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公开(公告)号：CN106933066A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201611264164.0
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN104871091B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201380066736.2
申请日：2013-11-29
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光(EL2b)再成像并在基板(P)上形成投影像。
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公开(公告)号：CN106687867A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201580047663.1
申请日：2015-09-03
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F9/00 , B65G49/06 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
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公开(公告)号：CN105556391A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105359040A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201480037519.5
申请日：2014-03-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。
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公开(公告)号：CN101384968B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200780005789.8
申请日：2007-03-16
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
CPC classification number: G02B17/004 , G02B17/08 , G02B27/0043 , G03F7/70216 , G03F7/70275 , G03F7/70791
Abstract: 一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×|β|(其中，|β|＞1)。
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公开(公告)号：CN100549835C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200680001103.3
申请日：2006-01-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。
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公开(公告)号：CN101375372A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：CN200780003500.9
申请日：2007-02-08
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: H01L21/027 , G03F1/08 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70216 , G03F7/70275
Abstract: 本发明是分别经由具有放大倍率的多个投影光学系统，将光罩(M)的图案(M1、M2)投影曝光于基板上的曝光方法，此曝光方法是将具有以对应于上述放大倍率的位置关系而非连续地配置的第1图案区域(M1)、以及至少一部分设于第1图案区域(M1)之间的第2图案区域(M2)的光罩(M)，配置于投影光学系统的物体面侧，使第1图案区域(M1)与第2图案区域(M2)中的其中一个图案区域的放大像分别投影曝光至配置于投影光学系统的像面侧的基板上之后，将另一个图案区域的放大像投影曝光于该基板上。
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公开(公告)号：CN119768743A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202280099382.0
申请日：2022-07-25
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的曝光装置使来自空间光调变组件的所选择的开状态的微镜的反射光入射至投影单元，将与描绘数据相对应的图案投影曝光至基板，且具备照明单元，上述照明单元将上述投影单元的色像差特性上所容许的波长λ1的第一照明光与波长λ2(λ2≠λ1)的第二照明光以与上述开状态的微镜的倾斜角的倍角相对应的入射角照射至上述空间光调变组件，于将于上述波长λ1下由上述开状态的微镜产生并入射至上述投影单元的次数j1的主绕射光的绕射角设为θj1，将于上述波长λ2下由上述开状态的微镜产生并入射至上述投影单元的次数j2的主绕射光的绕射角设为θj2时，以上述绕射角θj1与上述绕射角θj2隔着上述投影单元的光轴而分布的方式，设定上述波长λ1与上述波长λ2的差、或上述入射角。
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