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公开(公告)号：CN102221780A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110105553.X
申请日：2011-02-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/038
Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。
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公开(公告)号：CN111100043B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201911021773.7
申请日：2019-10-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C311/48 , C07C321/20 , C07D327/08 , C07C309/31 , G03F7/00
Abstract: 本发明为鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的鎓盐和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成期间表现出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN109212903B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201810721204.2
申请日：2018-07-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及(B)包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物。[化学式1][化学式2]
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公开(公告)号：CN110526841A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910438807.6
申请日：2019-05-24
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C309/73 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C51/41 , C07C63/04 , C07C309/31 , C07D279/20 , C07D327/08 , C07D519/00 , C07D215/48 , G03F7/004 , G03F7/039
Abstract: 具有含桥接环的基团的芳烃磺酸的鎓盐产生了具有适当强度和受控的扩散的大体积酸。当包含该鎓盐和基础聚合物的正型抗蚀剂组合物通过光刻法加工时，形成了具有高分辨率和降低的LER的矩形轮廓的图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105629664B
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201510827923.9
申请日：2015-11-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型正型抗蚀剂膜，该化学增幅型正型抗蚀剂膜包含：(A)包含在芳环上具有特定的取代基的重复单元和具有至少一个氟原子的重复单元的聚合物；(B)在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解性的基础树脂；(C)产酸剂；和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜在时效稳定性和抗静电膜接受性上得到改善。
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公开(公告)号：CN104199255B
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201410471281.9
申请日：2011-02-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/038
Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。
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公开(公告)号：CN106054529A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610212743.4
申请日：2016-04-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型负型抗蚀剂膜，该化学增幅型负型抗蚀剂膜包括(A)包含特定结构的重复单元和具有氟的重复单元的聚合物，(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，(C)产酸剂，和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜对于抗静电膜的接受性得到改善。
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公开(公告)号：CN105676592A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201510893749.8
申请日：2015-12-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括特定的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。
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公开(公告)号：CN105629664A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510827923.9
申请日：2015-11-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型正型抗蚀剂膜，该化学增幅型正型抗蚀剂膜包含：(A)包含在芳环上具有特定的取代基的重复单元和具有至少一个氟原子的重复单元的聚合物；(B)在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解性的基础树脂；(C)产酸剂；和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜在时效稳定性和抗静电膜接受性上得到改善。
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