：CN107810445A

    公开(公告)日：2018-03-16

    申请号：CN201680029150.2

    申请日：2016-05-13

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： M.帕特拉

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70891

    Abstract: 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其中所述投射曝光设备具有照明单元和投射物镜，以及其中该光在投射曝光设备的操作期间，存在于使用光管(205，305)中的光从照明单元的入口经由投射物镜的物平面行进至投射物镜的像平面，该光学系统具有至少一个薄层组合件(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)，该薄层组合件具有至少一个反射薄层(211，212，311，312，511，512，611，612)，并且具有至少一个射束收集器(250)，其中薄层组合件(210，310，410，420，430，440，450，510，520，610)布置为使得在投射曝光设备的操作期间，将至少周期地照在薄层组合件上且不属于使用光管(205，305)的光朝向射束收集器(250)反射。

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