公开(公告)号：CN105938791B

公开(公告)日：2019-07-09

申请号：CN201610126029.3

申请日：2016-03-07

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 小林健司

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 基板处理方法包括：基板保持工序，水平地保持基板；液膜形成工序，向所述基板的上表面供给处理液，形成覆盖该基板的上表面的处理液液膜；第1气体喷出工序，在所述液膜形成工序后，从第1喷出口喷出第1气体，使所述第1气体从与该上表面交叉的方向向所述处理液液膜吹送，以形成从所述处理液液膜除去液膜的液膜除去区域，所述第1气体含有表面张力小于所述处理液的表面张力的低表面张力液体的蒸气；第2气体喷出工序，从与所述第1喷出口不同的环状的第2喷出口朝向横向且呈放射状地喷出第2气体，该第2气体含有表面张力比所述处理液的表面张力小的低表面张力液体的蒸气；以及液膜除去区域扩大工序，使所述液膜除去区域扩大。

公开(公告)号：CN105992997B

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201580008338.4

申请日：2015-01-20

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 古川至 ,  中井一博 ,  北村清志

IPC: G06F3/0481 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70525

Abstract: 提供能够在随着设计数据的更新而更新作业单时简单地选择期望的作业单来执行更新工作的图案描画装置用的GUI装置、图案描画系统、作业单更新方法以及程序。该图案描画装置用的GUI装置在更新作业单时使用，该作业单定义根据设计数据生成描画数据的一系列处理，GUI装置具有：显示部，具有画面；操作部，操作显示部的画面；显示控制部，控制显示部的画面显示；显示输入更新后的更新设计数据名称的输入部(82)，显示与输入的更新设计数据名称相关的作业单列表(83)，显示用于指示针对从作业单列表(83)中被强调显示的更新对象的作业单将设计数据置换为更新设计数据的更新按钮(91)。

公开(公告)号：CN105564050B

公开(公告)日：2019-05-14

申请号：CN201510729188.8

申请日：2015-10-30

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 吉田充宏 ,  神菊贵司

IPC: B41J15/00 ,  B41J2/01 ,  B41J29/393

Abstract: 本发明涉及一边搬运记录介质一边记录图像的图像记录装置，不必在搬运路径上的记录位置处配置检测部，就可以掌握记录位置处的记录介质的宽度方向的位置。在印刷用纸(9)的搬运路径上的记录位置的前后配置有边缘传感器(30)。各边缘传感器(30)在记录位置的上游侧以及下游侧分别检测记录介质的宽度方向的位置。另外，该图像记录装置的控制部(40)基于多个边缘传感器(30)的检测结果，计算记录位置处的印刷用纸(9)的宽度方向的位置。因此，不必在搬运路径上的记录位置处配置边缘传感器(30)，就能够掌握记录位置处的印刷用纸(9)的宽度方向的位置。

公开(公告)号：CN106555164B

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201610471340.1

申请日：2016-06-24

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 大泽笃史

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明提供一种能高精度且稳定地执行所期望的膜色的成膜处理的技术的成膜装置及数据制作方法。在成膜装置中，确定部基于从输入部输入的颜色信息，参照对应数据来确定成膜条件。另外，成膜条件中至少包含气体供应量作为膜色调整要素。已知一般来说，成膜处理时所供应的气体的种类或其供应量是主要的膜色调整要素。因此，本实施方式与根据成膜装置的操作者的直觉或经验来调整成膜条件的实施方式相比，能高精度且稳定地执行所期望的膜色的成膜处理。

公开(公告)号：CN106475277B

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201610621232.8

申请日：2016-08-01

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 山越润一

IPC: B05C9/14 ,  B05C13/00 ,  B05D3/02

Abstract: 根据本发明提供的涂敷装置和涂敷方法，在不改变搬运速度的情况下改变干燥时间来能够应对各种涂敷条件，以优异的运转率且以稳定的品质在基体材料上形成涂敷膜。本发明的涂覆装置包括：搬运部，其用于将长带状基体材料沿着该基体材料的长度方向搬运；涂敷部，其用于将涂敷膜涂敷于由搬运部搬运的基体材料；干燥部，其对由搬运部从涂敷部搬运而至的基体材料进行加热并使涂敷膜干燥；路径长度变更部，其用于改变基体材料在干燥部内的搬运路径的长度。

公开(公告)号：CN106206367B

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201610364710.1

申请日：2016-05-27

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 岩尾通矩 ,  村元僚

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种对基板进行处理的基板处理装置，其目的在于，在具有多个挡板的杯部中，抑制挡板间的气体的流动。在基板处理装置中，多个卡紧件以及多个卡合部配置在比基座支撑部向径向外方扩展的保持基座部的上表面上，多个卡合部位于多个卡紧件的径向外侧。大致圆环状的下部突出部在保持基座部的下方从基座支撑部向径向外方扩展。在杯部中，挡板移动机构使第一挡板在受液位置和待避位置之间在上下方向上移动，使接受来自基板的处理液的挡板在第一挡板和第二挡板之间切换。下部突出部在第一挡板位于待避位置的状态下，面对第一挡板顶盖部的内周缘。由此，能够抑制第一挡板和第二挡板之间的气体的流动。

公开(公告)号：CN106206366B

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201610348854.8

申请日：2016-05-24

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 布施和彦 ,  伊藤祯朗

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种热处理装置，能够通过简单的结构使光照射时的基板面内的温度分布均匀。在基座(74)的上表面竖立设置有用于对半导体晶片(W)进行支撑的支撑销(75)。隔着基座(74)在基座(74)的与支撑销(75)相反一侧的下表面设置有聚光透镜(73)。聚光透镜(73)设置为光轴与支撑销(75)的中心轴相一致。从下方的卤素灯出射的光中的向聚光透镜(73)入射的光被会聚到支撑销(75)和半导体晶片(W)的接触部位，使该接触部位附近升温。通过对容易产生温度下降的半导体晶片(W)的与支撑销(75)的接触部位附近相对强地进行加热来抑制温度下降，从而能够使光照射时的半导体晶片(W)的面内温度分布均匀。

公开(公告)号：CN109037111A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201810886178.9

申请日：2016-02-19

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  波多野章人 ,  小林健司 ,  西村优大 ,  岛井基行 ,  林豊秀

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。返回流路与上游流路连接。下游加热器对在上游流路内流动的液体进行加热。下游切换单元能够将从供给流路供给到多个上游流路的液体有选择地供给到多个喷出口以及返回流路中的一方。

公开(公告)号：CN106062606B

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：CN201580011597.2

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 末木博 ,  小林正嘉 ,  藤本博己

IPC: G02B7/28 ,  G02B7/36 ,  G02B21/36

Abstract: 具有：保持单元(11)，保持载体(WP)，载体(WP)承载细胞；拍摄单元(13)，具有以光轴(OA)指向载体(WP)的方式配置的拍摄光学系统(130)，接受入射至该拍摄光学系统的光来在明亮视野下拍摄细胞；位置变更单元(146)，使拍摄光学系统(130)的焦点位置在沿着光轴(OA)的方向上变更；控制单元(141)，通过位置变更单元分多个阶段地变更设定焦点位置的设定位置，使拍摄单元(13)在各设定位置进行拍摄来取得多幅原始图像；以及图像处理单元(141)，计算在各设定位置拍摄到的原始图像各自的对比度值，确定对比度值关于设定位置的曲线上的隔着对比度值的最小值的两个设定位置，创建在该设定位置分别拍摄到的两幅原始图像的差分图像。

公开(公告)号：CN105378909B

公开(公告)日：2018-10-12

申请号：CN201480034840.8

申请日：2014-03-31

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 加藤洋

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/027

Abstract: 基板处理装置(1)具有旋转台(7)、旋转驱动机构(3)、设置在旋转台(7)上的保持销(10)、用于覆盖基板(W)的下表面的保护盘(15)、使保护盘(15)从旋转台(7)浮起的磁浮起机构(41)。保护盘(15)能够在下位置与接近位置之间上下移动，该接近位置指，在下位置的上方，与基板的下表面接近的位置。磁浮起机构(41)具有保护盘侧永久磁铁(60)、被挡板(4)保持的环状的挡板侧永久磁铁(25)。在通过挡板驱动机构(5)使挡板(4)上升时，能够借助永久磁铁之间的磁排斥力使保护盘(15)从旋转台(7)浮起并保持在接近位置。