公开(公告)号：CN101470362B

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：CN200910009745.3

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN102835189A

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN201180018300.7

申请日：2011-04-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 浜田智秀 ,  奈良圭 ,  增川孝志 ,  木内彻

IPC: H05B33/10 ,  B65H23/038 ,  H01L51/50

CPC classification number: B65H23/32 ,  B65H2301/517

Abstract: 基板处理装置，具备：基板供应部，在使形成为带状的基板的短边方向竖立的状态下供应基板；基板处理部，具有搬送部及多个处理部，该搬送部，将从该基板供应部供应的基板在竖立状态下搬送，该多个处理部，是沿着该搬送部的基板的搬送路径配置，对竖立状态的基板的被处理面进行处理；以及基板回收部，将在该基板处理部进行处理后的基板在竖立状态下回收。

公开(公告)号：CN102598863A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080049274.X

申请日：2010-11-18

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 浜田智秀 ,  木内彻

IPC: H05B33/10 ,  B65H75/40 ,  H01L21/31 ,  H01L51/50

CPC classification number: B65H75/28 ,  B65H2701/124

Abstract: 引导部件具备与基板连接的连接部、和被用于至少上述基板与上述连接部之间的对位的位置基准部。

公开(公告)号：CN102549713A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201080042310.X

申请日：2010-09-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H05K13/00 ,  B41J15/04 ,  H01L21/67132 ,  Y10T29/49002 ,  Y10T29/51

Abstract: 为了提供一种能够防止异物附着到基板的基板盒、基板处理设备、基板处理系统、控制设备以及制造显示元件的方法，提供了一种基板盒。所述基板盒包括：盒主框架，其具有用于载入/载出基板的开口，并且容纳通过所述开口的基板；安装部件，其设置在盒主框架中，并且可拆卸地连接到外部连接部件；以及阻塞单元，其根据安装部件与外部连接部件之间的连接状态来阻塞所述开口。

公开(公告)号：CN101470362A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200910009745.3

申请日：2004-07-07

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 木内彻 ,  三宅寿弘

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置以及器件制造方法。曝光装置(EX)，是经由投影光学系统(PL)和液体(LQ)将图形像投影在衬底(W)上的装置，投影光学系统(PL)，具有与液体(LQ)接触的光学部件(G12)以及配置在光学部件(G12和中间掩模(R)之间的光学组(MPL)。保持光学部件(G12)和光学组(MPL)的保持机构(HG)，以相对于光学组(MPL)可动的方式保持光学部件(G12)。通过这样的构成，可以提供能够抑制在投影光学系统和衬底之间填满液体而进行曝光处理时的图形像的劣化的曝光装置。

公开(公告)号：CN107656427B

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201710905028.3

申请日：2013-03-13

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  木内彻

IPC: G03F7/24 ,  G03F9/00 ,  G03F1/42

Abstract: 本发明涉及图案形成装置。设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。

公开(公告)号：CN106597816B

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：CN201710064288.2

申请日：2013-03-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  木内彻

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明的基板处理装置具有：刻度部件，其具有刻设为环状的刻度部；处理机构，其在进入区域与脱离区域之间的圆周方向的特定位置上，在片状基板上形成图案；第1图案检测装置，其在第1检测区域内，检测沿长度方向离散或连续地形成在片状基板上的特定图案；第1读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第1检测区域相同的方位上，并读取刻度部；第2图案检测装置，其在第2检测区域内，检测片状基板的特定图案；和第2读取机构，其从中心线观察而与刻度部相对地配置在与第2检测区域相同的方位上，并读取刻度部。

公开(公告)号：CN106886133B

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201611044499.1

申请日：2013-03-13

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  木内彻

IPC: G03F7/24

CPC classification number: G03F7/24

Abstract: 本发明涉及图案形成装置及衬底支承装置。设有：基材，包括将被实施光学处理的具有透过性的挠性衬底在以规定的曲率弯曲的状态下或是平坦的状态下支承的面；和膜体，形成在该基材的表面上，且相对于在光学处理中所使用的光(曝光用的紫外线、对准用的可视光等)的反射率为50％以下。

公开(公告)号：CN105556391B

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201480049332.7

申请日：2014-06-25

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 铃木智也 ,  小宫山弘树 ,  加藤正纪 ,  渡边智行 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  木内彻

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: G03F7/709 ,  H01L51/0096

Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

公开(公告)号：CN107908083A

公开(公告)日：2018-04-13

申请号：CN201711078129.4

申请日：2014-03-24

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  铃木智也 ,  鬼头义昭 ,  堀正和 ,  林田洋祐 ,  木内彻

IPC: G03F7/24 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。