公开(公告)号：CN108919607B

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201810608818.X

申请日：2014-06-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  小宫山弘树 ,  加藤正纪 ,  渡边智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  木内彻

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

公开(公告)号：CN105632978B

公开(公告)日：2018-10-30

申请号：CN201610122229.1

申请日：2011-04-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 浜田智秀 ,  奈良圭 ,  增川孝志 ,  木内彻

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  H01L51/56

Abstract: 基板处理装置及基板处理方法，具备：基板供应部，在使形成为带状的基板的短边方向竖立的状态下供应基板；基板处理部，具有搬送部及多个处理部，该搬送部，将从该基板供应部供应的基板在竖立状态下搬送，该多个处理部，是沿着该搬送部的基板的搬送路径配置，对竖立状态的基板的被处理面进行处理；以及基板回收部，将在该基板处理部进行处理后的基板在竖立状态下回收。

公开(公告)号：CN106773558B

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201710064287.8

申请日：2013-03-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  木内彻

IPC: G03F7/24 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70366 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F7/42 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明的扫描曝光装置具有：旋转筒，其在由外周面支承基板的长度方向的一部分的状态下绕第2中心轴旋转而将基板沿长度方向输送；照明机构，其分别向着第1照明区域和第2照明区域照射照明光；投影光学系统，其在支承于旋转筒的基板上，向着第1投影区域，来投影第1照明区域内所显现的光罩图案的像，并且向着第2投影区域，来投影第2照明区域内所显现的光罩图案的像；第1刻度部；第2刻度部；光罩侧读取机构，其在从第1中心轴观察而分别位于与第1照明区域和第2照明区域相同的方位上的第1刻度部上的两个位置上分别读取刻度；和基板侧读取机构，其在从第2中心轴观察而分别位于与第1投影区域和第2投影区域相同的方位上的第2刻度部上的两个位置上分别读取刻度。

公开(公告)号：CN106200277B

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201610576185.X

申请日：2013-03-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  木内彻

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70366 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F7/42 ,  G03F7/70 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00

Abstract: 一种处理装置，沿长度方向传送长条且具有挠性的片状基板，同时将元件的图案转印至片状基板上，其具有：旋转圆筒体，具有距规定的轴线为固定半径的圆筒状的外周面，并通过外周面的一部分卷绕并保持片状基板的一部分，同时绕轴线旋转；转印处理部，在保持片状基板的旋转圆筒体的外周面的特定的周向位置上，将图案转印至片状基板上；刻度部，能够与旋转圆筒体一同绕轴线旋转，且具有从轴线沿着规定半径的外周面的周向排列为环状的能够读取的刻度；和多个编码器读头部，配置在与刻度部的外周面相对的周围的2个以上的部位，以读取根据旋转圆筒体的旋转而沿周向移动的刻度，多个编码器读头部中的、特定的2个编码器读头部分别以使从轴线观察到的刻度的读取位置为90±5.8度的角度范围的方式设定。

公开(公告)号：CN106597816A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201710064288.2

申请日：2013-03-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  木内彻

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明的基板处理装置具有：刻度部件，其具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在进入区域与脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在第1检测区域内，检测沿长度方向离散或连续地形成在片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第1检测区域相同的方位上，并读取刻度部；第2图案检测装置，其在第2检测区域内，检测片状基板的特定图案；和第2读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第2检测区域相同的方位上，并读取刻度部。

公开(公告)号：CN103153830B

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201280003198.8

申请日：2012-02-20

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 浜田智秀 ,  木内彻

IPC: B65H23/032

CPC classification number: B65H18/103 ,  B65H2301/51 ,  B65H2402/32 ,  B65H2701/173

Abstract: 具有形成为带状、具有可挠性的基板(S)的搬送装置(1)，其具有：供应滚筒(5b)，送出基板(S)；回收滚筒(6b)，卷取基板(S)；以及驱动部(8)，将供应滚筒(5b)与回收滚筒(6b)驱动于相对从基板(S)的运送方向交叉的方向(X，Z)。供应滚筒(5b)被导引于第一轨(3)，回收滚筒(6b)被导引于第二轨(4)。轨驱动机构(7)变更两滚筒(5b，6b)间的间隔。配置于轨(3，4)间的处理部(PA)，对树脂或不锈钢制的基板(S)进行成膜、曝光、洗净等处理。处理部(PA)，沿轨(3，4)配置有多个。通过以多个处理部(PA)依序处理沿两滚筒(5b，6b)与轨(3，4)被运送的基板(S)，于基板(S)上形成有机EL元件。

公开(公告)号：CN102612669B

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：CN201180004420.1

申请日：2011-02-02

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  水谷英夫

IPC: G03F7/213 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法。向长条基板(SH)转印图案的曝光装置具备：使图案移动的工作台机构(MS)；投影光学系统(PL)，其将在第一部分区域(IR1)配置的第一部分图案的放大像以规定倍率投影到第一投影区域(ER1)，且将在与第一部分区域隔开规定的中心间隔的第二部分区域(IR2)配置的第二部分图案的放大像以规定倍率投影到第二投影区域(ER2)；移动机构(SC)，该移动机构(SC)以经由第一投影区域以及第二投影区域的方式使长条基板移动；以及调整机构(50)，该调整机构(50)基于规定倍率以及中心间隔，对从第一投影区域到第二投影区域的长条基板的基板长度进行调整。

公开(公告)号：CN103384637A

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：CN201280009995.7

申请日：2012-02-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 浜田智秀 ,  木内彻

IPC: B65H23/032 ,  B05C1/08 ,  B05C9/14 ,  H01L21/677

CPC classification number: B05B13/04 ,  B05B14/30 ,  B05C1/083

Abstract: 本发明是关于一种基板处理装置(FPA)，具有供应滚筒(5b)、腔室(CB)、以及回收滚筒(6b)。由树脂膜或不锈钢箔构成的挠性基板(S)，从供应滚筒(5b)被送出，通过腔室(CB)中而被回收滚筒(6b)卷取。在腔室(CB)中，以转印装置(11)对基板(S)涂布液。供应滚筒(5b)沿往与基板(S)的运送方向(Y)正交的方向(X)延伸的第一轨(3)移动，回收滚筒(6b)与供应滚筒(5b)同步地沿第二轨(4)移动。伴随这样的移动，基板(S)进出于腔室(CB)。在其他装置(FPA2)中，以电浆装置(12)处理基板(S)。

公开(公告)号：CN103153830A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201280003198.8

申请日：2012-02-20

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 浜田智秀 ,  木内彻

IPC: B65H23/032

CPC classification number: B65H18/103 ,  B65H2301/51 ,  B65H2402/32 ,  B65H2701/173

Abstract: 具有形成为带状、具有可挠性的基板(S)的搬送装置(1)，其具有：供应滚筒(5b)，送出基板(S)；回收滚筒(6b)，卷取基板(S)；以及驱动部(8)，将供应滚筒(5b)与回收滚筒(6b)驱动于相对从基板(S)的运送方向交叉的方向(X，Z)。供应滚筒(5b)被导引于第一轨(3)，回收滚筒(6b)被导引于第二轨(4)。轨驱动机构(7)变更两滚筒(5b，6b)间的间隔。配置于轨(3，4)间的处理部(PA)，对树脂或不锈钢制的基板(S)进行成膜、曝光、洗净等处理。处理部(PA)，沿轨(3，4)配置有多个。通过以多个处理部(PA)依序处理沿两滚筒(5b，6b)与轨(3，4)被运送的基板(S)，于基板(S)上形成有机EL元件。

公开(公告)号：CN102854755A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN201210274494.3

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B7/021 ,  G02B7/023 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置（EX），是经由投影光学系统（PL）和液体（LQ）将图形像投影在衬底（W）上的装置，投影光学系统（PL），具有与液体（LQ）接触的光学部件（G12）以及配置在光学部件（G12和中间掩模（R）之间的光学组（MPL）。保持光学部件（G12）和光学组（MPL）的保持机构（HG），以相对于光学组（MPL）可动的方式保持光学部件（G12）。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。