曝光装置、利用该曝光装置的器件制造系统和器件制造方法以及图案曝光方法

    公开(公告)号:CN106933066A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201611264164.0

    申请日:2014-03-24

    CPC classification number: G03F7/24

    Abstract: 具有:第一支承构件,其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方;第二支承构件,其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方;和移动机构,其使第一支承构件旋转,并且使第二支承构件移动,使光罩和基板在扫描曝光方向上移动,投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束,在规定的投影像面上形成图案的像,移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度,使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。

    图案形成装置及衬底支承装置

    公开(公告)号:CN106886133A

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201611044499.1

    申请日:2013-03-13

    CPC classification number: G03F7/24

    Abstract: 本发明涉及图案形成装置及衬底支承装置。设有:基材,包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面;和膜体,形成在该基材的表面上,且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50%以下。

    处理系统及元件制造方法
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106687867A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201580047663.1

    申请日:2015-09-03

    Abstract: 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时,亦能在无需停止制造系统全体的情形下,进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1~第3处理装置(PR2~PR4)的各个,以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10),第1~第3处理装置(PR2~PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理,在第1~第3处理装置(PR2~PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时,使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN114408654B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202210080392.1

    申请日:2017-08-07

    Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置,且设置有:处理机构,其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理;搬送机构,其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力,一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送;卡留机构,其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置,且能够将片状基板卡留于既定位置;以及控制装置,其于暂时停止片状基板的搬送的情形时,以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构,并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

    基板处理装置
    38.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114229474B

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202210005576.1

    申请日:2017-08-07

    Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置,且设置有:处理机构,其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理;搬送机构,其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力,一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送;卡留机构,其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置,且能够将片状基板卡留于既定位置;以及控制装置,其于暂时停止片状基板的搬送的情形时,以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构,并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

    处理系统
    39.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110187612B

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN201910384087.X

    申请日:2015-09-03

    Abstract: 本发明提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时,亦能在无需停止制造系统全体的情形下,进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1~第3处理装置(PR2~PR4)的各个,以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10),第1~第3处理装置(PR2~PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理,在第1~第3处理装置(PR2~PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时,使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN114408654A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202210080392.1

    申请日:2017-08-07

    Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置,且设置有:处理机构,其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理;搬送机构,其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力,一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送;卡留机构,其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置,且能够将片状基板卡留于既定位置;以及控制装置,其于暂时停止片状基板的搬送的情形时,以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构,并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

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