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公开(公告)号：CN117597632A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202280047260.7
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 曝光装置具备照明光学系统、被来自照明光学系统的光照明的多个空间光调制器、将从空间光调制器射出的光照射到曝光对象的多个投影光学系统、和供曝光对象载置的载台。载台一边通过多个投影光学系统使扫描曝光视野重叠一边使曝光对象沿预定的扫描方向移动，由此照射到曝光对象的光在曝光对象上进行扫描。空间光调制器进行设定，以使得在曝光中在曝光对象上重叠地受到曝光的重叠部(Oa)的照度比在曝光对象上非重叠地受到曝光的非重叠部(Sa、Sb)的照度高。
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公开(公告)号：CN117546099A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202280044691.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的曝光装置具备：照明光学系统；空间光调变器，被来自照明光学系统的光所照明；投影光学系统，将自空间光调变器射出的光照射至曝光对象；载台，载置曝光对象，使曝光对象与投影光学系统于既定的扫描方向相对移动；及控制部，控制空间光调变器。空间光调变器具备多个镜面，该多个镜面可切换为：ON状态，调整倾斜而能够向投影光学系统射出光；及OFF状态，不向投影光学系统射出光。控制部以将多个镜面切换第一状态与第二状态的方式控制空间光调变器。第一状态与第二状态是成为ON状态的镜面的至少一者互不相同，自第一状态的空间光调变器射出的光与自第二状态的空间光调变器射出的光形成形状相同的曝光图案。
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公开(公告)号：CN110297403B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201910510003.2
申请日：2015-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/30 , G03F7/24 , G03F7/16 , G03F9/00 , H01L21/67 , H01L21/677 , B65H23/188 , B65H20/34 , B65H20/24 , B65H20/02 , B65H18/10
Abstract: 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
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公开(公告)号：CN110031964B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201910171295.1
申请日：2017-04-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111279244B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201880069602.9
申请日：2018-10-22
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种图案描绘装置，其具备：第1圆柱透镜CYa，其供来自光源装置的光束LB入射，且具有使朝向多面镜PM的反射面RPa的光束LB于与主扫描方向正交的副扫描方向上收敛的各向异性的折射率；fθ透镜系统FT，其用以供借由多面镜PM的反射面RPa偏向的光束LB入射，且将该光束LB于被照射体的表面Po上聚光为点光SP；及第2圆柱透镜CYb，其具有使自fθ透镜系统FT射出并朝向表面Po的光束LB于副扫描方向上收敛的各向异性的折射率。以于fθ透镜系统FT的视野内通过光束扫描范围的周边像高的位置而入射至第2圆柱透镜CYb前产生的光束LB的弧矢彗星像差引起的弯曲量成为艾瑞斑半径以下的方式，设定上述第2光学系统的焦距。
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公开(公告)号：CN108710263B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201810312226.3
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置，其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转，使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动，由此将圆筒光罩的图案曝光至基板，其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构，支承机构包括：可旋转地支承转轴的可动体；以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源；及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。
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公开(公告)号：CN108873613B
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201810586865.9
申请日：2014-05-02
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置，其使沿着以第一半径弯曲的圆周面保持有光罩图案的光罩保持筒以第一轴为中心旋转，并且使挠性的基板在沿着表面的扫描曝光方向上移动，来将光罩图案曝光在基板的表面上，并具有：朝向在光罩图案上在第一轴的方向上为细长的矩形状且在周向上具有规定宽度的照明区域照射照明光的照明光学系统；通过将来自光罩图案的光束投射至与照明区域对应的基板侧的投影区域使光罩图案的像以沿着在扫描曝光方向上弯曲的投影像面的方式成像的投影光学系统；和通过从与第一轴平行地配置的第二轴以第二半径弯曲成圆筒面状的外周面使基板弯曲来支承并以第二轴为中心进行旋转使基板沿着周向移动的基板支承筒。
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公开(公告)号：CN108919607B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201810608818.X
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN107748486B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201711113525.6
申请日：2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
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